JP2820539B2 - 塗装装置 - Google Patents
塗装装置Info
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- JP2820539B2 JP2820539B2 JP40528690A JP40528690A JP2820539B2 JP 2820539 B2 JP2820539 B2 JP 2820539B2 JP 40528690 A JP40528690 A JP 40528690A JP 40528690 A JP40528690 A JP 40528690A JP 2820539 B2 JP2820539 B2 JP 2820539B2
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- coating
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、チャンバー内で回転中
のワークに塗料を噴霧して塗布する塗装装置に関する。
特に、塗布状態の自動確認ができるように構成したもの
である。
のワークに塗料を噴霧して塗布する塗装装置に関する。
特に、塗布状態の自動確認ができるように構成したもの
である。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ある種スピンドル，クランクシ
ャフト等のような全体として細長く形状複雑なワークの
特定部位や全体に比較的薄い塗膜を形成する場合には、
ワークを回転させつつ塗料を径方向から噴霧して塗布す
ることが能率的である。ワーク形状が円柱，円筒，球体
等についても同様である。
ャフト等のような全体として細長く形状複雑なワークの
特定部位や全体に比較的薄い塗膜を形成する場合には、
ワークを回転させつつ塗料を径方向から噴霧して塗布す
ることが能率的である。ワーク形状が円柱，円筒，球体
等についても同様である。
【０００３】かかる塗装装置は、図５に示される構造と
されているのが一般的である。同図において、チャンバ
ー１内には、ワークＷを回転保持するワーク回転機構２
（モータ２Ａ）とスプレーガン３が配設され、塗料噴霧
領域Ｚの一方側には水流板４が形成されている。ワーク
Ｗは、チェーンコンベア等の搬送機構５で紙面垂直方向
手前から送られかつワーク回転機構２に保持されつつモ
ータ２Ａで回転される。塗布後に紙面垂直方向奥行へ搬
送されてチャンバー１に連結された密閉状オーブンに移
行される。チャンバー１内の雰囲気は、下方の水洗浄化
ユニット６，エリミネータ７，ダクト８を通し排風機９
で適所に排出される。
されているのが一般的である。同図において、チャンバ
ー１内には、ワークＷを回転保持するワーク回転機構２
（モータ２Ａ）とスプレーガン３が配設され、塗料噴霧
領域Ｚの一方側には水流板４が形成されている。ワーク
Ｗは、チェーンコンベア等の搬送機構５で紙面垂直方向
手前から送られかつワーク回転機構２に保持されつつモ
ータ２Ａで回転される。塗布後に紙面垂直方向奥行へ搬
送されてチャンバー１に連結された密閉状オーブンに移
行される。チャンバー１内の雰囲気は、下方の水洗浄化
ユニット６，エリミネータ７，ダクト８を通し排風機９
で適所に排出される。
【０００４】したがって、搬送機構５によって順次ワー
クＷをチャンバー１，オーブンに搬送するれば、オーブ
ンを出たときに所定部位または全部が塗装されたワーク
Ｗつまり製品を連続的に生産することができる。ところ
で、チャンバー１は、塗料飛散防止等のための開口部が
非常に小さく形成され、しかも、人の覗込む位置はワー
クＷとは遠いところにありかつ内部が暗いから、塗布状
態や乾燥焼付状態を外部から目視確認することはほとん
ど不可能である。そこで、生産当初は見本ワークＷを使
って回転速度，噴霧状態，焼付温度等々の妥当性を調整
確認する等の慎重配慮がはらわれている。
クＷをチャンバー１，オーブンに搬送するれば、オーブ
ンを出たときに所定部位または全部が塗装されたワーク
Ｗつまり製品を連続的に生産することができる。ところ
で、チャンバー１は、塗料飛散防止等のための開口部が
非常に小さく形成され、しかも、人の覗込む位置はワー
クＷとは遠いところにありかつ内部が暗いから、塗布状
態や乾燥焼付状態を外部から目視確認することはほとん
ど不可能である。そこで、生産当初は見本ワークＷを使
って回転速度，噴霧状態，焼付温度等々の妥当性を調整
確認する等の慎重配慮がはらわれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ワーク
Ｗは間歇送りされて来るものでありスプレーガン３が連
続塗料噴霧しているわけでない。生産計画上短・中期的
に停止されることもある。したがって、ノズルの先端に
塗料が固まってしまい塗布不良や未塗布が発生する場合
がある。時々に発生するものではあるが、オーブンから
取出された場合に初めて不良を認知できる従来構造では
不利が大き過ぎる。しかも、多様化に伴って塗料性状
（例えば粘度）を種々なるものに切替える現今では、こ
の問題が益々生じ易くなっている。焼付後の塗膜剥離は
非常に困難で手間もかかるから、結果として高価材質，
高加工コストの例えば２００本以上の材料を破棄しなけ
ればならない事態を招来するからである。また、塗料，
熱エネルギー，時間を労費する。そして、この問題は、
装置の一段の小型化と高速連続処理が求められる現今要
請を満たすためには是非解決しなければならない技術的
課題となっている。ここに、本発明の目的は、チャンバ
ー内での塗布工程の直後にその塗布状態の良否を迅速に
かつ自動的に確認できる塗装装置を提供することにあ
る。
Ｗは間歇送りされて来るものでありスプレーガン３が連
続塗料噴霧しているわけでない。生産計画上短・中期的
に停止されることもある。したがって、ノズルの先端に
塗料が固まってしまい塗布不良や未塗布が発生する場合
がある。時々に発生するものではあるが、オーブンから
取出された場合に初めて不良を認知できる従来構造では
不利が大き過ぎる。しかも、多様化に伴って塗料性状
（例えば粘度）を種々なるものに切替える現今では、こ
の問題が益々生じ易くなっている。焼付後の塗膜剥離は
非常に困難で手間もかかるから、結果として高価材質，
高加工コストの例えば２００本以上の材料を破棄しなけ
ればならない事態を招来するからである。また、塗料，
熱エネルギー，時間を労費する。そして、この問題は、
装置の一段の小型化と高速連続処理が求められる現今要
請を満たすためには是非解決しなければならない技術的
課題となっている。ここに、本発明の目的は、チャンバ
ー内での塗布工程の直後にその塗布状態の良否を迅速に
かつ自動的に確認できる塗装装置を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、チャンバー内
で回転支持されたワークにその径方向から塗料を噴霧し
て塗装処理する塗装装置において、前記ワークの径方向
から光ビームを照射するとともにその反射光からワーク
表面の塗布状態を検出するマークセンサーと、このマー
クセンサーを前記チャンバー内でワークに離隔接近可能
かつ離隔状態においてマークセンサーを塗料噴霧領域外
に待機可能に形成された移動機構と、塗料噴霧停止期間
中にマークセンサーをワークに接近させかつ塗布状態検
出後にワークから離隔するように移動機構を駆動制御す
る駆動制御手段とからなる塗布状態自動確認ユニットを
設けたことを特徴とする。
で回転支持されたワークにその径方向から塗料を噴霧し
て塗装処理する塗装装置において、前記ワークの径方向
から光ビームを照射するとともにその反射光からワーク
表面の塗布状態を検出するマークセンサーと、このマー
クセンサーを前記チャンバー内でワークに離隔接近可能
かつ離隔状態においてマークセンサーを塗料噴霧領域外
に待機可能に形成された移動機構と、塗料噴霧停止期間
中にマークセンサーをワークに接近させかつ塗布状態検
出後にワークから離隔するように移動機構を駆動制御す
る駆動制御手段とからなる塗布状態自動確認ユニットを
設けたことを特徴とする。
【０００７】
【作用】駆動制御手段は、塗布工程終了により塗料噴霧
が停止されると、移動機構を駆動制御してマークセンサ
ーを当該ワークに接近させる。すると、マークセンサー
がワーク表面の塗布状態を自動検出する。よって、その
検出信号で表示・警報等を行えばオペレータは遠隔場所
で塗布良否を知ることができるから、高品質製品を能率
よく生産できる。一方、不良と検出した場合にも迅速な
対処策を施せる。自動確認後に、駆動制御手段は移動機
構を逆動作させマークセンサー等を塗料噴霧領域外に待
機させる。よって、長期間に亘って正確かつ安定に働
く。
が停止されると、移動機構を駆動制御してマークセンサ
ーを当該ワークに接近させる。すると、マークセンサー
がワーク表面の塗布状態を自動検出する。よって、その
検出信号で表示・警報等を行えばオペレータは遠隔場所
で塗布良否を知ることができるから、高品質製品を能率
よく生産できる。一方、不良と検出した場合にも迅速な
対処策を施せる。自動確認後に、駆動制御手段は移動機
構を逆動作させマークセンサー等を塗料噴霧領域外に待
機させる。よって、長期間に亘って正確かつ安定に働
く。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。図１は本発明の要旨を簡潔に現した模式図、図
２は平面図、図３は側面図である。本塗装装置は、基本
的構造を図５に示した従来例と同じ構造とされ、マーク
センサー１０と移動機構２０と駆動制御手段３０とから
なる塗布状態自動確認ユニットを備え、チャンバー１内
でのワークＷの塗布状態を自動確認できるものと構成さ
れている。
明する。図１は本発明の要旨を簡潔に現した模式図、図
２は平面図、図３は側面図である。本塗装装置は、基本
的構造を図５に示した従来例と同じ構造とされ、マーク
センサー１０と移動機構２０と駆動制御手段３０とから
なる塗布状態自動確認ユニットを備え、チャンバー１内
でのワークＷの塗布状態を自動確認できるものと構成さ
れている。
【０００９】まず、マークセンサー１０は、ワークＷの
ある大きさの表面の塗布状態を検出するもので、この実
施例では図１に示す如く光ビームＩを照射しワーク表面
からの反射光Ｏを受けて塗布状態を自動検出する２つの
検出素子１１Ａ，１１Ｂをケース１２に取付けた防爆構
造である。２つの検出素子１１Ａ，１１Ｂを設けた理由
は、円柱形ワークＷの上端部と下端部との塗布状態を知
ることによりワーク全周面の塗布状態の良否を擬制検出
することにある。したがって、１以上の検出素子１１Ｎ
をケース１２内で例えばネジ・ナット構造により上下方
向に移動可能としたり、複数の検出素子を上下方向に列
配しても、さらにはワークＷの特定部位のみに塗装する
場合には１ケの検出素子を対応する位置として設ける
等、ワークＷの形態と塗布態様に応じて適宜に選択して
実施することができる。
ある大きさの表面の塗布状態を検出するもので、この実
施例では図１に示す如く光ビームＩを照射しワーク表面
からの反射光Ｏを受けて塗布状態を自動検出する２つの
検出素子１１Ａ，１１Ｂをケース１２に取付けた防爆構
造である。２つの検出素子１１Ａ，１１Ｂを設けた理由
は、円柱形ワークＷの上端部と下端部との塗布状態を知
ることによりワーク全周面の塗布状態の良否を擬制検出
することにある。したがって、１以上の検出素子１１Ｎ
をケース１２内で例えばネジ・ナット構造により上下方
向に移動可能としたり、複数の検出素子を上下方向に列
配しても、さらにはワークＷの特定部位のみに塗装する
場合には１ケの検出素子を対応する位置として設ける
等、ワークＷの形態と塗布態様に応じて適宜に選択して
実施することができる。
【００１０】また、移動機構２０は、マークセンサー１
０をチャンバー１内でワークＷに離隔接近する手段で、
図１〜図３に示すように先端部２１Ａにマークセンサー
１０が固着され後端部が支軸２２に回転支持されたリン
クバー２１と、ピストンロッド２６がブラケット２１
Ｂ，ピン２３を介してリンクバー２１の中間に回転支持
されるとともにシリンダ２４の後端部がピン２５で回転
支持されたシリンダ装置（２４，２６）とからなる。ピ
ストンロッド２６は、アクチュエータ２７からシリンダ
２４内に所定空気圧を供給・排出することにより、図２
に実線で示す如くシリンダ２４内に没入し、２点鎖線で
示すように突出する。そして、ピストンロッド２６を突
出した状態では、マークセンサー１０を回転機構２に回
転支持されたワークＷの表面から所定距離だけ隙間をあ
けて接近することができる。一方、ピストンロッド２６
を没入させた場合には、マークセンサー１０をスプレー
ガン３による塗料噴霧領域Ｚ外に待機させることができ
る。塗料付着防止のためである。
０をチャンバー１内でワークＷに離隔接近する手段で、
図１〜図３に示すように先端部２１Ａにマークセンサー
１０が固着され後端部が支軸２２に回転支持されたリン
クバー２１と、ピストンロッド２６がブラケット２１
Ｂ，ピン２３を介してリンクバー２１の中間に回転支持
されるとともにシリンダ２４の後端部がピン２５で回転
支持されたシリンダ装置（２４，２６）とからなる。ピ
ストンロッド２６は、アクチュエータ２７からシリンダ
２４内に所定空気圧を供給・排出することにより、図２
に実線で示す如くシリンダ２４内に没入し、２点鎖線で
示すように突出する。そして、ピストンロッド２６を突
出した状態では、マークセンサー１０を回転機構２に回
転支持されたワークＷの表面から所定距離だけ隙間をあ
けて接近することができる。一方、ピストンロッド２６
を没入させた場合には、マークセンサー１０をスプレー
ガン３による塗料噴霧領域Ｚ外に待機させることができ
る。塗料付着防止のためである。
【００１１】次に、駆動制御手段３０は、マークセンサ
ー１０を塗料噴霧停止期間中にワークＷに接近させ、か
つ塗布状態検出後にワークＷから離隔させるように移動
機構２０を駆動制御するものである。この実施例では、
スプレーガン３の制御ユニット３Ａ（図１），搬送機構
５，回転機構２（モータ２Ａ）等々装置全体の制御盤
（例えばＣＰＵ，ＲＯＭ，ＲＡＭ等から形成される。）
を兼用して構成している。この駆動制御手段３０の機能
は、図１，図４に示す如く、塗布工程が終了〔ステップ
（ＳＴ１０）〕すると図１の信号Ｓを出力し、移動機構
２０を前進させてマークセンサー１０をワークＷに接近
させ（ＳＴ１１，１２）る。また、塗布状態確認が終了
する（ＳＴ１３，１４）と移動機構２０を後退させて、
マークセンサー１０をワークＷから離隔して塗料噴霧領
域Ｚ外に待機させる（ＳＴ１５，１６）ものである。
ー１０を塗料噴霧停止期間中にワークＷに接近させ、か
つ塗布状態検出後にワークＷから離隔させるように移動
機構２０を駆動制御するものである。この実施例では、
スプレーガン３の制御ユニット３Ａ（図１），搬送機構
５，回転機構２（モータ２Ａ）等々装置全体の制御盤
（例えばＣＰＵ，ＲＯＭ，ＲＡＭ等から形成される。）
を兼用して構成している。この駆動制御手段３０の機能
は、図１，図４に示す如く、塗布工程が終了〔ステップ
（ＳＴ１０）〕すると図１の信号Ｓを出力し、移動機構
２０を前進させてマークセンサー１０をワークＷに接近
させ（ＳＴ１１，１２）る。また、塗布状態確認が終了
する（ＳＴ１３，１４）と移動機構２０を後退させて、
マークセンサー１０をワークＷから離隔して塗料噴霧領
域Ｚ外に待機させる（ＳＴ１５，１６）ものである。
【００１２】また、制御盤（３０）は、搬送機構５の起
動・停止，ワークＷの回転機構２への着脱等とタイミン
グをとり、適時に図１の信号Ｎで制御ユニット３Ａを停
止し、所定時間経過後に再び制御ユニット３Ａを起動す
る他、マークセンサー１０からの検出信号Ｄを読取って
塗布状態を判別する（ＳＴ１３，１４）、とともに塗布
状態良好の場合にはその旨を表示し、不良の場合にはそ
の旨を警報しかつライン停止をするものと構成されてい
る。
動・停止，ワークＷの回転機構２への着脱等とタイミン
グをとり、適時に図１の信号Ｎで制御ユニット３Ａを停
止し、所定時間経過後に再び制御ユニット３Ａを起動す
る他、マークセンサー１０からの検出信号Ｄを読取って
塗布状態を判別する（ＳＴ１３，１４）、とともに塗布
状態良好の場合にはその旨を表示し、不良の場合にはそ
の旨を警報しかつライン停止をするものと構成されてい
る。
【００１３】なお、この実施例では、制御ユニット３Ａ
の再起動はマークセンサー１０が待機状態となったこと
を条件とし、また、塗布状態検出はワークＷを回転させ
たまま行い、その確認後に回転機構２（モータ２Ａ）を
停止してワークＷを回転機構２から取外し、しかる後に
搬送機構５へ引渡すものとされている。さらに、この実
施例では、各ワークＷごとに塗布状態を自動確認するも
のと形成されているが、サンプリングしたワークＷのみ
について自動確認するように形成し実施することも容易
である。
の再起動はマークセンサー１０が待機状態となったこと
を条件とし、また、塗布状態検出はワークＷを回転させ
たまま行い、その確認後に回転機構２（モータ２Ａ）を
停止してワークＷを回転機構２から取外し、しかる後に
搬送機構５へ引渡すものとされている。さらに、この実
施例では、各ワークＷごとに塗布状態を自動確認するも
のと形成されているが、サンプリングしたワークＷのみ
について自動確認するように形成し実施することも容易
である。
【００１４】しかして、この実施例によれば、マークセ
ンサー１０と移動機構２０と駆動制御手段３０とからな
る塗布状態自動確認ユニットを設け、チャンバー１内で
の塗布状態を塗布工程終了後に直ちに自動確認すること
ができる構成であるから、高品質塗装を高能率に行えか
つ塗布不良の場合にはスプレーガン３等の調整復旧を迅
速に行える。
ンサー１０と移動機構２０と駆動制御手段３０とからな
る塗布状態自動確認ユニットを設け、チャンバー１内で
の塗布状態を塗布工程終了後に直ちに自動確認すること
ができる構成であるから、高品質塗装を高能率に行えか
つ塗布不良の場合にはスプレーガン３等の調整復旧を迅
速に行える。
【００１５】また、ワークＷごとに塗布状態確認を行う
構成とされているので、高価材質，高加工コストの大量
ワークＷを破棄や、塗料，熱エネルギー，時間の損失を
未然防止できる。
構成とされているので、高価材質，高加工コストの大量
ワークＷを破棄や、塗料，熱エネルギー，時間の損失を
未然防止できる。
【００１６】また、移動機構２０はリンクバー２１，シ
リンダ装置（２４，２６）等からなる簡単な構成である
から、チャンバー１内にコンパクトに収納でき、移動速
度が速くワークＷの着脱・搬送を含む塗布工程にいささ
かの時間遅れを与えない。しかも、マークセンサー１０
を塗料噴霧領域Ｚ外に待機させるのでいつでもクリーン
に保ちマークセンサー１０の安定動作を保障できる。
リンダ装置（２４，２６）等からなる簡単な構成である
から、チャンバー１内にコンパクトに収納でき、移動速
度が速くワークＷの着脱・搬送を含む塗布工程にいささ
かの時間遅れを与えない。しかも、マークセンサー１０
を塗料噴霧領域Ｚ外に待機させるのでいつでもクリーン
に保ちマークセンサー１０の安定動作を保障できる。
【００１７】さらに、駆動制御手段３０は装置全体のＣ
ＰＵ，ＲＯＭ等からなる制御盤を兼用した構成とされて
いるので、信頼性が高く高速処理できる。
ＰＵ，ＲＯＭ等からなる制御盤を兼用した構成とされて
いるので、信頼性が高く高速処理できる。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、マークセンサー，この
マークセンサーの移動機構およびマークセンサーをワー
クに離隔接近させる駆動制御手段から構成された塗布状
態自動確認ユニットを備え、チャンバー内での塗布状態
の良否を自動検出する構成とされているので、高品質製
品を高能率に生産できる、とともに塗布不良が生じた場
合には迅速に対処できるから大量の不良製品を発生させ
ることがない。
マークセンサーの移動機構およびマークセンサーをワー
クに離隔接近させる駆動制御手段から構成された塗布状
態自動確認ユニットを備え、チャンバー内での塗布状態
の良否を自動検出する構成とされているので、高品質製
品を高能率に生産できる、とともに塗布不良が生じた場
合には迅速に対処できるから大量の不良製品を発生させ
ることがない。
【図１】本発明の要旨を簡潔に現した模式図である。
【図２】平面図である。
【図３】側面図である。
【図４】動作を説明するためのフローチャートである。
【図５】塗装装置の全体構成を説明するための図であ
る。
る。
１ チャンバー ２ 回転機構 ３ スプレーガン ３Ａ 制御ユニット ４ 水流板 ５ 搬送機構 １０ マークセンサー １１Ａ，１１Ｂ 検出素子 １２ ケース ２０ 移動機構 ２１ リンクバー ２２ 支軸 ２４ シリンダ ２６ ピストンロッド ３０ 駆動制御手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭48−18371（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−49042（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−129646（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−157378（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−54462（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭48−24014（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B05B 12/08 - 12/12 B05C 21/00
Claims (1)
- 【請求項１】 チャンバー内で回転支持されたワークに
その径方向から塗料を噴霧して塗装処理する塗装装置に
おいて、前記ワークの径方向から光ビームを照射すると
ともにその反射光からワーク表面の塗布状態を検出する
マークセンサーと、このマークセンサーを前記チャンバ
ー内でワークに離隔接近可能かつ離隔状態においてマー
クセンサーを塗料噴霧領域外に待機可能に形成された移
動機構と、塗料噴霧停止期間中にマークセンサーをワー
クに接近させかつ塗布状態検出後にワークから離隔する
ように移動機構を駆動制御する駆動制御手段とからなる
塗布状態自動確認ユニットを設けたことを特徴とする塗
装装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40528690A JP2820539B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 塗装装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40528690A JP2820539B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 塗装装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04222655A JPH04222655A (ja) | 1992-08-12 |
| JP2820539B2 true JP2820539B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=18514905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40528690A Expired - Lifetime JP2820539B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 塗装装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2820539B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1536036B1 (en) | 2003-11-14 | 2007-06-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Thin film forming apparatus |
-
1990
- 1990-12-21 JP JP40528690A patent/JP2820539B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04222655A (ja) | 1992-08-12 |
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