JP2819180B2 - すず―鉛―ビスマス合金めっき浴 - Google Patents
すず―鉛―ビスマス合金めっき浴Info
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- JP2819180B2 JP2819180B2 JP2039793A JP3979390A JP2819180B2 JP 2819180 B2 JP2819180 B2 JP 2819180B2 JP 2039793 A JP2039793 A JP 2039793A JP 3979390 A JP3979390 A JP 3979390A JP 2819180 B2 JP2819180 B2 JP 2819180B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、アルカンスルホン酸及び／又はアルカノー
ルスルホン酸のすず塩、鉛塩及びビスマス塩を含有する
浴にある種の錯化剤を添加したことを特徴とするすず−
鉛−ビスマス合金電気めっき浴に関する。
ルスルホン酸のすず塩、鉛塩及びビスマス塩を含有する
浴にある種の錯化剤を添加したことを特徴とするすず−
鉛−ビスマス合金電気めっき浴に関する。
［従来技術とその問題点］ 近年、すずめっきやはんだめっきは、はんだ付け性向
上用皮膜及びエッチングレジスト用皮膜として弱電工業
並びに電子工業用部品等に広く利用されてきたが、未だ
改良すべき点が多い。特に半導体、ハイブリッドICの高
集積化が進んだ結果、多ピンICが登場したこと、さらに
各部品にチップ化が増大したことにより、表面実装技術
が著しく発展しつつある。これらの実装技術に対応して
はんだ接合材の面からはSn−Pb−Bi系低融点クリームは
んだが適用せられている。
上用皮膜及びエッチングレジスト用皮膜として弱電工業
並びに電子工業用部品等に広く利用されてきたが、未だ
改良すべき点が多い。特に半導体、ハイブリッドICの高
集積化が進んだ結果、多ピンICが登場したこと、さらに
各部品にチップ化が増大したことにより、表面実装技術
が著しく発展しつつある。これらの実装技術に対応して
はんだ接合材の面からはSn−Pb−Bi系低融点クリームは
んだが適用せられている。
この様に接合材については解決しても、部品にめっき
されている皮膜組成は現状ではSn−Pb共晶はんだが主で
あり、せっかく接合材の溶融温度を低下させても皮膜側
の溶融温度が高いために接合時の信頼性が乏しくなり、
高品質高機能の要求には充分答えられない欠点がある。
されている皮膜組成は現状ではSn−Pb共晶はんだが主で
あり、せっかく接合材の溶融温度を低下させても皮膜側
の溶融温度が高いために接合時の信頼性が乏しくなり、
高品質高機能の要求には充分答えられない欠点がある。
すず−鉛合金めっき液に可溶性のビスマス化合物を極
少量添加し、電気めっきの低電流密度範囲の外観を改良
した特許（特開昭62−196391号）が開示されているが、
この浴は外観を改善するのが目的で、量的にも低融点合
金皮膜にはなり得ない。添加量を増加しても本願のよう
な錯化剤を含まないため、浴の経時安定性が極めて悪
く、更に得られた合金皮膜組成が浴組成と離れるため組
成管理が非常に難しい欠点がある。
少量添加し、電気めっきの低電流密度範囲の外観を改良
した特許（特開昭62−196391号）が開示されているが、
この浴は外観を改善するのが目的で、量的にも低融点合
金皮膜にはなり得ない。添加量を増加しても本願のよう
な錯化剤を含まないため、浴の経時安定性が極めて悪
く、更に得られた合金皮膜組成が浴組成と離れるため組
成管理が非常に難しい欠点がある。
また、ビスマス合金めっき浴の特許（特開昭63−1488
7号）が開示されているが、これも同様に本願の錯化剤
を含まないため組成管理が非常に難しい。
7号）が開示されているが、これも同様に本願の錯化剤
を含まないため組成管理が非常に難しい。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明は上述の問題点に鑑み発明されたもので、pH1
〜５の範囲で長期の経時においてもめっき浴が安定であ
るとともに広い電流密度範囲で外観が良好で、しかも浴
組成に近いすず−鉛−ビスマス合金皮膜が得られるすず
−鉛−ビスマス合金めっき浴を提供することを目的とす
る。得られた三元合金皮膜の融点は従来のすず−鉛共晶
皮膜のそれに比べて低くなり、上述した低融点皮膜とし
て充分対応できるものである。
〜５の範囲で長期の経時においてもめっき浴が安定であ
るとともに広い電流密度範囲で外観が良好で、しかも浴
組成に近いすず−鉛−ビスマス合金皮膜が得られるすず
−鉛−ビスマス合金めっき浴を提供することを目的とす
る。得られた三元合金皮膜の融点は従来のすず−鉛共晶
皮膜のそれに比べて低くなり、上述した低融点皮膜とし
て充分対応できるものである。
［課題を解決するための手段］ したがって、本発明に従えばアルカンスルホン酸及び
／又はアルカノールスルホン酸のすず塩、鉛塩及びビス
マス塩を含有する主めっき浴に一般式（ａ）及び（ｂ） ［ここで、Ｒ′：直鎖又は分岐アルキレン
（Ｃ１〜４）、 X:H、アルキル（Ｃ１〜３）、 好ましくはＸの少なくとも１個は M:、アルカリ金属、 n:1〜４］ ［ここで、Ｒ″：直鎖又は分岐アルキレン
（Ｃ１〜４）、 X:H、アルキル（Ｃ１〜３）、 好ましくはＸの少なくとも１個は R:H、アルキル（Ｃ１〜３）、 M:H、アルカリ金属、 m:1〜３］ で表される少なくとも１種の錯化剤及びグルコン酸を添
加し、さらに界面活性剤及び／又は光沢剤の１種以上を
添加してなることを特徴とするすず−鉛−ビスマス合金
電気めっき浴が提供される。
／又はアルカノールスルホン酸のすず塩、鉛塩及びビス
マス塩を含有する主めっき浴に一般式（ａ）及び（ｂ） ［ここで、Ｒ′：直鎖又は分岐アルキレン
（Ｃ１〜４）、 X:H、アルキル（Ｃ１〜３）、 好ましくはＸの少なくとも１個は M:、アルカリ金属、 n:1〜４］ ［ここで、Ｒ″：直鎖又は分岐アルキレン
（Ｃ１〜４）、 X:H、アルキル（Ｃ１〜３）、 好ましくはＸの少なくとも１個は R:H、アルキル（Ｃ１〜３）、 M:H、アルカリ金属、 m:1〜３］ で表される少なくとも１種の錯化剤及びグルコン酸を添
加し、さらに界面活性剤及び／又は光沢剤の１種以上を
添加してなることを特徴とするすず−鉛−ビスマス合金
電気めっき浴が提供される。
本発明に従うすず−鉛−ビスマス合金めっき浴におい
て、すず塩、鉛塩及びビスマス塩を構成する有機スルホ
ン酸としては、特に下記の一般式（ｃ）で表されるもの
があげられる。
て、すず塩、鉛塩及びビスマス塩を構成する有機スルホ
ン酸としては、特に下記の一般式（ｃ）で表されるもの
があげられる。
（ｃ） （R1）ｎ−Ｒ−SO3H ［ここで、ＲはＣ１〜５のアルキル基を表し、R1は水酸
基、アリール基、アルキルアリール基、カルボキシル基
又はスルホン酸基を表し、そしてアルキル基の任意の位
置にあってよく、ｎは０〜３の整数を表す］ で示される有機スルホン酸。
基、アリール基、アルキルアリール基、カルボキシル基
又はスルホン酸基を表し、そしてアルキル基の任意の位
置にあってよく、ｎは０〜３の整数を表す］ で示される有機スルホン酸。
本発明のすず−鉛−ビスマス合金めっき浴に用いられ
る上記（ｃ）の有機スルホン酸の中でも特に重要なもの
は、２−ヒドロキシエタンスルホン酸、２−ヒドロキシ
プロパンスルホン酸、メタンスルホン酸、２−カルボキ
シエタンスルホン酸、スルホコハク酸である。
る上記（ｃ）の有機スルホン酸の中でも特に重要なもの
は、２−ヒドロキシエタンスルホン酸、２−ヒドロキシ
プロパンスルホン酸、メタンスルホン酸、２−カルボキ
シエタンスルホン酸、スルホコハク酸である。
有機スルホン酸の金属塩の総濃度は金属に換算して５
〜200g/、好ましくは10〜100g/である。
〜200g/、好ましくは10〜100g/である。
本発明に従うすず−鉛−ビスマス合金めっき浴に添加
される錯化剤（ａ）及び（ｂ）の例としては、エチレン
ジアミンテトラ酢酸（略名EDTA）、ジエチレントリアミ
ンペンタ酢酸（略名DTPA）、トリエチレンテトラミンヘ
キサ酢酸（略名TTHA）、エチレンジオキシビス（エチル
アミン）−Ｎ、Ｎ、Ｎ′、Ｎ″−テトラ酢酸等があげら
れる。添加濃度は本発明のめっき浴１につき、0.05〜
２モル、好ましくは0.1〜0.5モルである。またグルコン
酸の添加濃度は本発明のめっき浴１につき、0.01〜２
モル、好ましくは0.03〜0.5モルである。（ａ）又は
（ｂ）とグルコン酸を併用添加することによって浴の経
時安定性が向上し、電着物組成も安定なものが得られ
る。
される錯化剤（ａ）及び（ｂ）の例としては、エチレン
ジアミンテトラ酢酸（略名EDTA）、ジエチレントリアミ
ンペンタ酢酸（略名DTPA）、トリエチレンテトラミンヘ
キサ酢酸（略名TTHA）、エチレンジオキシビス（エチル
アミン）−Ｎ、Ｎ、Ｎ′、Ｎ″−テトラ酢酸等があげら
れる。添加濃度は本発明のめっき浴１につき、0.05〜
２モル、好ましくは0.1〜0.5モルである。またグルコン
酸の添加濃度は本発明のめっき浴１につき、0.01〜２
モル、好ましくは0.03〜0.5モルである。（ａ）又は
（ｂ）とグルコン酸を併用添加することによって浴の経
時安定性が向上し、電着物組成も安定なものが得られ
る。
更に本発明のすず−鉛−ビスマス合金めっき浴にはめ
っき皮膜の粒子を微細化させるために界面活性剤を添加
することができる。例えば、ポリエチレングリコールノ
ニルフェニルエーテル、オキシエチレンラウリルアミ
ン、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ポリオキシエ
チレンアルキルプロピレンジアミン、ニッサンアノンBF
（ジメチルアルキルベタイン）、Texnol−R2（ベタイン
型）、リポミンCH（イミダゾリン系）、ファーミンR86H
（ステアリルアミン塩酸塩）等があげられる。これら１
種又は２種以上をめっき浴１について、0.2〜50g/
、好ましくは１〜10g/添加する。
っき皮膜の粒子を微細化させるために界面活性剤を添加
することができる。例えば、ポリエチレングリコールノ
ニルフェニルエーテル、オキシエチレンラウリルアミ
ン、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ポリオキシエ
チレンアルキルプロピレンジアミン、ニッサンアノンBF
（ジメチルアルキルベタイン）、Texnol−R2（ベタイン
型）、リポミンCH（イミダゾリン系）、ファーミンR86H
（ステアリルアミン塩酸塩）等があげられる。これら１
種又は２種以上をめっき浴１について、0.2〜50g/
、好ましくは１〜10g/添加する。
本発明のめっき浴に用いられる光沢剤はアセトアルデ
ヒドとｏ−トルイジンの反応生成物、アルドール化合
物、１−ナフトアルデヒド、２−メトキシナフトアルデ
ヒド、２−ヒドロキシナフトアルデヒド、ベンザルアセ
トン、ホルマリン、アセトアルデヒド等があげられる。
これらの１種又は２種以上をめっき浴の液１につい
て、0.01〜30g/の範囲で添加する。
ヒドとｏ−トルイジンの反応生成物、アルドール化合
物、１−ナフトアルデヒド、２−メトキシナフトアルデ
ヒド、２−ヒドロキシナフトアルデヒド、ベンザルアセ
トン、ホルマリン、アセトアルデヒド等があげられる。
これらの１種又は２種以上をめっき浴の液１につい
て、0.01〜30g/の範囲で添加する。
また本発明のめっき浴のpHを１〜５の間にもたらすの
に必要なpH調整剤、例えば一般式（ｃ）で示された脂肪
族スルホン酸及びそれらのアンモニウム、モノエタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエ
チンレンペンタミン、ペンタエチレンテトラミン塩など
があげられる。
に必要なpH調整剤、例えば一般式（ｃ）で示された脂肪
族スルホン酸及びそれらのアンモニウム、モノエタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエ
チンレンペンタミン、ペンタエチレンテトラミン塩など
があげられる。
更に本発明のめっき浴には必要に応じてカテコールや
ハイドロキノンなどの酸化防止剤を本発明の効果を損な
わない範囲で添加することができる。
ハイドロキノンなどの酸化防止剤を本発明の効果を損な
わない範囲で添加することができる。
［実施例］ 次に本発明の実施例によるめっき浴の組成及びめっき
条件を示すが、本発明はこれら数例に限定されるもので
はなく、前述した目的に沿ってめっき浴組成及びめっき
条件は任意に変更することができる。
条件を示すが、本発明はこれら数例に限定されるもので
はなく、前述した目的に沿ってめっき浴組成及びめっき
条件は任意に変更することができる。
実施例１ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
調製した。
すず（２−ヒドロキシプロパンスルホン酸第一すずの水
溶液ととして添加） 3.1 g/ 鉛（２−ヒドロキシプロパンスルン酸鉛の水溶液として
添加） 6.4 g/ ビスマス（２−ヒドロキシプロパンスルホン酸ビスマス
の水溶液として添加） 10.5 g/ ２−ヒドロキシプロパンスルホン酸のジエチレントリア
ミン塩 1.5 mol/ DTPA 0.2 mol/ グルコン酸 0.05mol/ ポリオキエチレンラウリルアミンのエチレンオキサイド
２モル付加物 5.0 g/ ハイドロキノン 0.1 g/ pH 2.0 得られためっき浴を用いてハルセル試験を行った。ハ
ルセル試験条件は総電流1A、時間５分、温度25℃で行っ
た。アノードにはビスマス板、カソードには0.3×70×1
00mmの銅板を用い、以下各実施例浴からの外観について
評価した。
溶液ととして添加） 3.1 g/ 鉛（２−ヒドロキシプロパンスルン酸鉛の水溶液として
添加） 6.4 g/ ビスマス（２−ヒドロキシプロパンスルホン酸ビスマス
の水溶液として添加） 10.5 g/ ２−ヒドロキシプロパンスルホン酸のジエチレントリア
ミン塩 1.5 mol/ DTPA 0.2 mol/ グルコン酸 0.05mol/ ポリオキエチレンラウリルアミンのエチレンオキサイド
２モル付加物 5.0 g/ ハイドロキノン 0.1 g/ pH 2.0 得られためっき浴を用いてハルセル試験を行った。ハ
ルセル試験条件は総電流1A、時間５分、温度25℃で行っ
た。アノードにはビスマス板、カソードには0.3×70×1
00mmの銅板を用い、以下各実施例浴からの外観について
評価した。
実施例２ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
調製した。
すず（メタンスルホン酸第一すずの水溶液として添加） 9.0 g/ 鉛（メタンスルホン酸鉛の水溶液として添加） 9.0 g/ ビスマス（メタンスルホン酸ビスマスの水溶液として添
加） 2.0 g/ メタンスルホン酸のアンモニウム塩 1.0 mol/ DTPA 0.3 mol/ グルコン酸 0.3 mol/ ニッサンアノンBF 5.0 g/ カテコール 0.3 g/ pH 2.2 実施例３ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
加） 2.0 g/ メタンスルホン酸のアンモニウム塩 1.0 mol/ DTPA 0.3 mol/ グルコン酸 0.3 mol/ ニッサンアノンBF 5.0 g/ カテコール 0.3 g/ pH 2.2 実施例３ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
すず（メタンスルホン酸第一すずの水溶液として添加） 8.0g/ 鉛（メタンスルホン酸鉛の水溶液として添加） 8.0g/ ビスマス（メタンスルホン酸鉛として添加） 4.0g/ メタンスルホン酸のエチレンジアミン塩 2.0mol/ TTHA 0.3mol/ グルコン酸 0.3mol/ Texnol−R2 5.0g/ カテコール 0.2g/ pH 2.5 実施例４ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
調製した。
すず（スルホコハク酸第一すずの水溶液として添加） 7.0g/ 鉛（スルホコハク酸鉛の水溶液として添加） 7.0g/ ビスマス（スルホコハク酸ビスマスの水溶液として添
加） 6.0g/ スルホコハク酸のジエタノールアミン塩 1.5mol/ DTPA 0.2mol/ グルコン酸 0.2mol/ ポリオキシエチレンアルキルプロピレンジアミン 5.0g/ ハイドロキノン 0.5g/ pH 2.0 実施例５ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
加） 6.0g/ スルホコハク酸のジエタノールアミン塩 1.5mol/ DTPA 0.2mol/ グルコン酸 0.2mol/ ポリオキシエチレンアルキルプロピレンジアミン 5.0g/ ハイドロキノン 0.5g/ pH 2.0 実施例５ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
すず（２−カルボキシエタンスルホン酸第一すずの水溶
液として添加） 9.8g/ 鉛（２−カルボキシエタンスルホン酸鉛の水溶液として
添加） 4.2g/ ビスマス（２−カルボキシエタンスルホン酸ビスマスの
水溶液として添加） 6.0g/ ２−カルボキシエタンスルホン酸のジエチレントリアミ
ン塩 1.5mol/ EDTA 0.2mol/ グルコン酸 0.3mol/ リポミンCH 5.0g/ カテコール 0.3g/ pH 3.0 比較例１ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
液として添加） 9.8g/ 鉛（２−カルボキシエタンスルホン酸鉛の水溶液として
添加） 4.2g/ ビスマス（２−カルボキシエタンスルホン酸ビスマスの
水溶液として添加） 6.0g/ ２−カルボキシエタンスルホン酸のジエチレントリアミ
ン塩 1.5mol/ EDTA 0.2mol/ グルコン酸 0.3mol/ リポミンCH 5.0g/ カテコール 0.3g/ pH 3.0 比較例１ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
すず（メタンスルホン酸第一すずの水溶液として添加） 3.1 g/ 鉛（メタンスルホン酸鉛の水溶液として添加） 6.4 g/ ビスマス（メタンスルホン酸ビスマスとして添加） 10.5 g/ メタンスルホン酸のジエチレントリアミン塩1.5 mol/ グルコン酸 0.05mol/ ポリオキシエチレンラウリルアミンのエチレンオキサイ
ド２モル付加物 5.0 g/ ハイドロキノン 0.1 g/ pH 2.0 各めっき浴から得られた試験片のハルセル試験結果を
表１にまとめた。
ド２モル付加物 5.0 g/ ハイドロキノン 0.1 g/ pH 2.0 各めっき浴から得られた試験片のハルセル試験結果を
表１にまとめた。
ハルセル外観は高電流部（3A/dm2）、中電流部（1A/d
m2）、低電流部（0.5A/dm2）に分けて灰白色系で微細な
結晶を◎、やや微細なものを○、暗色系微細なものを
△、暗色系粗大なものを×として肉眼で評価した。
m2）、低電流部（0.5A/dm2）に分けて灰白色系で微細な
結晶を◎、やや微細なものを○、暗色系微細なものを
△、暗色系粗大なものを×として肉眼で評価した。
実施例６ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
調製した。
すず（メタンスルホン酸第一すずの水溶液として添加） 16.2 g/ 鉛（メタンスルホン酸鉛の水溶液として添加） 1.8 g/ ビスマス（メタンスルホン酸ビスマスの水溶液として添
加） 2.0 g/ メタンスルホン酸 192.0 g/ DTPA 0.2 mol/ グルコン酸 0.05mol/ ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル 5.0 g/ アセトアルデヒドとｏ−トルイジンの反応生成物 10.0 ml/ ホルマリン 8.0 ml/ ハイドロキノン 0.5 g/ 実施例７ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
加） 2.0 g/ メタンスルホン酸 192.0 g/ DTPA 0.2 mol/ グルコン酸 0.05mol/ ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル 5.0 g/ アセトアルデヒドとｏ−トルイジンの反応生成物 10.0 ml/ ホルマリン 8.0 ml/ ハイドロキノン 0.5 g/ 実施例７ 下記組成を有するすず−鉛−ビスマス合金めっき浴を
調製した。
すず（２−ヒドロキシプロパンスルホン酸第一すずの水
溶液ととして添加） 14.4 g/ 鉛（２−ヒドロキシプロパンスルン酸鉛の水溶液として
添加） 1.6 g/ ビスマス（２−ヒドロキシプロパンスルホン酸ビスマス
の水溶液として添加） 4.0 g/ ２−ヒドロキシプロパンスルホン酸 280.0 g/ DTPA 0.2 mol/ グルコン酸 0.05mol/ ポリオキエチレンラウリルアミンのエチレンオキサイド
７モル付加物 5.0 g/ １−ナフトアルデヒド 0.1 g/ カテコール 0.2 g/ 実施例１と同様にハルセル試験を行った結果、実施例
６、７ともにハルセル全面で鏡面光沢に近い良好な外観
を有するめっき皮膜が得られた。
溶液ととして添加） 14.4 g/ 鉛（２−ヒドロキシプロパンスルン酸鉛の水溶液として
添加） 1.6 g/ ビスマス（２−ヒドロキシプロパンスルホン酸ビスマス
の水溶液として添加） 4.0 g/ ２−ヒドロキシプロパンスルホン酸 280.0 g/ DTPA 0.2 mol/ グルコン酸 0.05mol/ ポリオキエチレンラウリルアミンのエチレンオキサイド
７モル付加物 5.0 g/ １−ナフトアルデヒド 0.1 g/ カテコール 0.2 g/ 実施例１と同様にハルセル試験を行った結果、実施例
６、７ともにハルセル全面で鏡面光沢に近い良好な外観
を有するめっき皮膜が得られた。
実施例８ 実施例１及び２の浴をそれぞれ１建浴し、試料にφ
２×200mmの銅棒を用いて25℃、2m/minのカソードロッ
カーを行い、電流密度を変化させて膜厚約10μｍのSn−
Pb−Bi合金めっきを施し、電着物組成はPb、Biは原子吸
光光度計により分析して求め、電流効率はめっき前後の
重量差から算出した。結果を表２に示す。
２×200mmの銅棒を用いて25℃、2m/minのカソードロッ
カーを行い、電流密度を変化させて膜厚約10μｍのSn−
Pb−Bi合金めっきを施し、電着物組成はPb、Biは原子吸
光光度計により分析して求め、電流効率はめっき前後の
重量差から算出した。結果を表２に示す。
この結果より、めっき浴組成に近い電着物組成が得ら
れたのでめっき浴の管理が非常に容易である。
れたのでめっき浴の管理が非常に容易である。
実施例９ 実施例１の浴を用いて、試料に0.3×20×30mmの銅板
に約５μｍのめっきを行い、オイルフュージング試験を
行った。オイルにシリコーンKF−54（信越化学製）を、
フラックスにスパークルフラックスWF−22を用いた。温
度を110〜120℃に変えて試料を浸漬した結果、115℃で
合金皮膜の融解が認められ、良好な外観を呈した。
に約５μｍのめっきを行い、オイルフュージング試験を
行った。オイルにシリコーンKF−54（信越化学製）を、
フラックスにスパークルフラックスWF−22を用いた。温
度を110〜120℃に変えて試料を浸漬した結果、115℃で
合金皮膜の融解が認められ、良好な外観を呈した。
［発明の効果］ 以上説明したように、この発明によれば、特定の錯化
剤とグルコン酸とを併用添加することにより浴の経時安
定性が向上し、また組成が安定したすず−鉛−ビスマス
合金皮膜が得られ、外観が良好な三元合金めっきを品物
にめっきすることが出来、しかも融点が従来のはんだ皮
膜に比べて低いので実装技術に対応して信頼性の高いは
んだ付けができる効果がある。
剤とグルコン酸とを併用添加することにより浴の経時安
定性が向上し、また組成が安定したすず−鉛−ビスマス
合金皮膜が得られ、外観が良好な三元合金めっきを品物
にめっきすることが出来、しかも融点が従来のはんだ皮
膜に比べて低いので実装技術に対応して信頼性の高いは
んだ付けができる効果がある。
フロントページの続き (72)発明者 土肥 信康 兵庫県神戸市須磨区月見山本町１丁目１ 番４号 (72)発明者 杉本 護 兵庫県加古川市加古川町北在家268番地 (72)発明者 奥浜 良明 兵庫県神戸市東灘区御影山手２丁目15― 15 (72)発明者 正木 征史 兵庫県神戸市長田区西山町４丁目16―５ (72)発明者 阿久津 敏次 兵庫県三木市志染町中自由が丘１丁目99 (72)発明者 辻 清貴 兵庫県神戸市垂水区本多聞１丁目20番20 ―303 (56)参考文献 特開 昭63−14887（ＪＰ，Ａ) 特公 昭59−10997（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭36−17257（ＪＰ，Ｂ１) 特表 昭59−500475（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C25D 3/00 - 3/64
Claims (3)
- 【請求項１】アルカンスルホン酸及び／又はアルカノー
ルスルホン酸のすず塩、鉛塩及びビスマス塩を含有する
主めっき浴に一般式（ａ）及び（ｂ） ［ここで、Ｒ′：直鎖又は分岐アルキレン
（Ｃ１〜４）、 X:H、アルキル（Ｃ１〜３）、 R:H、アルキル（Ｃ１〜３）、 M:H、アルカリ金属、 n:1〜４］ ［ここで、Ｒ″：直鎖又は分岐アルキレン
（Ｃ１〜４）、 X:H、アルキル（Ｃ１〜３）、 R:H、アルキル（Ｃ１〜３）、 M:H、アルカリ金属、 m:1〜３］ で表される少なくとも１種の錯化剤及びグルコン酸を添
加し、さらに界面活性剤及び／又は光沢剤の１種以上を
添加してなることを特徴とするすず−鉛−ビスマス合金
電気めっき浴。 - 【請求項２】pH調整剤をさらに含有することを特徴とす
る請求項１記載のすず−鉛−ビスマス合金電気めっき
浴。 - 【請求項３】酸化防止剤をさらに含有することを特徴と
する請求項１記載のすず−鉛−ビスマス合金電気めっき
浴。
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|---|---|---|---|
| JP2039793A JP2819180B2 (ja) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | すず―鉛―ビスマス合金めっき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2039793A JP2819180B2 (ja) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | すず―鉛―ビスマス合金めっき浴 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH03243788A JPH03243788A (ja) | 1991-10-30 |
| JP2819180B2 true JP2819180B2 (ja) | 1998-10-30 |
Family
ID=12562833
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2039793A Expired - Lifetime JP2819180B2 (ja) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | すず―鉛―ビスマス合金めっき浴 |
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