JP2817779B2 - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JP2817779B2 JP2817779B2 JP7313844A JP31384495A JP2817779B2 JP 2817779 B2 JP2817779 B2 JP 2817779B2 JP 7313844 A JP7313844 A JP 7313844A JP 31384495 A JP31384495 A JP 31384495A JP 2817779 B2 JP2817779 B2 JP 2817779B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnification
- projection exposure
- exposure apparatus
- detector
- aperture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
し、特に変形照明法によりコヒーレンシーσが変化する
投影露光装置に関する。
ジ1と、投影レンズ2と、レンズ圧及び温度制御ユニッ
ト3と、コンピュータ4と、レチクル5と、アパーチャ
付レボルバー6と、水銀ランプ7と、フライアイレンズ
10を備え、ウェハステージ1上での投影レンズ2によ
る転写倍率は、各変形照明用アパーチャ毎に補正パラメ
ータがコンピュータ4に登録されており、これにより修
正される。
値は、実際にウェハ上にパターンを転写し、倍率を確認
しながら決定される。
チャ毎の補正値は、コンピュータ4により管理され、各
変形照明用アパーチャ使用時にレンズ圧及び温度制御ユ
ニット3に適正制御値をフィードバックする。
る従来の投影露光装置では、変形照明に対応した各変形
照明用アパーチャ毎に補正値が必要である。各変形照明
用アパーチャによって倍率が変わる理由は、各変形照明
用アパーチャによって光学的に光路差が生じる(レンズ
の収差による)ことと、特定のアパーチャを継続して使
用した場合にその状態でレンズがヒートアップされる
が、その後、アパーチャを変更すると照明光のレンズへ
の照射量が変わり、レンズ室内の温度・圧力が変化する
からである。
パーチャ変換ごとに、コンピュータ4に登録したパラメ
ーターを読み出している。また、従来の投影露光装置に
おける問題は、大気圧の変動及びレンズの熱影響による
補正をウェハ毎に追い込むことができないことである。
交換によって生じるコヒーレンシーの違いが、投影レン
ズからの転写倍率に影響を与えないようにした、照明系
のσ値及びウェハ露光毎による環境の影響を抑え常に一
定の倍率で縮小投影できる投影露光装置を提供すること
にある。
力、フォーカスマージンといったプロセス条件を向上さ
せるため、変形照明用アパーチャーを必要に応じレボル
バー方式で切り換え、マスクパターンをウェハ上に転写
する投影露光装置において、前記変形照明用アパーチャ
ーからくるコヒーレンシーσの違いによる転写倍率を、
直接ステージ上に設置したディテクターシステムで自動
測定し、該測定結果のデータから自動的にレンズの補正
係数を算出し、常に一定な倍率になるよう制御すること
を特徴とする投影露光装置が得られる。
明システムのアパーチャにより、変動する倍率を倍率制
御ユニットを用いることによりその補正が可能となる。
この倍率補正量はレチクル上に定められた2つのマーク
(レチクルの両端に1つづつ)からの信号を、ディテク
タを備えたフィデュシャルマークを左右にスキャニング
することにより得る。2つのマークから得られる信号の
間隔(距離)は、変形照明の各アパーチャによる倍率変
動量に対応している。
ュータにより計算され、倍率補正値として倍率制御ユニ
ットにフィードバックされる。
影露光装置について、図面を参照して詳細に説明する。
うに、ウェハステージ1と、投影レンズ2と、倍率制御
ユニット3´と、コンピュータ4と、レチクル5と、ア
パーチャ付レボルバー6と、水銀ランプ7と、フィデュ
シャルマーク8と、ディテクタ9と、フライアイレンズ
10を備え、この投影露光装置は、各アパーチャ毎の倍
率変動量を測定でき、この値を自動的に倍率制御ユニッ
ト3´にフィードバックするシステムである。照明系の
セッティングは、アパーチャがセットされているアパー
チャ付レボルバー6により交換が行われる。
あり、照射光によるマークからの信号を投影レンズ2を
通してウェハステージ1上で検出する。ウェハステージ
1上のフィデュシャルマーク8(基準マーク)にはスリ
ットが設けられており、その真下に、ディテクタ9が設
置されている。このディテクタ9により、レチクル5上
のマークからの信号を検出する。レチクル5上のマーク
に照射をしている間、ウェハステージ1は、ステージ両
端を左から右、もしくは右から左へスキャンし、レチク
ル5上の2つのマークからの信号をディテクタ9により
検出すると、図2に示すようなマーク部分と出力との関
係が得られる。
上の2つのマークから得られる信号の間隔が変わり、そ
の変化量を倍率補正値としてコンピュータ4へ送る。こ
のとき、変形照明等を用いないコンベンショナルな状態
を標準値とし、倍率補正値を換算する。
補正値を、倍率制御ユニット3に指示し、投影レンズ2
の圧力を制御し倍率変動を修正するものである。
測定を行い、倍率補正を行うことができる。
は、ウェハステージ1上のフィデュシャルマーク8にス
リットを設け、その真下にディテクタ9を配置する。こ
のディテクタ9によりレチクル5上の2つのマーク位置
を検出し、その2点間の位置データを登録するコンピュ
ータ4を有する。コンピュータ4では上記情報を基に倍
率補正値を算出し、倍率制御ユニット3に指示を出す。
これにより、照明系によってはコヒーレンシーσによっ
て変わる転写倍率の違いは修正される。
って、コヒーレンシーσが変るが、本実施例の投影露光
装置は、そのときに生じる転写倍率の変動を補正し、常
に一定の状態にするものである。
明等のアパーチャ交換によって生じるコヒーレンシーσ
の違いが、投影レンズからの転写倍率に影響を与えない
ようにするものであり、照明系のσ値及びウェハ露光毎
による環境の影響を抑え、常に一定の倍率で縮小投影で
きる投影露光装置を提供することが可能となる。
示す図である。
す図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 解像力、フォーカスマージンといったプ
ロセス条件を向上させるため、変形照明用アパーチャを
必要に応じレボルバー方式で切り換え、マスクパターン
をウェハ上に転写する投影露光装置において、前記変形
照明用アパーチャからくるコヒーレンシーσの違いによ
る転写倍率を、直接ウェハステージ上に設置したディテ
クタシステムで自動測定し、該測定結果のデータから自
動的にレンズの補正係数を算出し、常に一定な倍率にな
るよう制御することを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項2】 ウェハステージと、該ウェハステージ上
に設けられたフィデュシャルマークと、倍率制御ユニッ
トと、該倍率制御ユニットに接続されたコンピュータ
と、レチクルと、ディテクタとを備え、前記フィデュシ
ャルマークにスリットを設け、該スリットの真下に前記
ディテクタを配置し、前記ディテクタにより前記レチク
ル上の2つのマーク位置を検出し、該2点間の位置デー
タを基に前記コンピュータが倍率補正値を算出し、該倍
率補正値に従って前記倍率制御ユニットが転写倍率の制
御を行うことを特徴とする投影露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7313844A JP2817779B2 (ja) | 1995-12-01 | 1995-12-01 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7313844A JP2817779B2 (ja) | 1995-12-01 | 1995-12-01 | 投影露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09153449A JPH09153449A (ja) | 1997-06-10 |
JP2817779B2 true JP2817779B2 (ja) | 1998-10-30 |
Family
ID=18046196
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7313844A Expired - Fee Related JP2817779B2 (ja) | 1995-12-01 | 1995-12-01 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2817779B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100325473B1 (ko) * | 1999-12-07 | 2002-03-06 | 박종섭 | 반도체 노광 장치 |
-
1995
- 1995-12-01 JP JP7313844A patent/JP2817779B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09153449A (ja) | 1997-06-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5841520A (en) | Exposure apparatus and method that use mark patterns to determine image formation characteristics of the apparatus prior to exposure | |
GB2121558A (en) | Optical imaging system | |
KR970049076A (ko) | 주사형 노광장치 및 주사노광방법 | |
JP2000216086A (ja) | フォトリソグラフィ装置 | |
JPH0578008B2 (ja) | ||
JPH07302753A (ja) | 露光装置 | |
US5965308A (en) | Method of controlling exposure | |
JPH0265222A (ja) | 半導体装置の露光装置 | |
JP2817779B2 (ja) | 投影露光装置 | |
JPH06349703A (ja) | 投影露光装置 | |
JP2503451B2 (ja) | 投影露光方法及び装置 | |
US4941745A (en) | Projection aligner for fabricating semiconductor device having projection optics | |
JPH09148228A (ja) | 露光装置 | |
JP3104813B2 (ja) | アライメント装置、投影露光装置、及び素子製造方法 | |
JPH05315222A (ja) | 位置合わせ方法 | |
JPS60188950A (ja) | 光量制御装置の校正方法 | |
JPH09246178A (ja) | 露光方法 | |
JP2653356B2 (ja) | 投影露光方法 | |
US8411250B2 (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method | |
JPH07283114A (ja) | 露光装置 | |
JPH08321459A (ja) | 投影露光方法 | |
JPH06300954A (ja) | レンズ特性補正方法およびそれを用いた露光装置 | |
JP4027205B2 (ja) | 露光装置 | |
JPH0418454B2 (ja) | ||
JPS6135450A (ja) | 投影露光方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980722 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070821 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080821 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080821 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090821 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090821 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100821 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100821 Year of fee payment: 12 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100821 Year of fee payment: 12 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110821 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110821 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130821 Year of fee payment: 15 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |