JPH06300954A - レンズ特性補正方法およびそれを用いた露光装置 - Google Patents

レンズ特性補正方法およびそれを用いた露光装置

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JPH06300954A
JPH06300954A JP5085032A JP8503293A JPH06300954A JP H06300954 A JPH06300954 A JP H06300954A JP 5085032 A JP5085032 A JP 5085032A JP 8503293 A JP8503293 A JP 8503293A JP H06300954 A JPH06300954 A JP H06300954A
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JP
Japan
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lens
temperature
liquid
characteristic
reduction
Prior art date
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Pending
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JP5085032A
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English (en)
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Masahiro Mizuno
匡宏 水野
Hidehiko Yazaki
秀彦 矢崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Priority to JP5085032A priority Critical patent/JPH06300954A/ja
Publication of JPH06300954A publication Critical patent/JPH06300954A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F7/70883Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
    • G03F7/70891Temperature

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 レンズの熱による特性変化を補正し、特に露
光装置における露光光の熱影響による縮小レンズの寸法
バラツキ、FOCUS、縮小率などの特性変化を補正制
御可能なレンズ特性補正方法およびそれを用いた露光装
置を提供する。 【構成】 レンズに照射される光による影響を補正する
レンズ特性補正装置であって、内部に液体1が貯溜され
る縮小レンズ2と、縮小レンズ2の内部から排出される
液体1の温度を監視する温度センサ3と、温度センサ3
からの信号により液体1の温度を調整して縮小レンズ2
の内部に供給する温調機4とから構成されている。そし
て、縮小レンズ2の内部から排出される液体1の温度が
監視され、この液体1の温度が調整されて縮小レンズ2
の内部に供給されて、縮小レンズ2が常に一定の温度に
制御されるようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レンズ特性補正技術に
関し、特に半導体集積回路製造装置における縮小投影露
光装置において、FOCUS、縮小率などのレンズ特性
変化の補正制御が可能とされるレンズ特性補正方法およ
びそれを用いた露光装置に適用して有効な技術に関す
る。
【0002】
【従来の技術】たとえば、半導体集積回路の製造工程に
おいて、原版であるレチクルなどに形成された回路パタ
ーンが、露光対象物である半導体ウェハ上に転写される
技術としては、縮小投影露光装置などによる技術が一般
的に用いられる。
【0003】この装置において、縮小レンズに露光光が
照射されると、熱の影響によりFOCUS、縮小率など
の特性が変化する。このため、露光光のレンズ照射時間
により補正係数を求め、この補正係数をもとにFOCU
Sを変化させる方法が採られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記のよう
な従来技術においては、計算によるFOCUS補正を行
うため、装置間における補正誤差が発生したり、またレ
ンズの特性変化後に補正を行うために補正誤差の要因が
残り、レンズ特性の変化に対応した適切な特性補正がで
きないという問題がある。
【0005】そこで、本発明の目的は、レンズの熱によ
る特性変化を補正し、特に露光装置において、露光光の
熱などの影響による縮小レンズの寸法バラツキ、FOC
US、縮小率などの特性変化を補正制御することができ
るレンズ特性補正方法およびそれを用いた露光装置を提
供することにある。
【0006】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0007】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
【0008】すなわち、本発明のレンズ特性補正方法
は、レンズに照射される光による影響を補正するレンズ
特性補正方法であって、光によるレンズの温度変動を監
視し、このレンズの温度を一定に制御するものである。
【0009】また、本発明の露光装置は、前記レンズ特
性補正方法を用い、露光光源から照射された露光光を原
版に形成された回路パターンを通した後、縮小レンズに
より露光対象物上に縮小転写するものである。
【0010】
【作用】前記したレンズ特性補正方法およびそれを用い
た露光装置によれば、レンズの温度変動が監視されて一
定の温度に制御されることにより、照射される光の熱な
どの影響によるレンズの特性変化を補正することができ
る。特に、露光装置に用いる場合には、露光光による縮
小レンズの寸法バラツキ、FOCUS、縮小率などの特
性変化を補正することができる。
【0011】たとえば、温度センサによってレンズの温
度を検出し、この検出された信号により温調機でレンズ
温度を一定に保つことができ、これによって光によるレ
ンズの温度変動に伴う特性変化を抑え、常に安定したレ
ンズ特性を得ることができる。
【0012】
【実施例】図1は本発明のレンズ特性補正方法の一実施
例であるレンズ特性補正装置の要部を示す概略構成図、
図2は本実施例のレンズ特性補正装置を搭載した露光装
置の要部を示す概略構成図、図3は本実施例のレンズ特
性補正装置に用いられるレンズの変形例を示す説明図で
ある。
【0013】まず、図1により本実施例のレンズ特性補
正装置の構成を説明する。
【0014】本実施例のレンズ特性補正装置は、たとえ
ばレンズに照射される光による影響を補正するレンズ特
性補正装置とされ、内部に液体1が貯溜される縮小レン
ズ2と、縮小レンズ2の内部から排出される液体1の温
度を監視する温度センサ3と、温度センサ3からの信号
により液体1の温度を調整して縮小レンズ2の内部に供
給する温調機4とから構成され、縮小レンズ2が常に一
定の温度に制御されるようになっている。
【0015】このようなレンズ特性補正装置は、たとえ
ば図2に示すような縮小投影露光装置に搭載されて用い
られる。
【0016】この縮小投影露光装置は、たとえば水銀ラ
ンプから構成される露光光源5と、この露光光源5から
照射される露光光を集光する集光レンズ6と、レチクル
(原版)7と、このレチクル7の回路パターンを縮小転
写する縮小レンズ2と、ウェハ(露光対象物)8を固定
するウェハチャック9とから構成されている。
【0017】次に、本実施例の作用について、図2の縮
小投影露光装置により説明する。
【0018】まず、露光光源5から出た露光光は集光レ
ンズ6を通り、レチクル7上の回路パターンに照射され
る。さらに、縮小レンズ2を通り、ウェハチャック9上
に固定されたウェハ8に回路パターンが縮小転写され
る。
【0019】この場合に、露光光が照射される縮小レン
ズ2は熱の影響により特性が変化するが、本実施例にお
いては、縮小レンズ2の内部から排出される液体1の温
度を温度センサ3により監視し、この温度センサ3から
の信号によって液体1の温度を温調機4により調整して
縮小レンズ2の内部に供給する。
【0020】これにより、常に縮小レンズ2を一定の温
度に制御し、縮小レンズ2の温度変動による寸法バラツ
キ、FOCUS、縮小率などのレンズ特性変化を補正す
ることができる。
【0021】従って、本実施例のレンズ特性補正装置に
よれば、縮小レンズ2内の液体1の温度を監視する温度
センサ3、および液体1の温度を調整する温調機4から
構成されることにより、縮小レンズ2の温度変動を監視
して常に一定の温度に制御し、露光光の熱などの影響に
よる縮小レンズ2の特性変化を補正することができる。
特に、縮小投影露光装置に用いる場合には、露光光によ
るレンズ特性の変化を補正することができる。
【0022】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0023】たとえば、本実施例のレンズ特性補正装置
については、縮小レンズ2の温度を液体1の供給/排出
により制御する場合について説明したが、本発明は前記
実施例に限定されるものではなく、エアーなどの気体な
どについても広く適用可能である。
【0024】また、縮小レンズ2の特性の補正について
も、温度調整の他に、たとえば図3に示すような形状変
形可能な縮小レンズ2aを用い、この縮小レンズ2aの
内部の気体10の圧力を変化させ、縮小レンズ2aの屈
折率、曲率などの形状変化により補正することも可能で
ある。
【0025】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその利用分野である縮小投影露光装置
に用いられるレンズ特性補正装置に適用した場合につい
て説明したが、これに限定されるものではなく、特に温
度によるレンズ特性変化が問題となる他の装置について
も広く適用可能である。
【0026】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
【0027】すなわち、光によるレンズの温度変動を監
視し、レンズの温度を一定に制御することにより、照射
される光の熱などの影響によるレンズの特性変化を補正
することができるので、常に安定したレンズ特性を得る
ことが可能となる。
【0028】特に、露光装置に用いる場合には、露光光
による縮小レンズの温度変動に伴う寸法バラツキ、FO
CUS、縮小率などのレンズ特性変化を補正することが
できるので、露光精度の向上と信頼性の高い露光管理が
可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレンズ特性補正方法の一実施例である
レンズ特性補正装置の要部を示す概略構成図である。
【図2】本実施例のレンズ特性補正装置を搭載した露光
装置の要部を示す概略構成図である。
【図3】本実施例のレンズ特性補正装置に用いられるレ
ンズの変形例を示す説明図である。
【符号の説明】
1 液体 2,2a 縮小レンズ 3 温度センサ 4 温調機 5 露光光源 6 集光レンズ 7 レチクル(原版) 8 ウェハ(露光対象物) 9 ウェハチャック 10 気体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // G02B 13/24 9120−2K

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レンズに照射される光による影響を補正
    するレンズ特性補正方法であって、前記光によるレンズ
    の温度変動を監視し、該レンズの温度を一定に制御する
    ことを特徴とするレンズ特性補正方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のレンズ特性補正方法を用
    い、露光光源から照射された露光光を原版に形成された
    回路パターンを通した後、縮小レンズにより露光対象物
    上に縮小転写することを特徴とする露光装置。
JP5085032A 1993-04-13 1993-04-13 レンズ特性補正方法およびそれを用いた露光装置 Pending JPH06300954A (ja)

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JP5085032A JPH06300954A (ja) 1993-04-13 1993-04-13 レンズ特性補正方法およびそれを用いた露光装置

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JPH06300954A true JPH06300954A (ja) 1994-10-28

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JP (1) JPH06300954A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012129558A (ja) * 2003-05-28 2012-07-05 Nikon Corp 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
CN114236653A (zh) * 2021-12-23 2022-03-25 广东省科学院半导体研究所 液体透镜运行调控系统、液体透镜运行调控方法及装置

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