JP2005183747A - 露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 露光光2をフォトマスク5とレンズ3とを通過させて、レンズ3の前方に順次に設置される複数枚の半導体ウエハ9上にフォトマスク5の遮光帯7のパターンを転写する露光方法において、予め、任意のフォトマスク5の遮光帯7のパターンが半導体ウエハ9上に結像されるようにレンズ容器4内を加圧する圧力を経時的に変化させて露光して、露光光照射時間と圧力との関係を求め、そのフォトマスク5あるいはそれと同等の遮光帯面積率を有するフォトマスクを使用する露光工程で、前記露光光照射時間と圧力との関係を満足させるようにレンズ容器4内を加圧する圧力を制御する。フォトマスク5の遮光帯面積率に依存するレンズ3の熱膨張に合わせてレンズ3に圧力を加えることになるので、レンズ3の焦点位置ずれを適切に補正することができ、ロット内のパターン寸法変動を低減できる。
【選択図】 図6
Description
図7(a)に示すように、ロット内の半導体ウエハの露光処理枚数(ロット内処理スライス数と記す)が増大するにしたがって、つまりレンズ3を露光光2が通過する総時間が増加するにしたがって、レンズの熱膨張量が増加する。ここで熱膨張量はレンズ3の厚さ方向の膨張量をいう。それに伴って、フォトマスク5の遮光帯7のパターンが結像するフォーカス位置が半導体ウエハ9の表面からずれ(このずれを便宜的にフォーカス値とする)(図7(b))、またそれに伴って、レジスト現像後のパターン寸法もシフトする。その結果、ロット内で半導体ウエハごとにレジストパターンの寸法が異なってしまう(図7(c))。
図8(a)は、ロット内処理スライス数が増大するにしたがってレンズ3の熱膨張量が非常にわずかではあるが増加してゆく状態を示す。そこで、レンズ3の熱膨張を抑制すべく、レンズ圧力コントローラ10が予め格納されたプロガラムに従ってレンズ容器4内の圧力を自動的に高めていく。図8(b)はその際の加圧特性を示し、一般に、露光装置メーカーから提供された1種類の圧力調整決定用マスクを使用して予め決定される。この圧力調整によってレンズ3が補正される結果、半導体ウエハ9上に投影される遮光帯7のパターンのフォーカス値は露光そりが進んでもほぼ一定に保たれ(図8(c))、半導体ウエハ9ごとのレジストパターンの寸法も一定値に抑えられる(図8(d))。
(実施の形態1)
本発明の実施の形態1における露光方法について説明する。この露光方法に用いる露光装置は先に図6を用いて説明した従来のものと同様の構成を有しているので、図6を援用して説明する。
図1(a)は、マスクパターン率70%、80%、90%のフォトマスク5を用いた場合のロット内処理スライス数とレンズ3の熱膨張量との関係を示す。ここでマスクパターン率は、フォトマスク5上で露光光が照射される全面積に対して遮光帯7が占める面積の比率を言い、上記請求項に記載した遮光帯面積率と同意義である。いずれのマスクパターン率のフォトマスク5を用いる場合も、ロット内処理スライス数が増加するにしたがって、つまり露光光がレンズ3を通過する合計時間が増加するにしたがって、レンズ3の熱膨張量が増加している。
(実施の形態2)
本発明の実施の形態2における露光方法について説明する。この露光方法が上記した実施の形態1と相違するのは、露光装置に複数のレンズ3の間隔を微調整するレンズ間隔調整機構11を付加し(図6参照)、前記間隔を調整する点である。
図2(a)は、マスクパターン率70%、80%、90%のフォトマスク5を用いた場合のロット内処理スライス数とレンズ3の熱膨張量との関係を示す。いずれのマスクパターン率のフォトマスク5を用いる場合も、ロット内処理スライス数が増加するにしたがってレンズ3の熱膨張量が増加しており、その熱膨張量の時間依存性はマスクパターン率ごとに異なっている。
(実施の形態3)
本発明の実施の形態3における露光方法について説明する。
図4(a)は、マスクパターン率70%、80%、90%のフォトマスク5を用いた場合のロット内処理スライス数とレンズ3の熱膨張量との関係を示す。いずれのマスクパターン率のフォトマスク5を用いる場合も、ロット内処理スライス数が増加するにしたがってレンズ3の熱膨張量が増加しており、その熱膨張量の時間依存性はマスクパターン率ごとに異なっている。
2 露光光
3 レンズ
5 フォトマスク
6 ガラス基板
7 遮光帯
8 レジスト
9 半導体ウエハ
10 レンズ圧力コントローラ
12 積算露光量測定装置
Claims (5)
- 露光光をフォトマスクとレンズとを通過させて、前記レンズの前方に順次に設置される複数枚の基板上に前記フォトマスクの遮光帯のパターンを転写する露光方法において、
予め、任意のフォトマスクを用いて遮光帯のパターンが基板上に結像されるように、前記レンズを収納したレンズ容器内を加圧する圧力を経時的に変化させて露光し、露光光照射時間と圧力との関係を求め、
前記フォトマスクあるいはそれと同等の遮光帯面積率を有するフォトマスクを使用する露光工程で、前記露光光照射時間と圧力との関係を満足させるように前記レンズ容器内を加圧する圧力を制御する
露光方法。 - 露光光をフォトマスクとレンズとを通過させて、前記レンズの前方に順次に設置される複数枚の基板上に前記フォトマスクの遮光帯のパターンを転写する露光方法において、
予め、任意のフォトマスクを用いて遮光帯のパターンが基板上に結像されるように、複数枚配置した前記レンズ間の間隔を経時的に変化させて露光し、露光光照射時間とレンズ間隔との関係を求め、
前記フォトマスクあるいはそれと同等の遮光帯面積率を有するフォトマスクを使用する露光工程で、前記露光光照射時間とレンズ間隔との関係を満足させるように前記レンズ容器内を加圧する圧力を制御する
露光方法。 - 露光光をフォトマスクとレンズとを通過させて、前記レンズの前方に順次に設置される複数枚の基板上に前記フォトマスクの遮光帯のパターンを転写する露光方法において、
予め、任意のフォトマスクを用いて遮光帯のパターンが基板上に結像されるように、前記レンズの光軸角度を経時的に変化させて露光し、露光光照射時間とレンズ光軸角度との関係を求め、
前記フォトマスクあるいはそれと同等の遮光帯面積率を有するフォトマスクを使用する露光工程で、前記露光光照射時間とレンズ光軸角度との関係を満足させるように前記レンズの光軸角度を制御する
露光方法。 - フォトマスクの遮光帯面積率は、前記フォトマスクを通さない露光光の光量と前記フォトマスクを通した露光光の光量とを測定し、両測定値の比として算出する請求項1〜3のいずれかに記載の露光方法。
- フォトマスクの遮光帯面積率は、露光工程の前工程で、前記フォトマスクを通さない露光光の光量と前記フォトマスクを通した露光光の光量とを測定し、両測定値の比として算出する請求項1〜3のいずれかに記載の露光方法。
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Cited By (6)
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---|---|---|---|---|
JP2008219010A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Asml Netherlands Bv | デバイス製造方法、コンピュータプログラム、及び、リソグラフィ装置 |
US8068212B2 (en) | 2007-03-05 | 2011-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus configured to compensate for variations in a critical dimension of projected features due to heating of optical elements |
JP2009004632A (ja) * | 2007-06-22 | 2009-01-08 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US8625069B2 (en) | 2007-06-22 | 2014-01-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and method of manufacturing device |
CN109539056A (zh) * | 2019-01-21 | 2019-03-29 | 赣州市众恒光电科技有限公司 | 一种具有平衡灯体内压差的出光角可调工矿灯 |
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