JP2812812B2 - 光導波素子 - Google Patents

光導波素子

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光導波素子に関するも
のであり、特に、光源と導波層とのギャップを精度よく
設定することができる光導波素子に関する。
【0002】
【従来の技術】光の伝播状態を制御して何らかの情報処
理機能を実現し、また、レンズ系で外部情報を取り込ん
だり、出射したりする素子として光導波素子がある。光
導波素子に光源からの出射光を導入して伝播させる手段
として端面結合法といわれるものがある。オーム社(1
885年)発行「光集積回路」第237頁に記載されて
いるものはその例であって、これを図6、図7に示す。
【0003】図6に示す例は、光ファイバー21の出射
端面を、基板22の上に形成した導波層23の端面に対
向させて配置したものである。図7に示す例は、半導体
レーザ24の活性層25の出射端面を、基板22の上に
形成した導波層23の端面に対向させて配置したもので
ある。
【0004】上記のような光導波素子で、光ファイバー
21又は半導体レーザ24等の光源からの出射光を効率
よく導波層23に伝達するには、光源と導波層23との
間のギャップLaを極力小さくすればよく、できればギ
ャップLaは全くないのが望ましい。しかしながら、光
源と導波層23との結合端面を傷つけないようにしなけ
ればならないので、上記ギャップLaを介して結合せざ
るを得ない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記の事情から、光フ
ァイバー21又は半導体レーザ24等の光源と導波層2
3との間にはギャップLaを設ける必要があるが、図3
からも明らかなように、ギャップLaが僅かでも大きく
なると結合効率が極端に低下するから、ギャップLaは
μmオーダーで調整しなければならず、導波層に対する
光源の位置決め調整がはなはだ面倒になるという問題点
がある。また、導波層23に結合できなかった光が導波
層23の出射側における基板22の端面25から漏れ出
て、信号処理のノイズとなる。
【0006】本発明は、このような問題点を解消するた
めになされたもので、光源と導波層との結合を位置決め
精度よくかつ簡単に行うことができるようにするととも
に、導波層に結合することができなかった光が光導波路
基板内に拡散することを防止することができる光導波素
子を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】 本発明は、光源と、こ
の光源からの出射光を伝播させる導波層とを有する光導
波素子において、上記導波層が一体に形成された基板の
光源側の端面に上記光源の端面が当接してこの光源と上
記基板の光源側の端面との位置決めを行う位置決め部材
が成膜により形成されていることを特徴とする。
【0008】
【作用】位置決め部材の厚さをコントロールすることに
より、光源と導波層の端面とのギャップを所定の大きさ
に設定することができる。光を遮断する材質で位置決め
部材を形成するとともに、光源の出射端面と導波層の入
射端面との間を除いて位置決め部材を形成することによ
り、導波層に結合できなかった光を位置決め部材で遮断
することができる。
【0009】
【実施例】 以下、図1ないし図5を参照しながら本発
明にかかる光導波素子の実施例について説明する。図1
において、クラッド層としての基板2の上面には導波層
3が一体に形成されている。導波層3は光源1からの出
射光を伝播させる。基板2の光源1側の端面9には光源
1の端面が当接してこの光源1と基板2の光源1側の端
面との位置決めを行う位置決め部材5が所定の厚さに形
成されている。位置決め部材5は導波層3の光入射端面
には形成されていない。
【0010】基板2には上記位置決め部材5を介して光
源1が取付けられている。光源1は例えば半導体レーザ
でなり、その活性層11が導波層3の入射端面と対向し
ている。従って、光源1の活性層の光出射端面と導波層
3の光入射端面との間には、位置決め部材5の厚さに相
当する幅Laのギャップが形成される。このギャップは
透明部材10で埋め込んでもよい。
【0011】基板2の底面13及び後端(図1において
右端)面12はすりガラス状に形成されている。また、
基板2には底面側からその全厚さ寸法近くまで溝8が形
成されている。溝8は不透明物質で埋め込む。溝8の深
さ、幅及び個数は任意に設定してよい。導波層3の後端
面7に対向させてレンズ系14が配置されている。導波
層3の上面にはクラッド層としての空気4が存在してい
る。
【0012】いま、光源1の駆動によってその活性層1
1から光信号を出射させると、この出射光は導波層3の
入射端面から入射し、導波層3内を伝播する。光信号は
導波層3内で信号処理される。また、外部からの光情報
信号をレンズ系14を介して導波層3内に取り込み、あ
るいは導波層3から出射した光情報信号をレンズ系14
を介して外部に取り出すこともできる。
【0013】図2に符号71,72に示すように、光源
1と導波層3との結合部分では導波層3に結合できなか
った光が基板2内に侵入しようとし、また導波素子外部
に逃げようとする。これらの光のうち特に基板2内に侵
入しようとする光71はノイズとなる恐れがある。しか
し、上記実施例によれば、基板2内に侵入しようとする
光71は位置決め部材5によって遮断される。また、基
板2の底面13及び後端面12をすりガラス状にして上
記非結合光が基板2の外部に出射しないようになってお
り、さらに、基板2に形成した溝8に不透明物質を埋め
込むことにより基板2内での非結合光の伝達が遮断され
るようになっている。このように、非結合光への対策を
各種施すことにより、光導波素子で伝播される光情報信
号のS/N比を高めることができる。
【0014】前述のように、位置決め部材5の厚さによ
って、光源1と導波層3とのギャップLaが決まる。こ
のギャップLaは図3に示すように結合効率に大きく影
響するので所定の寸法に正確に設定する必要がある。し
かるに、位置決め部材5はスパッタリング、蒸着等の手
段を用いて成膜させることによって形成することができ
るので、μmオーダーで所定の極めて薄い厚さに、しか
も厚さをコントロールしながら正確に形成することがで
き、よって、上記ギャップLaを正確に設定することが
できる。なお、図3は、裏升吾他著「光ディスクピック
アップの光集積回路化」電子情報通信学会技術研究報告
通信技報 OQE85─72,39(1985)から
出典したものである。
【0015】図4は、位置決め部材5の形成方法の一例
を示す。ここでは、導波層3を形成した基板2を複数
個、一つの基板2の導波層3に別の基板2が密着するよ
うにして重ね、これら基板2及び導波層3の一端面側に
シャドウマスク15を重ねる。シャドウマスク15は、
複数の基板2相互間に表われた導波層3の端面を遮蔽す
るように位置決めし、その状態でスパッタリング、蒸着
等を行い、基板2の端面に位置決め部材5を成膜する。
位置決め部材5の成膜厚さをコントロールすることによ
り、任意の厚さでかつ厚さ精度の高い位置決め部材5を
得ることができる。
【0016】本発明を適用可能な光導波路の構造は特に
限定されるものではなく、図5(a)ないし(h)に示
すような各種構造の光導波路に適用することができる。
【0017】
【発明の効果】 光源と導波層とのギャップは結合効率
に大きく影響するので、所定の寸法に正確に設定する必
要があるが、本発明によれば、導波層が一体に形成され
た基板の光源側の側面に、光源の端面が当接してこの光
源と上記基板の光源側の端面との位置決めを行う位置決
め部材を成膜によって設けたため、この位置決め部材の
厚さ寸法によって上記ギャップを設定することができ、
所定の大きさのギャップを正確かつ簡単に得ることがで
きる。
【0018】また、上記位置決め部材の形成によって非
結合光を遮断することができるため、光情報信号のノイ
ズを低減できる効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる光導波素子の実施例を示す断面
正面図である。
【図2】同上実施例の要部を拡大して示す断面正面図で
ある。
【図3】光源と導波層とのギャップの大きさと結合光率
との関係を示す線図である。
【図4】本発明にかかる光導波素子を得るための位置決
め部材の形成方法の例を示す正面図である。
【図5】本発明に適用可能な光導波路の各種構造の例を
示す側面図である。
【図6】従来の光導波素子の一例を示す断面正面図であ
る。
【図7】従来の光導波素子の別の例を示す断面正面図で
ある。
【符号の説明】
1 光源 2 基板 3 導波層 5 位置決め部材

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源と、この光源からの出射光を伝播さ
    せる導波層とを有する光導波素子において、上記導波層
    が一体に形成された基板の光源側の端面に上記光源の端
    面が当接してこの光源と上記基板の光源側の端面との位
    置決めを行う位置決め部材が成膜により形成されている
    ことを特徴とする光導波素子
JP3116945A 1991-04-19 1991-04-19 光導波素子 Expired - Fee Related JP2812812B2 (ja)

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