JP2005084673A - 高められた光学的結合効率をもつ光検出器／光ファイバ装置及びこれを形成する方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明は、光学的結合領域において光透過媒体が光検出器に光学的に結合され、該光学的結合領域において光学的厚膜が該光透過媒体と光検出器との間に形成された光学的なサブアセンブリ装置を提供する。
【解決手段】 光検出器上に形成された光学的厚膜は、光学的に結合された光ファイバと光検出器との間の光学的結合効率を改善する。光学的厚膜は、空気の屈折率と、光学的に適合する被覆が配設される光検出器の屈折率との間の屈折率を有する。シリコーンを、光検出器上の光学的厚膜被覆として形成することが有利となる。
【選択図】 図２

Description

本発明は、最も一般には、光電子的電気通信システムに関する。より特定的には、光検出器に光学的に結合された光透過媒体を含む組立体に関する。

レーザー、光ダイオードその他の光検出器のような光電子的装置は、電気通信その他の産業により広く用いられるようになった。光電子的装置においては、電気信号が、光ファイバのような光透過媒体に沿って移動する光信号に変換され、次いで、電気信号に変換し戻される。光源と光透過媒体との間に、並びに、光透過媒体と光信号を検出して該光信号を電気信号に変換する光検出器との間に良好な光電子的結合を確実にするために、高い光学的結合効率が必要とされる。

ファイバ結合パッケージにおいて、光ファイバを通って伝播するレーザー光は、用途によって、レンズによるか又は直接のファイバ結合により、光検出器の能動領域に結合される。光学的結合領域は、典型的には、光ファイバと光検出器との間に空隙を含み、レンズが用いられる場合には、光ファイバとレンズとの間、並びに、レンズと光検出器との間の空隙を含む。光性能又は結合効率は、空気／ファイバ、空気／レンズ、及び空気／光検出器の界面における反射に起因する光損失により制限される。これらの効果は、このような用途において用いられる光検出器のより小さな能動領域のために、２．５ないし１０Ｇｂ／ｓ（１秒当たりのギガバイト）の適用例において、特に顕著である。このことは、２．５ないし１０Ｇｂ／ｓの適用例において高い光性能又は高い光学的結合効率を達成することをますます困難にし、逆に、後続するＲＦ性能に悪影響を与えることになる。したがって、反射に起因する光損失が排除されるか又は最小にされる光検出器に結合された光ファイバを提供することが望ましい。この問題に対処する以前の試みは、合焦を改良するのに種々の異なるレンズの種類の使用を含んでいた。この手法は、パッケージの大きさ、及び特に高速の用途について用いられるもののような大きさが減少されたパッケージにおいて、このようなレンズを位置させるのに利用可能な空間により制限される。さらに、この手法は、空気／光検出器の界面における光の反射に起因する光学的結合効率損失に対処するものではない。

直接のファイバ結合パッケージにおいては、光学的結合を改良する以前の試みは、光ファイバを光検出器に対して、ある角度で劈開することを含んでおり、この角度は後方反射を最小にするように選択される。別の手法は、光検出器を、検出されている光ビームの主要な方向に対して、ある角度に傾斜させることであった。しかしながら、劈開角度を変更することは、光源に向けて戻されるレーザー光を避けるように反射方向を変更するに過ぎない。光損失は、光ファイバの角度を付けられた端面と空気との間の界面、並びに、光検出器と空気との間の界面における反射に起因して、依然として存在する。反射はさらに、光検出器が傾斜されてた場合にも依然として存在し、したがって、光損失及び減少された光学的結合効率も依然として存在する。

したがって、光ファイバのような光透過媒体を光検出器に結合して、該光ファイバと該光検出器との間で失われる光の量が最小になるか又は排除されるようにすることが望ましい。

これら及びその他の必要性に対処するため、及びその目的を考慮して、本発明は、光学的結合領域において光透過媒体が光検出器に光学的に結合され、該光学的結合領域において光学的厚膜が該光透過媒体と光検出器との間に形成された光学的なサブアセンブリ装置を提供する。
本発明の一態様は、光学的結合領域において光検出器に光学的に結合された光透過媒体と、該光学的結合領域における該光検出器上に配設された光学的厚膜とを備えた装置である。光学的厚膜は、屈折率が空気の屈折率と光検出器の屈折率との間にある。

本発明の別の態様は、光学的結合領域において光検出器に光学的に結合された光透過媒体と、該光検出器上に形成された個別の光学的厚膜とを備えた装置である。個別の光学的厚膜は、光が光透過媒体に伝播するときに、該光透過媒体から光検出器に結合される光の量を増加させる。
本発明のさらに別の態様は、光透過媒体の滑らかな表面を含む光学的結合領域において光検出器に光学的に結合された光透過媒体を含み、光学的厚膜被覆がこの滑らかな表面と該光検出器との間に置かれた装置である。
本発明の別の態様は、光ファイバと光検出器との間の光学的結合効率を増加させる方法である。この方法は、光ファイバと光検出器とを設け、光学的結合領域において該光ファイバを該光検出器に光学的に結合し、該光学的結合領域において被覆を該検出器上に配設することからなる。この被覆は、空気の第１屈折率と被覆が設けられる光検出器表面の第２屈折率との間にある屈折率を有する。

本発明は、添付の図面と併せて以下の詳細な説明を読むことにより最もよく理解される。一般的な方法により、図面の種々の特徴は、必ずしも縮尺通りではないことが強調される。対照的に、種々の特徴の寸法は、明確さのために任意に拡大又は縮小されて、本発明の特徴を強調するようにしている。この明細書及び図全体にわたり、同様の番号は同様の特徴を指す。以下の図面が含まれる。

本発明の態様は、空気／光検出器の界面における反射に起因する光損失を減少させることにより、光学的結合効率が向上するように、該空気／光検出器の界面に導入される光学的厚膜を提供する。本発明は、レンズを利用する光学的結合及び直接ファイバが結合された用途の両方についての用途を見出すものである。本発明は、２．５Ｇｂ／ｓ又はそれより大きい周波数を用いるシステムのような高速システムにおける用途を見出すものである。

図１Ａないし図１Ｃは、光ファイバ電気通信産業において一般に用いられる光検出器を示す。図１Ａは、例示的な前方照明光検出器を示し、図１Ｂ及び図１Ｃは、後方照明光検出器を示す。各々の実施形態において、光検出器７は、ベース基板１上に配設され、能動領域５を含む。対向表面１１は、入射光が衝突する光検出器の表面として定められる。このように、図１Ａないし図１Ｃの実施形態の各々において、光は光検出器７の上から光検出器に対して向けられる。光検出器７は、能動領域５が基板内に形成されたか又は該基板上に形成された半導体基板とすることができる。図１Ｂは、対向表面１１がマイクロレンズに形状された後方照明光検出器７を示す。光検出器７は、シリコンで形成してもよいし、又は高速用途においては、特別に、ＩｎＰ、ＧａＡｓ又はＧｅのようなＩＩＩ群又はＩＶ群の半導体材料で形成してもよい。シリコンは、約３．３の屈折率を有し、他の実施形態において光検出器７を形成するのに用いられるＩｎＰ、ＧａＡｓ又はＧｅのような材料は、３．０から３．５までの範囲に渡る屈折率を含むことができる。図１Ａないし図１Ｃは、本発明において用いることができる一般に用いられる光検出器を限定するものではなく、例示的なものであることが意図されている。他の実施形態においては、光検出器は異なる材料で形成することができ、異なる構成を含むことができる。

図２は、光学的結合領域において例示的な前方照明光検出器に光連結された例示的な光透過媒体の従来技術の配置を示す。この光透過媒体は、端面３を有する光ファイバ１５のような光ファイバとすることができる。端面３は、図示実施形態においては、光検出器７の能動領域５の対向表面１１に対して斜めに角度が付けられている。光学的結合領域における光ファイバ１５と光検出器７との間には、空隙９がある。このように、光検出器７の能動領域５の対向表面１１は、空気９との界面、すなわち空気／光検出器の界面を形成する。後方照明光検出器が用いられる他の例示的な実施形態においては、対向表面１１が能動領域５を含む表面とは反対にある該光検出器の表面になることがある。光伝播方向１７は、光ファイバ１５のコアにほぼ沿っている。

図３Ａは、本発明の光学的サブアセンブリの例示的な実施形態を示す。光学的サブアセンブリの光学的結合装置は光透過媒体、すなわち例示的な実施形態においては光ファイバ１５を含む。光ファイバ１５及び光検出器７は、対向表面１１を含む光学的結合領域において光学的に結合されている。光学的結合領域とは、光ファイバ１５のような一方のコンポーネントからの光が、能動領域５を含む光検出器７のような別のコンポーネントに結合されるか又は移動する領域のことをいう。光ファイバ１５は、密封されたパッケージ又は密封されていないパッケージで光検出器７に結合することができる。能動領域５は、光学的結合領域内に、及び光の光路に沿って配置することができる。光の伝播方向１７は、光ファイバ１５のコアにほぼ沿っている。種々のよく知られた技術及び機械的手段を用いて、光ファイバ１５を光検出器７に対する定位置に固定するようにすることができる。エポキシ、はんだその他の材料を用いることができる。種々の例示的な実施形態においては、光ファイバ１５を光フェルールにより保持することができるが、図３Ａには示されていない。図３Ａに示される例示的な実施形態においては、光は、光ファイバ１５の縦方向にほぼ沿った光の伝播方向１７に沿って伝播し、光ビームは端面３において該光ファイバから出て、光ビームの送給方向２７に沿って、光検出器７の能動領域５の方向に送給される。端面３は、例示的な実施形態においては、磨かれて滑らかなものとすることができる。例えば、端面３は、０．１ミクロンよりも大きくない表面粗さＲ_aを含むように磨かれることがあるが、他の実施形態においては、他の表面を用いてもよい。さらに、端面３と対向表面１１との間の平行ではない関係は、例示的なものに過ぎないことが意図される。他の実施形態においては、端面３は光検出器７の能動領域５の対向表面１１とほぼ平行にすることができるか、又は該端面３と該対向表面１１との間の角度は７度から９度までの角度の変化を示すことがある図示される関係とは異なっていてもよい。

図３Ａに示される例示的な前方照明の実施形態においては、対向表面１１は能動領域５の表面を含む。後方照明の実施形態のような他の例示的な実施形態においては、対向表面１１は、能動領域５の反対にある光検出器７の表面とすることができる。光検出器の端面１１は、図３Ａに示される実施形態においては、光学的厚膜で被覆されている。図２（従来技術）に示される空気／光検出器の界面は、ここでは図３Ａの例示的な実施形態における光学的厚膜により置き換えられる。光学的厚膜１３と光ファイバ１５の端面３との間には空隙９がある。
図３Ｂは、光学的厚膜１３が光検出器７の能動領域５の対向表面１１上の光学的結合領域に形成された別の例示的な実施形態を示す。レンズ２３は、光学的結合領域における光ファイバ１５と光検出器７との間に形成された空隙９内に配設されて、該光ファイバからの光を該光検出器７に向けることを助ける。レンズ２３は、ガラス、石英、サファイヤその他の適当な材料で形成することができ、該レンズ２３は、種々の通常の手段を用いて、光ファイバ１５及び光検出器７に対して固定的に位置させることができる。

光ファイバ１５は、当業者に利用可能な種々の適当な光ファイバのいずれであってもよい。単一モードの又は多モードの光ファイバを用いることができる。他の例示的な実施形態においては、光ファイバ１５は、他の適当な光透過媒体により置き換えることができる。光検出器７は、ＰＩＮ光検出器であるか又は種々の他の適当な光ダイオード、或いは当業者に利用可能な種々の光検出器とすることができる。能動領域５の大きさ及び該能動領域５を形成するのに用いられる材料は、種々の例示的な実施形態における用途によって異なる。光ファイバ１５の大きさは、さらに、種々の例示的な実施形態で異なってよい。光ファイバ１５及び光検出器７の相対的位置、並びに、これらのコンポーネント間の間隔、及び前方又は後方照明検出器の選択は、用途によって異なる。種々の適当なコンポーネントの配置を用いることができる。

光ファイバ１５の主要な伝播方向１７に沿って伝播する光は、図３Ａに示される光源２１により与えられる。光源２１は、ＶＣＳＥＬ（垂直方向のキャビティ表面から発するレーザー）のようなレーザーであることができるが、他の例示的な実施形態においては、他のレーザーその他の光学的な源を用いることができる。このような光学的な源により生成され、光ファイバ１５に沿って伝播し、端面３上及び光ビーム送給方向２７に沿った光送出位置１９において光ファイバ１５を出て行く光は、光検出器７により検出されて、通常の電子回路（図示せず）と関連して該光検出器により電子信号に変換される。種々の波長の光を用いることができる。種々の例示的な実施形態においては、１３１０ナノメートル又は１５５０ナノメートルの波長を有する光を用いることができるが、他の例示的な実施形態においては、他の波長を有する光を用いることができる。本発明は、２．５ないし１０Ｇｂ／ｓ及びそれより高い周波数で作動する電気通信システムのような高速電気通信システムにおける用途を見出すものである。
種々の通常の方法を適当に用いて、光学的厚膜１３を光路に沿った光検出器７に、すなわち、図３Ａ及び図３（Ｂ）に示される例示的な実施形態においては、端面１１上に形成するようにすることができる。例えば、マイクロ分配能力をもったシリンジを用いて、光学的厚膜１３を適用するようにすることができる。

光学的厚膜１３は、例えば空気９のような入射側媒体と、例えば光検出器７であるか、又はより具体的には該光検出器７の対向表面１１上に形成されたフィルム又は被覆のいずれかのような伝送媒体との間に置かれる。光学的厚膜１３は、作動波長において、最小の吸収をもって透明であるように選択されることが好ましい。光学的厚膜１３は、入射側媒体と、該光学的厚膜が配設される界面を形成する伝送媒体のそれぞれの屈折率の間にある屈折率を含む。例えば、光検出器７の空気９の間にある空気／光検出器の界面上に形成された光学的厚膜１３は、該空気９の屈折率と該光検出器７の対向表面１１が形成される材料の屈折率との間にある屈折率を有するように選択される。図示される前方照明の実施形態におけるように、対向表面１１が能動領域５の対向表面を含む場合には、光学的厚膜１３は、空気の屈折率と該能動領域５の表面が形成される材料の屈折率、より具体的には該能動領域５の上層の屈折率との間にある屈折率を有する。後方照明の実施形態（図１Ｂ及び図１Ｃを参照）においては、光学的厚膜１３は空気の屈折率と光検出器７の能動領域５を含む表面とは反対の対向表面１１を形成する材料の屈折率との間にある屈折率を有する。

本発明の光学的厚膜なしでは、入射側媒体と伝送媒体との間に形成された単一の界面についての垂直入射の反射率は、フレスネルの法則により求められ、以下のように表され、

ここで、Ｒ＝反射率
ｎ_i＝入射側媒体の屈折率
ｎ_t＝伝送媒体の屈折率である。
屈折率ｎ_oを含む光学的厚膜のような光学的に適合する被覆が、入射／伝送された界面に加えられる場合には、一次近似についての合計反射は以下のように表され、

ここで、Ｒ_T−−合計反射率
ｎ_o−−光学的に適合する被覆の反射率である。
ｎ_i＜ｎ_o＜ｎ_tである場合には、
Ｒ_T＜Ｒ
を有することになる。

例示的な実施形態においては、光ファイバ１５は、１．４から１．５までの範囲内にあるか又はより具体的には１．４３から１．４６の範囲内にある屈折率を含むことができるが、他の実施形態においては、他の屈折率を有する光ファイバを用いることができる。空気９は、典型的には、おおよそ１．０の屈折率を指定される。光検出器７の関連の圧屈折率は、該光検出器７の上方対向表面１１が形成される材料により求められる。このように、図示される前方照明の実施形態においては、関連のある屈折率は、対向表面１１の一部を形成する能動領域５の上面を形成する材料の屈折率である。１つの例示的な実施形態においては、関連のある屈折率は約２．２とすることができる。例示的な実施形態においては、能動領域５の、すなわち対向表面の上方対向表面は、窒化シリコンで形成することができるが、他の例示的な実施形態においては、他の材料を用いることができる。例えば、１．８から２．２までの範囲の屈折率を有する材料を用いることができる。他の例示的な実施形態においては、種々の他の屈折率をもった対向表面を有する光検出器を用いることができる。

図１Ｂ及び図１Ｃに示される後方照明の例示的な実施形態においては、光検出器７の対向表面１１は窒化シリコンであるか又は１．８から２．２までの範囲内の屈折率を有する同様のフィルムであってよい。後方照明構成のさらに別の例示的な実施形態においては、このようなフィルムを用いることはなく、対向表面１１の関連のある屈折率は、光検出器７が形成される材料の屈折率であることになる。このような後方照明の実施形態、並びに、図３Ａ及び図３Ｂの前方照明の実施形態においては、対向表面１１は光学的厚膜１３で被覆される。

例示的な実施形態においては、光学的厚膜１３は１．４０の屈折率を含むことができる。例示的な実施形態においては、光学的厚膜１３はシリコーンであってよい。例示的な実施形態においては、光学的厚膜１３は、好ましくは、該光学的厚膜が形成される界面を形成するそれぞれの材料の屈折率の間にある屈折率を有する他の材料で形成されてもよい。例えば、光学的厚膜１３は、１．３７ないし１．４５までの範囲内の屈折率を含むことができる。光学的厚膜１３の適用部分及び形状は、異なる例示的な実施形態により異なってよい。光学的厚膜１３は、コンポーネント表面上に形成される材料の層であってよい。光学的厚膜１３は、１つの例示的な実施形態においては、１０ないし３０ミクロンの範囲内にある厚さ１５を含むことができるが、他の実施形態においては、他の厚さを用いることができる。例えば、光学的厚膜１３は、図４Ｂ及び図５に示されるように、光学的結合領域において光ファイバ１５と光検出器７との間に連続的に延びることができる。

出願人は、光学的厚膜１３はさらに、光ファイバ１５により光検出器７に送給された光の発散による光損失を減少させることを発見した。本発明の光学的被覆１３を用いない従来技術の構成においては、極めて小さなビームの直径及び長い波長を有する光が用いられる場合には、光ファイバのコアから放射される光ビームの発散が顕著であった。このことが、次いで、特に１０Ｇｂ／ｓの光検出器結合用途において、光損失及び結合効率を低くすることになる。さらに、光学的厚膜の適用は、光検出器における光の放射照度特性を改良し、すなわち、光は該光学的厚膜を用いることにより均一に分散されるようになる。
図４Ａ及び図４Ｂはさらに、本発明による光学的厚膜１３を用いる光学的結合構成の例示的な実施形態を示す。図４Ａ及び図４Ｂにおいては、光ファイバ１５の縦方向は、光検出器７の対向表面１１に対してほぼ直角である。端面３’は、光の伝播方向１７に沿って光ファイバ１５を通って伝播する光が、磨かれた端面３’において内部反射して、該光ファイバ１５の縦方向に対してほぼ直角の光送出位置１９及び光ビーム送給方向２７において該光ファイバから出て行くように、角度が付けられて磨かれる。光送出位置１９は、光ファイバ１５の側壁に形成される。このような側壁は、一般に滑らかな表面である。１つの例示的な実施形態においては、側壁は、０．１ミクロンより少ない表面粗さＲ_aを含むことができる。図４Ａにおいては、対向表面１１は上述のように光学的な薄膜１３で被覆される。

図４Ｂは、図４Ａに示される実施形態と同様の光学的結合構成の例示的な実施形態であるが、ここでは光学的厚膜１３が光検出器７の能動領域５の対向表面１１から光学的結合領域における光ファイバ１５の光送出位置１９にまで連続的に延びている。この例示的な実施形態においては、光ファイバ１５と光路に沿った光検出器７との間には空隙がない。この例示的な実施形態においては、本発明は、光学的厚膜１３の屈折率が空気の屈折率より高くなるようにするものであるため、入射側媒体及び伝送媒体の屈折率間の差が減少して、方程式＃１におけるような光ファイバ／空気及び光検出器／空気の界面と比較すると、光ファイバ／光学的厚膜及び光検出器／光学的厚膜の界面における反射率が減少されるようになる。光学的厚膜１３の屈折率は、空気の屈折率と光ファイバの屈折率との間、及び空気の屈折率と光検出器７の対向表面１１の屈折率との間のうちの少なくとも１つであることになる。図４（Ｂ）に示される構成は例示的なものに過ぎなく、他の例示的な実施形態においては、光学的厚膜は、光学的結合領域において、光ファイバの端面と光検出器の表面との間に連続的に延びることができる。更に、図４Ａ及び図４Ｂに示される側壁出射構成で用いられる光検出器は、後方照明の光検出器とすることができる。

図５は、後方照明の光検出器である光検出器７に結合され、能動領域５が、光学的結合領域に、及び光路に沿って配設された、光ファイバ１５の構成の例示的な実施形態を示す。対向表面１１は、能動領域５が形成される表面とは反対にある光検出器７の表面である。図５に示される例示的な実施形態においては、後方照明の光検出器７の対向表面１１はマイクロレンズに形状されて、光学的厚膜１３は、対向表面１１と光送出位置１９との間に連続的に延びる。
光検出器の表面上に配設された光学的厚膜は、種々の例示的な実施形態において、付加的に、光検出器の密封保護を与えることができる。したがって、光学的厚膜をもった光検出器は、密封されていないパッケージにおいて、並びに、真空その他の媒体とすることができる間隙が光ファイバ１５と光検出器７との間に形成された密封パーケージにおいて用いることができる。

上述のものは、本発明の原理を例示するものに過ぎない。したがって、当業者は、ここに明確に述べられていないか又は示されていないが本発明の範囲及び精神の中に含まれるその原則を具現する種々の構成を考案できることが理解される。例えば、本発明の原理を光検出器のアレイに適用することができる。
さらに、ここに挙げられた例及び条件語句は、主として特に教育目的のために過ぎなく、本発明の原理及び技術を促進するために発明者により生み出された概念の理解を助け、このように特別に挙げられた実施例及び条件に限定されることなく解釈されるように意図するものに過ぎない。さらに、ここに挙げられた本発明の原理、態様、及び実施形態についての説明、並びに、その特定の実施例は、構造的及び機能的均等技術の両方を含むことが意図される。さらに、このような均等技術は、現在知られている均等技術及び将来開発される均等技術の両方、すなわち、構造に関係なく、同じ機能を実行するように開発されたいずれの要素をも含むことが意図される。したがって、本発明の範囲は、ここに図示された説明された例示的な実施形態に限られるものではないことが意図される。逆に、本発明の範囲及び精神は特許請求の範囲及びその均等技術により具現される。

例示的な前方照明光検出器を示す例示的な光検出器の側面図である。 例示的な後方照明光検出器を示す例示的な光検出器の側面図である。 例示的な後方証明光検出器を示す例示的な光検出器の側面図である。 従来技術により光検出器に結合された光ファイバを示す側面図である。 直接結合された構成の、本発明による光ファイバと光検出器との間に形成された光学的厚膜の例示的な実施形態を示す。 レンズを含む、本発明による光ファイバと光検出器との間に形成された光学的厚膜の例示的な実施形態を示す。 本発明により光ファイバと光検出器との間に形成された光学的厚膜の別の例示的な実施形態を示す。 本発明により光ファイバと光検出器との間に形成された光学的厚膜の別の例示的な実施形態を示す。 本発明により光ファイバと光検出器との間に形成された光学的に適合する被覆のさらに別の例示的な実施形態を示す。

符号の説明

１：ベース基板
３：端面
５：能動領域
７：光検出器
９：空隙
１１：対向表面
１３：光学的厚膜
１５：光ファイバ
１７：伝播方向
１９：送給位置
２１：光源
２３：レンズ
２７：光ビーム送給方向

Claims (7)

1. 光学的結合領域において光検出器に光学的に結合された光透過媒体と、前記光学的結合領域において前記光検出器上に配設された光学的厚膜とを備える装置であって、前記厚膜が空気の第１屈折率と前記光検出器の第２屈折率との間の屈折率を有することを特徴とする装置。
2. 前記光検出器は能動領域を含み、前記光透過媒体は光が前記光透過媒体を出る光送出位置を含み、前記光学的結合領域は前記能動領域と前記光送出位置とを含むものである請求項１に記載の装置。
3. 前記第２屈折率が、前記光学的結合領域において前記光検出器の対向表面を形成する材料の屈折率からなる請求項１に記載の装置。
4. 前記材料が窒化シリコンを含み、前記対向表面が前記光検出器の能動領域の表面を含む請求項３に記載の装置。
5. 前記光検出器が、基板の第１表面上で前記光透過媒体から前記光検出器に結合された光の光路に沿って能動領域をもった基板を備え、前記対向表面は前記基板の対向する表面である請求項３に記載の装置。
6. 前記光学的厚膜がシリコーンで形成され、前記厚膜の屈折率が約１．３４から１．４５までの範囲内にある請求項１に記載の装置。
7. 前記光学的厚膜が１０ないし３０ミクロンまでの範囲内の厚さを含み、前記第２屈折率が約３．０から３．５までの範囲及び約１．８から２．２までの範囲のうちの１つの中にあり、前記光学的厚膜が、空気と前記光検出器との間で反射される光の量を減少させるようになった請求項１に記載の装置。

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