JP2811201B2 - 液体又は溶融体の塗布方法 - Google Patents
液体又は溶融体の塗布方法Info
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- JP2811201B2 JP2811201B2 JP1134855A JP13485589A JP2811201B2 JP 2811201 B2 JP2811201 B2 JP 2811201B2 JP 1134855 A JP1134855 A JP 1134855A JP 13485589 A JP13485589 A JP 13485589A JP 2811201 B2 JP2811201 B2 JP 2811201B2
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- spray
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B14/00—Arrangements for collecting, re-using or eliminating excess spraying material
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- Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、液体又は溶融体のミストの塗布方法に係
る。
る。
［従来の技術］ 元来、液体又は溶融体を霧化した場合、それらのミス
トが四方八方に飛散することは避けられなかった。特に
エアスプレイにおいては非常に多く約70％が、エアレス
スプレイにおいては40〜50％が、そして静電塗布におい
ても約15％が飛散し、損失していたのである。
トが四方八方に飛散することは避けられなかった。特に
エアスプレイにおいては非常に多く約70％が、エアレス
スプレイにおいては40〜50％が、そして静電塗布におい
ても約15％が飛散し、損失していたのである。
上述の問題点を解決するために、ブース内にて、又は
第７図に見られるような全包囲型のチャンバ（79）内に
てスプレイ塗布する方法などもとられてきたが、特に高
粘度の液体などにおいては、それらのミスト（M1）がチ
ャンバの内壁面上に付着し、流下もし難く、時間の経過
と共に固化し、それらが積層（Ml1）して厚くなり、そ
れらの除去には多くの手間を要し、それのみならず、回
収してもその材料が変質していることから、材料の再調
整が必要であったのである。このように、多大の材料の
損失と必要工程とを招いてきたものであるが、これらの
解決には、業界では多年の懸案事項であった。
第７図に見られるような全包囲型のチャンバ（79）内に
てスプレイ塗布する方法などもとられてきたが、特に高
粘度の液体などにおいては、それらのミスト（M1）がチ
ャンバの内壁面上に付着し、流下もし難く、時間の経過
と共に固化し、それらが積層（Ml1）して厚くなり、そ
れらの除去には多くの手間を要し、それのみならず、回
収してもその材料が変質していることから、材料の再調
整が必要であったのである。このように、多大の材料の
損失と必要工程とを招いてきたものであるが、これらの
解決には、業界では多年の懸案事項であった。
［解決しようとする問題点］ 上述のように、液体などの霧化時、発生したミストの
周辺への飛散並びにそれらのロスを、より最小限度に抑
えつつ塗布することが発明の動機であり、目的である。
周辺への飛散並びにそれらのロスを、より最小限度に抑
えつつ塗布することが発明の動機であり、目的である。
［問題点を解決するための手段］ 本発明の要旨は、液体又は溶融体等のミストの塗布方
法において、被塗物の塗布面に対向する部分を開放し、
他は密閉されたチャンバー（Ｘ）内に、少なくとも一対
の余剰ミストを付着捕捉するための循環移動体を設け、
前記チャンバー内に設けた液体又は溶融体のミスト発生
装置により発生したミストを、前記循環移動体の間を通
過させ、チャンバー開放部から被塗物の塗布面に塗布す
るとともに、前記循環移動体に付着捕捉された余剰ミス
トとチャンバー下部に沈降したミストを回収するように
した、液体又は溶融体の塗布方法としたものである。
法において、被塗物の塗布面に対向する部分を開放し、
他は密閉されたチャンバー（Ｘ）内に、少なくとも一対
の余剰ミストを付着捕捉するための循環移動体を設け、
前記チャンバー内に設けた液体又は溶融体のミスト発生
装置により発生したミストを、前記循環移動体の間を通
過させ、チャンバー開放部から被塗物の塗布面に塗布す
るとともに、前記循環移動体に付着捕捉された余剰ミス
トとチャンバー下部に沈降したミストを回収するように
した、液体又は溶融体の塗布方法としたものである。
先ず本発明の基本的方法について説明する。そもそも
ミスト発生手段としては種々あるが、最も多く使われる
代表的なものとしてはスプレイ方式である。よってそれ
をとりあげて説明する。第１図及び第２図を参照された
い。ノズル（１）より液体又は溶融体（以下溶融体なる
呼称は省略する）が上向きに向けてスプレイ（SP）され
る。いうまでもなくその上方には被塗物（Ｏ）が置かれ
て塗布される。その際、前述した如く、スプレイ流（S
P）中のミスト（Ｍ）の大半は被塗物（Ｏ）に塗布され
ず、スプレイ流の周辺に飛散する。同図においては、被
塗物（Ｏ）の塗布面に対向する部分を開放したチャンバ
ー（Ｘ）の内部であって、スプレイノズル（１）の周辺
の四方にベルトコンベアを縦型に４基（2A,2B,2C,2D）
置いて、それらのベルト面（3A,3B,3C,3D）上に上記ミ
スト（Ｍ）を付着させ、それらは密集凝集して液膜（M
l）となる。と同時に同ベルト（3A,3B,3C,3D）は循環走
行する。その道程のある箇所において、上記付着した液
膜（Ml）をスクレーパ（8A,8B,8C,8D）などの除去器に
より掻き落とし、チャンバー（Ｘ）の下部の集液槽
（９）などに溜める。それを手力又はポンプなどにより
回収して上記スプレイ用液体タンク内に戻し、再使用し
つつ、スプレイを行うのである。
ミスト発生手段としては種々あるが、最も多く使われる
代表的なものとしてはスプレイ方式である。よってそれ
をとりあげて説明する。第１図及び第２図を参照された
い。ノズル（１）より液体又は溶融体（以下溶融体なる
呼称は省略する）が上向きに向けてスプレイ（SP）され
る。いうまでもなくその上方には被塗物（Ｏ）が置かれ
て塗布される。その際、前述した如く、スプレイ流（S
P）中のミスト（Ｍ）の大半は被塗物（Ｏ）に塗布され
ず、スプレイ流の周辺に飛散する。同図においては、被
塗物（Ｏ）の塗布面に対向する部分を開放したチャンバ
ー（Ｘ）の内部であって、スプレイノズル（１）の周辺
の四方にベルトコンベアを縦型に４基（2A,2B,2C,2D）
置いて、それらのベルト面（3A,3B,3C,3D）上に上記ミ
スト（Ｍ）を付着させ、それらは密集凝集して液膜（M
l）となる。と同時に同ベルト（3A,3B,3C,3D）は循環走
行する。その道程のある箇所において、上記付着した液
膜（Ml）をスクレーパ（8A,8B,8C,8D）などの除去器に
より掻き落とし、チャンバー（Ｘ）の下部の集液槽
（９）などに溜める。それを手力又はポンプなどにより
回収して上記スプレイ用液体タンク内に戻し、再使用し
つつ、スプレイを行うのである。
なお、上述の説明にては、四基のベルトコンベア（2
A,2B,2C,2D）を縦型としたが、これらの相対する一対
を、第３図に示すように、それら上部を互いに内側に傾
斜せしめて、即ちスプレイパターン（SP1）の両側を制
御して、塗布することもできる。この場合、スプレイパ
ターン上の粒子の径とそれらの密度の比較的均一した中
央部を塗布することができるので、均一した良質の塗布
を行うことができる。
A,2B,2C,2D）を縦型としたが、これらの相対する一対
を、第３図に示すように、それら上部を互いに内側に傾
斜せしめて、即ちスプレイパターン（SP1）の両側を制
御して、塗布することもできる。この場合、スプレイパ
ターン上の粒子の径とそれらの密度の比較的均一した中
央部を塗布することができるので、均一した良質の塗布
を行うことができる。
上述にてはスプレイ流（SP1）方向を上向きとした
が、これを第４図に示すように下向き（SP3）にするこ
ともできる。
が、これを第４図に示すように下向き（SP3）にするこ
ともできる。
また第５図に示すように横向き（SP4）にすることも
できる 以上はすべてベルトコンベアを使用することを述べた
が、それらをロール（第６図参照）を使用しても、概ね
同様の効果が得られる。
できる 以上はすべてベルトコンベアを使用することを述べた
が、それらをロール（第６図参照）を使用しても、概ね
同様の効果が得られる。
上記スプレイ方式は、二流体スプレイ又はエアレスス
プレイ何れでもよいし、またそれら以外のミスト発生装
置として最近用いられてきたベル型ノズル方式、回転デ
ィスク方式などの遠心霧化装置又は超音波による霧化装
置等によるミスト発生装置においても同様に適用するこ
とができる。
プレイ何れでもよいし、またそれら以外のミスト発生装
置として最近用いられてきたベル型ノズル方式、回転デ
ィスク方式などの遠心霧化装置又は超音波による霧化装
置等によるミスト発生装置においても同様に適用するこ
とができる。
また、その塗布時に静電塗布を行い、塗着効率を上げ
ることが望ましい。但し、該方法の場合は、非爆発性の
材料に限るものであることはいうまでもない。
ることが望ましい。但し、該方法の場合は、非爆発性の
材料に限るものであることはいうまでもない。
［実施例１］ 次に上述の方法に基づく装置の実施例について説明す
る。再び第２図を参照されたい。被塗物の塗布面に対向
する部分を開放し他の部分は密閉されたチャンバー
（Ｘ）内に設けたスプレイノズル（１）は上方に向け
て、またその四方を四基のベルトコンベア（2A,2B,2C,2
D）が縦型に設けられる。該ベルトコンベアのベルト面
上にはそれぞれスクレーパ（8A,8B,8C,8D）が、また、
それらの下方にはホッパ状の集液槽（９）が設けられ
る。そして集液槽の底部には排出口（9A）が取り付けら
れる。
る。再び第２図を参照されたい。被塗物の塗布面に対向
する部分を開放し他の部分は密閉されたチャンバー
（Ｘ）内に設けたスプレイノズル（１）は上方に向け
て、またその四方を四基のベルトコンベア（2A,2B,2C,2
D）が縦型に設けられる。該ベルトコンベアのベルト面
上にはそれぞれスクレーパ（8A,8B,8C,8D）が、また、
それらの下方にはホッパ状の集液槽（９）が設けられ
る。そして集液槽の底部には排出口（9A）が取り付けら
れる。
なお、上記縦型ベルトコンベアの中の一対（2A,2C又
は2B,2D）の各々のローラ軸受は横移動装置付きである
ことが望ましい。
は2B,2D）の各々のローラ軸受は横移動装置付きである
ことが望ましい。
また、溶融体を塗布する際には、上記ベルトコンベ
ア、スクレーパ等は加温することが望ましい。
ア、スクレーパ等は加温することが望ましい。
次に前記した本発明の装置の実施例の作用について説
明する。液体又は溶融体はガン（10）を介して、チャン
バー（Ｘ）内に設けたスプレイノズル（１）からスプレ
イ（SP）され、スプレイ方向のチャンバー（Ｘ）の開放
部に置かれた被塗物（Ｏ）上に塗布される。しかしその
スプレイパターン（SP）の周辺に発生したミスト（Ｍ）
は、その周辺に設けたベルトコンベア（2A.2B,2C,2D）
のベルト面（3A,3B,3C,3D）上に付着し、それらが累積
して液膜（Ml）状となり、ベルトと共に上方に移動す
る。これらベルトはＵターンして下向きに向きを変えて
降下し、その下方で該ベルト面に対して設けられている
除去器例えばスクレーパ（8A,8B,8C,8D）などによって
上記液膜（Ml）は取り除かれ、落下して集液槽（９）内
に一時溜められる。そしてその底部に設けた排出口（9
A）より、上記液体又は溶融体のスプレイ用のタンク内
に戻され、いわゆる回収されて再使用されるのである。
明する。液体又は溶融体はガン（10）を介して、チャン
バー（Ｘ）内に設けたスプレイノズル（１）からスプレ
イ（SP）され、スプレイ方向のチャンバー（Ｘ）の開放
部に置かれた被塗物（Ｏ）上に塗布される。しかしその
スプレイパターン（SP）の周辺に発生したミスト（Ｍ）
は、その周辺に設けたベルトコンベア（2A.2B,2C,2D）
のベルト面（3A,3B,3C,3D）上に付着し、それらが累積
して液膜（Ml）状となり、ベルトと共に上方に移動す
る。これらベルトはＵターンして下向きに向きを変えて
降下し、その下方で該ベルト面に対して設けられている
除去器例えばスクレーパ（8A,8B,8C,8D）などによって
上記液膜（Ml）は取り除かれ、落下して集液槽（９）内
に一時溜められる。そしてその底部に設けた排出口（9
A）より、上記液体又は溶融体のスプレイ用のタンク内
に戻され、いわゆる回収されて再使用されるのである。
なお、上記縦型ベルトコンベアの中の一対（2A,2C又
は2B,2D）を平行的に横移動することによって、それら
の間隔（Ｓ）を調整し、スプレイパターン（SP）の両側
を制限することができる。それによってスプレイパター
ン（SP）の中央部即ちミストの粒度及び密度の比較的均
一な部分のみの塗布を行うことができるのである。
は2B,2D）を平行的に横移動することによって、それら
の間隔（Ｓ）を調整し、スプレイパターン（SP）の両側
を制限することができる。それによってスプレイパター
ン（SP）の中央部即ちミストの粒度及び密度の比較的均
一な部分のみの塗布を行うことができるのである。
上記スプレイは二流体スプレイ、又はエアレススプレ
イ何れでも良い。その他のミスト発生装置例えば最近使
われてきたベル型ノズル方式、回転ディスク方式などの
遠心霧化装置、又は超音波による霧化装置などに対して
も、それらの周囲にベルトコンベヤを設けて同様の作用
効果を得ることができるのである。また除去器も上記の
スクレーパ以外にローラ、エアナイフ、バキュウムノズ
ル等何れでも良い。なお、ベルトの回転方向は、その取
付条件、位置によって決定されるのでどちら向きでも良
い。
イ何れでも良い。その他のミスト発生装置例えば最近使
われてきたベル型ノズル方式、回転ディスク方式などの
遠心霧化装置、又は超音波による霧化装置などに対して
も、それらの周囲にベルトコンベヤを設けて同様の作用
効果を得ることができるのである。また除去器も上記の
スクレーパ以外にローラ、エアナイフ、バキュウムノズ
ル等何れでも良い。なお、ベルトの回転方向は、その取
付条件、位置によって決定されるのでどちら向きでも良
い。
［実施例２］ 第３図を参照されたい。前記特定発明における構造に
おいて、チャンバー（Ｘ）内に四基の対峙（じ）するベ
ルトコンベアの中の二基即ち一対を、互いに内側に向け
て傾斜せしめ、スプレイ流（SP1）の両側部即ちスプレ
イパターンの周辺部をベルト面（13A,13C）にて阻止
し、それによってミストの粒径や密度の比較的均一な中
央部のみを被塗物（Oa）面上に当てて均質な塗布膜を得
つつ、より効果的にミストを回収しようとするものであ
る。
おいて、チャンバー（Ｘ）内に四基の対峙（じ）するベ
ルトコンベアの中の二基即ち一対を、互いに内側に向け
て傾斜せしめ、スプレイ流（SP1）の両側部即ちスプレ
イパターンの周辺部をベルト面（13A,13C）にて阻止
し、それによってミストの粒径や密度の比較的均一な中
央部のみを被塗物（Oa）面上に当てて均質な塗布膜を得
つつ、より効果的にミストを回収しようとするものであ
る。
その構造を説明すると、チャンバー（Ｘ）内に相対峙
（じ）する二基一対のベルトコンベア（12A,12C）の下
方即ちスプレイ流（SP1）の反対方向側のガイドロール
の軸（15A,15C）は固定とし、他方即ちスプレイ流（S
P1）の方向側のロール軸（17A,17C）は移動調整可能と
する。即ち各ベルトコンベア（12A,12C）自体は、下方
部を軸としてベルトの傾斜角度を自由に設定即ち開閉を
行うことができるのである。これは、特定発明において
説明した如く、スプレイ流（SP1）の両側を制限するこ
とにより、より良い塗布を行うためである。また、上記
固定のロール軸（15A,15C）も移動調整可能とし、ベル
トコンベアを全体的に水平移動させてもよい。ただし、
その場合他の一対（12B,12D）は傾斜させることできな
い場合もあるので、その場合はそれらのローラ軸は固定
式となる。またより簡略化して該固定部即ちベルトの他
の一対を取り除いてもよい。
（じ）する二基一対のベルトコンベア（12A,12C）の下
方即ちスプレイ流（SP1）の反対方向側のガイドロール
の軸（15A,15C）は固定とし、他方即ちスプレイ流（S
P1）の方向側のロール軸（17A,17C）は移動調整可能と
する。即ち各ベルトコンベア（12A,12C）自体は、下方
部を軸としてベルトの傾斜角度を自由に設定即ち開閉を
行うことができるのである。これは、特定発明において
説明した如く、スプレイ流（SP1）の両側を制限するこ
とにより、より良い塗布を行うためである。また、上記
固定のロール軸（15A,15C）も移動調整可能とし、ベル
トコンベアを全体的に水平移動させてもよい。ただし、
その場合他の一対（12B,12D）は傾斜させることできな
い場合もあるので、その場合はそれらのローラ軸は固定
式となる。またより簡略化して該固定部即ちベルトの他
の一対を取り除いてもよい。
［実施例３］ 上記実施例にては、スプレイ方向を上向きとしたが、
第４図に示す如く下向きとすることもできる。通常の下
向きスプレイにおいては、スプレイ流（SP3）のパター
ンを制御するために邪魔板等を設けるが、そこに液滴が
溜まり、被塗物状に滴下することが多い。本実施例にお
いては、チャンバー（Ｘ）内に設けたベルトなどが直ち
にミストを付着させ、そのまま移動して回収するので、
液滴の滴下による被塗物の汚染を防ぎ、良質の塗布を行
うことができるのである。
第４図に示す如く下向きとすることもできる。通常の下
向きスプレイにおいては、スプレイ流（SP3）のパター
ンを制御するために邪魔板等を設けるが、そこに液滴が
溜まり、被塗物状に滴下することが多い。本実施例にお
いては、チャンバー（Ｘ）内に設けたベルトなどが直ち
にミストを付着させ、そのまま移動して回収するので、
液滴の滴下による被塗物の汚染を防ぎ、良質の塗布を行
うことができるのである。
［実施例４］ 本実施例は、スプレイ流（SP4）を横向きとしたもの
である（第５図参照）。本例においても、チャンバー
（Ｘ）内に設けたノズル（41）からの液ダレは下側ベル
ト（42C）によりキャッチされ、また上側ベルト（42A）
に付着した液滴も、直ちに移動して運ばれるので被塗物
の汚染を未然に防止できるのである。
である（第５図参照）。本例においても、チャンバー
（Ｘ）内に設けたノズル（41）からの液ダレは下側ベル
ト（42C）によりキャッチされ、また上側ベルト（42A）
に付着した液滴も、直ちに移動して運ばれるので被塗物
の汚染を未然に防止できるのである。
［実施例５］ 上記各実施例は、すべてベルトコンベアを使用した
が、本実施例においては、それらの代わりにロールを使
用したことである。第６図を参照されたい。チャンバー
（Ｘ）内において上向きのスプレイ流（SP5）の両側を
挟んで、二本一対の各ロール（52A,52C）の各軸（54A,5
4C）をそれぞれ左右にスライドして、それらロールの間
隔（S5）を所要の距離に調整し得るものであり、循環す
るロール面上に付着したミストを回収するなど、それら
の作用効果は、上記ベルトコンベアを用いた場合と殆ど
同様である。なお、本実施例の特長は構造簡単というこ
とであるが、上記ベルトに比し、ミストのキャッチ面積
が小であるということが欠点である。
が、本実施例においては、それらの代わりにロールを使
用したことである。第６図を参照されたい。チャンバー
（Ｘ）内において上向きのスプレイ流（SP5）の両側を
挟んで、二本一対の各ロール（52A,52C）の各軸（54A,5
4C）をそれぞれ左右にスライドして、それらロールの間
隔（S5）を所要の距離に調整し得るものであり、循環す
るロール面上に付着したミストを回収するなど、それら
の作用効果は、上記ベルトコンベアを用いた場合と殆ど
同様である。なお、本実施例の特長は構造簡単というこ
とであるが、上記ベルトに比し、ミストのキャッチ面積
が小であるということが欠点である。
［効果］ 本発明の方法によれば、ミスト発生装置によるミスト
の塗布において、そのミスト発生装置と被塗物との間に
飛散する余剰ミストを循環移動体をもって囲むことによ
ってそれらの余剰ミストをチャンバー（Ｘ）内に設けた
循環移動体面上に付着せしめ、それを循環道程において
直ちに回収し再使用することが可能になると共に、また
上記移動体のミストを包囲することによって溶剤の揮発
を抑止し、即回収された材料は変質を最小限に抑えられ
るので、材料の浪費を防ぎ、同時に速乾性の液体の塗布
作業も容易となり、更にまた上記移動体の必要とする配
設によって上記ミストの流れを調整し、流度や密度の均
一な部分のみを塗布することができ、また下方に向けて
塗布した場合でも、液滴が被塗物を汚染することなく良
質の塗布物を得ることに貢献するものである。
の塗布において、そのミスト発生装置と被塗物との間に
飛散する余剰ミストを循環移動体をもって囲むことによ
ってそれらの余剰ミストをチャンバー（Ｘ）内に設けた
循環移動体面上に付着せしめ、それを循環道程において
直ちに回収し再使用することが可能になると共に、また
上記移動体のミストを包囲することによって溶剤の揮発
を抑止し、即回収された材料は変質を最小限に抑えられ
るので、材料の浪費を防ぎ、同時に速乾性の液体の塗布
作業も容易となり、更にまた上記移動体の必要とする配
設によって上記ミストの流れを調整し、流度や密度の均
一な部分のみを塗布することができ、また下方に向けて
塗布した場合でも、液滴が被塗物を汚染することなく良
質の塗布物を得ることに貢献するものである。
第１図は本発明の基本的方法の説明図、第２図は同上図
上の側断面図、第３図は実施例２のスプレイ流が上向き
の場合の説明図、第４図は実施例３のスプレイ流が下向
きの場合の説明図、第５図は実施例４のスプレイ流が横
向きの場合の説明図、第６図は実施例５のロールを使用
した場合の説明図、第７図は従来のブース内での塗布方
法の説明図。 主な符号の説明、 1,11,21,31,41,51……スプレイノズル、2A,2B,2C,2D,12
A,12C,32A,32C,42A,42C……ベルトコンベア、52A,52C…
…ロール、SP,SP1,SP3,SP4,SP5……スブレイ流、Ｍ……
ミスト、Ml……液膜、8a,8b,8c,8d,18a,18c,38a,38c,48
a,48c……除去器、O,Oa,Oc,Od,Oe……被塗物。
上の側断面図、第３図は実施例２のスプレイ流が上向き
の場合の説明図、第４図は実施例３のスプレイ流が下向
きの場合の説明図、第５図は実施例４のスプレイ流が横
向きの場合の説明図、第６図は実施例５のロールを使用
した場合の説明図、第７図は従来のブース内での塗布方
法の説明図。 主な符号の説明、 1,11,21,31,41,51……スプレイノズル、2A,2B,2C,2D,12
A,12C,32A,32C,42A,42C……ベルトコンベア、52A,52C…
…ロール、SP,SP1,SP3,SP4,SP5……スブレイ流、Ｍ……
ミスト、Ml……液膜、8a,8b,8c,8d,18a,18c,38a,38c,48
a,48c……除去器、O,Oa,Oc,Od,Oe……被塗物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−104572（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−265666（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−147471（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−152671（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭61−87564（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭57−173862（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭52−147163（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B05B 15/04 104 B05D 3/00
Claims (1)
- 【請求項１】被塗物の塗布面に対向する部分を開放し、
他はほぼ密閉されたチャンバー（Ｘ）内に、少なくとも
一対の余剰ミストを付着捕捉するための循環移動体を設
け、前記チャンバー内に設けた液体又は溶融体のミスト
発生装置により発生したミストを、前記循環移動体の間
を通過させ、チャンバー開放部から被塗物の塗布面に塗
布するとともに、前記循環移動体に付着捕捉された余剰
ミストとチャンバー下部に沈降したミストを回収するよ
うにしたことを特徴とする、液体又は溶融体の塗布方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1134855A JP2811201B2 (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | 液体又は溶融体の塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1134855A JP2811201B2 (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | 液体又は溶融体の塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03148A JPH03148A (ja) | 1991-01-07 |
| JP2811201B2 true JP2811201B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=15138045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1134855A Expired - Fee Related JP2811201B2 (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | 液体又は溶融体の塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2811201B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1989
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|---|---|
| JPH03148A (ja) | 1991-01-07 |
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