JP2808111B2 - 精密研磨用砥石及び精密研磨方法 - Google Patents
精密研磨用砥石及び精密研磨方法Info
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- JP2808111B2 JP2808111B2 JP62325395A JP32539587A JP2808111B2 JP 2808111 B2 JP2808111 B2 JP 2808111B2 JP 62325395 A JP62325395 A JP 62325395A JP 32539587 A JP32539587 A JP 32539587A JP 2808111 B2 JP2808111 B2 JP 2808111B2
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- polishing
- abrasive grains
- emulsions
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は硬脆材、金属材、合成樹脂材などの被研磨
材を精密研磨仕上げする精密研磨用砥石及び精密研磨方
法に関するものである。 〈従来の技術〉 被研磨材を研磨する方法としては、ラッピング砥石に
よる研磨方式、研磨布紙加工やホーニング加工等の結合
砥粒方式、バフやラップを使用した散布砥粒方式、粘弾
性流動研磨やブラスト加工による遊離砥粒方式などが知
られている。 そして、上記した各研磨方法のうち、ラッピング砥石
による研磨方法は回転する砥石に被研磨材を押圧して研
磨するので、ラップ圧力やラップ速度を大きくとれるた
め、高能率な研磨方法として広範に利用されている。 また、本発明者等は、先に砥粒と液体とからなって液
体の表面張力若くは粘着力により砥粒を保持する組成物
を圧縮成型した砥石を用いて精密研磨する方法を特開昭
62−107965号公報で提案した。 さらに、ラッピング砥石の目詰りを防止するため、例
えば特開昭58−223565号公報には砥石を多孔質にするこ
とが記載されているし、例えば特開昭61−8276号公報に
は連続気泡を有する無機質体の各孔内に砥粒を固着した
砥石が記載されている。 〈発明が解決しようとする問題点〉 しかし、上記した研磨方法で使用する砥石は、実質的
に結合剤を含有しないので脆く、加工能率や加工精度は
良好であるが、減耗速度が大きく、寿命が短いという欠
点があった。 また、前記した遊離砥粒方式は、研磨後の仕上がり面
に優れた形状精度を与えるが、加工能率が低い。 一般的に、研磨作業においては加工能率と加工圧との
間に一定の総合関係が有って加工圧を上げれば能率が向
上するが、遊離砥粒の場合には通常加工圧が数100g/cm2
程度になると飽和し、これ以上の加工圧にしても能率が
向上しない。 一方、固形砥石を使用して精密研磨する場合、数100g
/cm2以上の高圧を作用しても飽和しないから、高い加工
能率が可能になる。 しかし、従来の固定砥粒方式、すなわち固形砥粒を使
用する研磨作業では、研磨作業の進行とともに砥石の表
面が研磨屑による目詰りが生じるし、砥粒の刃先の摩耗
による目潰れが生じるが、この目詰りや目潰れは加工能
率を低下させるので上記した表面形状の修正と同様に研
磨作業を中断して工具により砥石の表面を削り取るいわ
ゆるドレッシング作業をしなければならないので、研磨
作業を連続的に実施するのが困難であった。 更に、前記した特許公開公報に記載されているよう
に、砥石をポーラスにしたり表面に浅い溝を形成する
と、目詰りを生じるまでの時間は延長されるが、砥石の
孔が詰った時点では研磨能力が低下するし、しかも砥石
の表面の被研磨材が接触する砥粒、すなわち研磨に作用
する砥粒の数が減少することになって研磨能率が低下す
る。 また、研磨能率を高めるために加工圧を上げると、砥
石表面の砥粒数が少ないので、１個の砥粒に作用する荷
重が過大となり、数Kg/cm2程度の加工圧で被研磨材に傷
を発生させることがあり、精密研磨の目的を達成できな
い恐れがあるばかりでなく、砥石の表面の形状精度に狂
いが生じるので定期的にドレッシング作業をしなければ
ならない。 したがって、精密研磨に好適な固形砥石は、作業能率
を十分に発揮し得る加工圧、すなわち数100g/cm2から数
Kg/cm2の範囲で使用しても被研磨材に傷を与えることが
なく、また目詰りや目潰れを生じることなく連続的に研
磨作業ができるものでなければならない。 〈問題点を解決するための手段〉 本発明は上記に鑑み提案されたもので、砥粒を有機系
ボンド剤で結合し、成形してなる精密研磨用砥石におい
て、上記ボンド剤の量が砥石中に３〜10重量％の範囲に
あり、かつ砥粒の量（砥粒率）が砥石の40体積％以上を
占めることを特徴とする精密研磨用砥石を提供するもの
である。 また、本発明は上記構成の砥石と被研磨材との相対的
な摺動速度が200m/min以下であるとき、研磨に伴う砥石
の減耗速度が３μm/min以上であることを特徴とする精
密研磨方法をも提供するものである。 本発明の砥粒間の結合力を弱められた砥石は、研磨作
業において砥石と被研磨材とが摺動するのに伴なって砥
石の表面の砥粒が剥離したり離脱、脱落する減耗を生じ
るのであるが、この減耗量が大きく、３μm/min以上で
あると砥石に研磨作業における表面の自己更新機能、す
なわちセルフドレッシングの機能が付与されて、研磨の
連続作業が可能になるのである。 この砥石の自己更新機能は、摺動する砥石と被研磨材
との相対的な速度に影響を受けるところがあり、速度が
速くなると装置の振動など運動精度が低下して修正され
た形状に狂いを生じることになるので、本発明の実施は
相対的な摺動速度が200m/min以下の研磨作業に適応す
る。 本発明の砥石に使用するボンド剤としては、石油樹
脂、バレイショデンプン，コーンスターチ等のデンプン
類、アルギン酸ソーダ，ガラクタン，寒天，アラビアゴ
ム等の植物性粘質物類、にかわ，ゼラチン，カゼイン等
のタンパク質類等の天然高分子や、メチルセルロース，
エチルセルロース，ヒドロキシエチルセルロース，カル
ボキシルキメチルセルロース等のセルロース類、可溶性
デンプン，デキストリン等のデンプン系の半合成物類、
ポリビニルアルコール，アクリル酸ソーダ，ポリエチレ
ンオキシド等の合成物類、酢酸ビニルエマルジョン，ワ
ックスエマルジョン，アクリル系エマルジョン等の樹脂
エマルジョン等の熱可塑性の粉末樹脂などであって、使
用目的により一種又は二種以上を混合して使用すること
ができる。 砥石のセルフドレッシングの機能は、砥石を構成する
ボンド剤が砥石中に含有する割合によって影響される
が、本発明の砥石においては通常の砥石におけるボンド
剤の含有率よりも十分に小さくて、３〜10重量％の範囲
が望ましい。そして、ボンド剤が砥石中に３重量％以下
となると、成型された砥石は物理的強度に乏しくて軟弱
となり、大きな加工圧を作用させたり高速で回転させる
と崩壊したり破砕する危険が有り、この危険は砥石を構
成する砥粒として微少な粒径のものを使用するか、若く
は砥粒率、すなわち砥石中における砥粒の充填密度を高
めることにより回避することができる。また、砥石中に
ボンド剤が10重量％以上含有すると、結合度が高すぎて
一般砥石と同様に砥粒がなかなか脱落しなくて目詰りや
目潰れを生じやすい。 また、砥粒の量（砥粒率）は高いほど曲げ強度が高く
なるが、前記のように砥石の40体積％以上とする。 本発明の砥石を構成する砥粒としては、例えばダイヤ
モンド、コランダム、エメリ、ザクロ石、珪石、トリボ
リ、焼成ドロマイト、熔融アルミナ、人造エメリ、炭化
ケイ素、炭化ホウ素、酸化鉄、焼成アルミナ、酸化クロ
ム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化珪素、酸化
カルシウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸
マグネシウム等一般の砥石に使用されている砥粒をすべ
て利用することができる。また、通常の精密研磨に使用
されている砥粒の粒径はおよそ30μｍ以下のものである
が、本発明での砥石の砥粒も上記した粒径のものでよ
く、十分に物理的強度を期待することができる。 〈実施例〉 以下に本発明の実施例を説明する。 実施例（１） SiC−＃3000の砥粒とアクリル樹脂のボンド剤とから
構成され、減耗量ならびに砥粒とボンド剤との割合が相
違する結合度の低い９種類の砥石を用いて、3Kg/cm2の
加工圧で50分間軟鋼表面の平面研磨作業をした。各砥石
の減耗量とボンド剤の割合は表１に示す通りである。
尚、砥粒の量（砥粒率）は40体積％以上になるように圧
縮成形した。 研磨作業を終了した後、被研磨材の研磨減量を測定
し、また研磨面の傷の発生状態を観察したら、表２のよ
うな結果であった。 砥粒の減耗量が３μm/min未満であったNo8,No9の砥石
は、著しく研磨量が小さくて研磨作業の過程で砥石の目
詰りや目潰れが進行していると認められたが、減耗量が
３μm/min以上のNo1からNo7までの各砥石の場合は、研
磨量が大きくてセルフドレッシング作用が有り、研磨機
能が維持されていたと認めることができる。 また、研磨傷はどの砥石にもほとんど認められなかっ
た。 実施例（２） SiC−＃3000の砥粒95％とアクリルスチレンのボンド
剤５％とから構成される砥石を造粒方法及び加工圧を変
えることにより砥粒の充填密度を変化させた時の物理的
強度を表３に示す。 表３に示すように、同一量のボンドであれば充填密度
が高いほど曲げ強度及び砥粒率が高くなる。 実施例（３） Al2O−＃1000の砥粒95％とPVA（低重合度ポリビニー
ルアルコール）５％とからなる砥石を回転テーブルにセ
ットし、シリコーンブロックを加工圧5Kg/cm2で押し付
け、相対的な摺動の速度70m/minで研磨した。この研磨
条件における砥石の減耗量は7.1μm/minであった。 研磨の結果は下記の表４の通りであった。 上記した表４で明らかなように、本発明の砥石は高い
加工量が得られ、表面状態も良好であった。 そして、比較の対象として同じ回転テーブルに市販の
PVA砥石を置き、本発明の砥石と同一条件でシリコーン
ブロックを研磨したら，研磨量が比較的大きかったが表
面に多数の傷が生じた。また、ウレタン樹脂製のパッド
を回転テーブルに貼り付け、Al2O3−＃1000の砥粒を水
に10重量％の濃度で懸濁したスラリー200ml/minの流速
でパッドに流し掛けながら研磨したが、その結果は研磨
量も低く、かなりの傷を生じた。なお、上記した研磨作
業での加工圧は1Kg/cm2であるが、これ以上の圧力を作
用させるとパッドが損傷するので作用できなかった。
材を精密研磨仕上げする精密研磨用砥石及び精密研磨方
法に関するものである。 〈従来の技術〉 被研磨材を研磨する方法としては、ラッピング砥石に
よる研磨方式、研磨布紙加工やホーニング加工等の結合
砥粒方式、バフやラップを使用した散布砥粒方式、粘弾
性流動研磨やブラスト加工による遊離砥粒方式などが知
られている。 そして、上記した各研磨方法のうち、ラッピング砥石
による研磨方法は回転する砥石に被研磨材を押圧して研
磨するので、ラップ圧力やラップ速度を大きくとれるた
め、高能率な研磨方法として広範に利用されている。 また、本発明者等は、先に砥粒と液体とからなって液
体の表面張力若くは粘着力により砥粒を保持する組成物
を圧縮成型した砥石を用いて精密研磨する方法を特開昭
62−107965号公報で提案した。 さらに、ラッピング砥石の目詰りを防止するため、例
えば特開昭58−223565号公報には砥石を多孔質にするこ
とが記載されているし、例えば特開昭61−8276号公報に
は連続気泡を有する無機質体の各孔内に砥粒を固着した
砥石が記載されている。 〈発明が解決しようとする問題点〉 しかし、上記した研磨方法で使用する砥石は、実質的
に結合剤を含有しないので脆く、加工能率や加工精度は
良好であるが、減耗速度が大きく、寿命が短いという欠
点があった。 また、前記した遊離砥粒方式は、研磨後の仕上がり面
に優れた形状精度を与えるが、加工能率が低い。 一般的に、研磨作業においては加工能率と加工圧との
間に一定の総合関係が有って加工圧を上げれば能率が向
上するが、遊離砥粒の場合には通常加工圧が数100g/cm2
程度になると飽和し、これ以上の加工圧にしても能率が
向上しない。 一方、固形砥石を使用して精密研磨する場合、数100g
/cm2以上の高圧を作用しても飽和しないから、高い加工
能率が可能になる。 しかし、従来の固定砥粒方式、すなわち固形砥粒を使
用する研磨作業では、研磨作業の進行とともに砥石の表
面が研磨屑による目詰りが生じるし、砥粒の刃先の摩耗
による目潰れが生じるが、この目詰りや目潰れは加工能
率を低下させるので上記した表面形状の修正と同様に研
磨作業を中断して工具により砥石の表面を削り取るいわ
ゆるドレッシング作業をしなければならないので、研磨
作業を連続的に実施するのが困難であった。 更に、前記した特許公開公報に記載されているよう
に、砥石をポーラスにしたり表面に浅い溝を形成する
と、目詰りを生じるまでの時間は延長されるが、砥石の
孔が詰った時点では研磨能力が低下するし、しかも砥石
の表面の被研磨材が接触する砥粒、すなわち研磨に作用
する砥粒の数が減少することになって研磨能率が低下す
る。 また、研磨能率を高めるために加工圧を上げると、砥
石表面の砥粒数が少ないので、１個の砥粒に作用する荷
重が過大となり、数Kg/cm2程度の加工圧で被研磨材に傷
を発生させることがあり、精密研磨の目的を達成できな
い恐れがあるばかりでなく、砥石の表面の形状精度に狂
いが生じるので定期的にドレッシング作業をしなければ
ならない。 したがって、精密研磨に好適な固形砥石は、作業能率
を十分に発揮し得る加工圧、すなわち数100g/cm2から数
Kg/cm2の範囲で使用しても被研磨材に傷を与えることが
なく、また目詰りや目潰れを生じることなく連続的に研
磨作業ができるものでなければならない。 〈問題点を解決するための手段〉 本発明は上記に鑑み提案されたもので、砥粒を有機系
ボンド剤で結合し、成形してなる精密研磨用砥石におい
て、上記ボンド剤の量が砥石中に３〜10重量％の範囲に
あり、かつ砥粒の量（砥粒率）が砥石の40体積％以上を
占めることを特徴とする精密研磨用砥石を提供するもの
である。 また、本発明は上記構成の砥石と被研磨材との相対的
な摺動速度が200m/min以下であるとき、研磨に伴う砥石
の減耗速度が３μm/min以上であることを特徴とする精
密研磨方法をも提供するものである。 本発明の砥粒間の結合力を弱められた砥石は、研磨作
業において砥石と被研磨材とが摺動するのに伴なって砥
石の表面の砥粒が剥離したり離脱、脱落する減耗を生じ
るのであるが、この減耗量が大きく、３μm/min以上で
あると砥石に研磨作業における表面の自己更新機能、す
なわちセルフドレッシングの機能が付与されて、研磨の
連続作業が可能になるのである。 この砥石の自己更新機能は、摺動する砥石と被研磨材
との相対的な速度に影響を受けるところがあり、速度が
速くなると装置の振動など運動精度が低下して修正され
た形状に狂いを生じることになるので、本発明の実施は
相対的な摺動速度が200m/min以下の研磨作業に適応す
る。 本発明の砥石に使用するボンド剤としては、石油樹
脂、バレイショデンプン，コーンスターチ等のデンプン
類、アルギン酸ソーダ，ガラクタン，寒天，アラビアゴ
ム等の植物性粘質物類、にかわ，ゼラチン，カゼイン等
のタンパク質類等の天然高分子や、メチルセルロース，
エチルセルロース，ヒドロキシエチルセルロース，カル
ボキシルキメチルセルロース等のセルロース類、可溶性
デンプン，デキストリン等のデンプン系の半合成物類、
ポリビニルアルコール，アクリル酸ソーダ，ポリエチレ
ンオキシド等の合成物類、酢酸ビニルエマルジョン，ワ
ックスエマルジョン，アクリル系エマルジョン等の樹脂
エマルジョン等の熱可塑性の粉末樹脂などであって、使
用目的により一種又は二種以上を混合して使用すること
ができる。 砥石のセルフドレッシングの機能は、砥石を構成する
ボンド剤が砥石中に含有する割合によって影響される
が、本発明の砥石においては通常の砥石におけるボンド
剤の含有率よりも十分に小さくて、３〜10重量％の範囲
が望ましい。そして、ボンド剤が砥石中に３重量％以下
となると、成型された砥石は物理的強度に乏しくて軟弱
となり、大きな加工圧を作用させたり高速で回転させる
と崩壊したり破砕する危険が有り、この危険は砥石を構
成する砥粒として微少な粒径のものを使用するか、若く
は砥粒率、すなわち砥石中における砥粒の充填密度を高
めることにより回避することができる。また、砥石中に
ボンド剤が10重量％以上含有すると、結合度が高すぎて
一般砥石と同様に砥粒がなかなか脱落しなくて目詰りや
目潰れを生じやすい。 また、砥粒の量（砥粒率）は高いほど曲げ強度が高く
なるが、前記のように砥石の40体積％以上とする。 本発明の砥石を構成する砥粒としては、例えばダイヤ
モンド、コランダム、エメリ、ザクロ石、珪石、トリボ
リ、焼成ドロマイト、熔融アルミナ、人造エメリ、炭化
ケイ素、炭化ホウ素、酸化鉄、焼成アルミナ、酸化クロ
ム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化珪素、酸化
カルシウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸
マグネシウム等一般の砥石に使用されている砥粒をすべ
て利用することができる。また、通常の精密研磨に使用
されている砥粒の粒径はおよそ30μｍ以下のものである
が、本発明での砥石の砥粒も上記した粒径のものでよ
く、十分に物理的強度を期待することができる。 〈実施例〉 以下に本発明の実施例を説明する。 実施例（１） SiC−＃3000の砥粒とアクリル樹脂のボンド剤とから
構成され、減耗量ならびに砥粒とボンド剤との割合が相
違する結合度の低い９種類の砥石を用いて、3Kg/cm2の
加工圧で50分間軟鋼表面の平面研磨作業をした。各砥石
の減耗量とボンド剤の割合は表１に示す通りである。
尚、砥粒の量（砥粒率）は40体積％以上になるように圧
縮成形した。 研磨作業を終了した後、被研磨材の研磨減量を測定
し、また研磨面の傷の発生状態を観察したら、表２のよ
うな結果であった。 砥粒の減耗量が３μm/min未満であったNo8,No9の砥石
は、著しく研磨量が小さくて研磨作業の過程で砥石の目
詰りや目潰れが進行していると認められたが、減耗量が
３μm/min以上のNo1からNo7までの各砥石の場合は、研
磨量が大きくてセルフドレッシング作用が有り、研磨機
能が維持されていたと認めることができる。 また、研磨傷はどの砥石にもほとんど認められなかっ
た。 実施例（２） SiC−＃3000の砥粒95％とアクリルスチレンのボンド
剤５％とから構成される砥石を造粒方法及び加工圧を変
えることにより砥粒の充填密度を変化させた時の物理的
強度を表３に示す。 表３に示すように、同一量のボンドであれば充填密度
が高いほど曲げ強度及び砥粒率が高くなる。 実施例（３） Al2O−＃1000の砥粒95％とPVA（低重合度ポリビニー
ルアルコール）５％とからなる砥石を回転テーブルにセ
ットし、シリコーンブロックを加工圧5Kg/cm2で押し付
け、相対的な摺動の速度70m/minで研磨した。この研磨
条件における砥石の減耗量は7.1μm/minであった。 研磨の結果は下記の表４の通りであった。 上記した表４で明らかなように、本発明の砥石は高い
加工量が得られ、表面状態も良好であった。 そして、比較の対象として同じ回転テーブルに市販の
PVA砥石を置き、本発明の砥石と同一条件でシリコーン
ブロックを研磨したら，研磨量が比較的大きかったが表
面に多数の傷が生じた。また、ウレタン樹脂製のパッド
を回転テーブルに貼り付け、Al2O3−＃1000の砥粒を水
に10重量％の濃度で懸濁したスラリー200ml/minの流速
でパッドに流し掛けながら研磨したが、その結果は研磨
量も低く、かなりの傷を生じた。なお、上記した研磨作
業での加工圧は1Kg/cm2であるが、これ以上の圧力を作
用させるとパッドが損傷するので作用できなかった。
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フロントページの続き
(72)発明者 佐藤 三倉
神奈川県藤沢市遠藤912 湘南ライフタ
ウン羽根沢団地18―104
(56)参考文献 特開 昭62−297071（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−57874（ＪＰ，Ａ)
特開 昭50−5996（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名)
B24D 3/02
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．砥粒を、石油樹脂、バレイショデンプン，コーンス
ターチ等のデンプン類、アルギン酸ソーダ，ガラクタ
ン，寒天，アラビアゴム等の植物性粘質物類、にかわ，
ゼラチン，カゼイン等のタンパク質類等の天然高分子
や、メチルセルロース，エチルセルロース，ヒドロキシ
エチルセルロース，カルボキシルメチルセルロース等の
セルロース類、可溶性デンプン，デキストリン等のデン
プン系の半合成物類、ポリビニルアルコール，アクリル
酸ソーダ，ポリエチレンオキシド等の合成物類、酢酸ビ
ニルエマルジョン，ワックスエマルジョン，アクリル系
エマルジョン等の樹脂エマルジョン等の熱可塑性の粉末
樹脂などから選ばれる一種又は二種以上の有機系ボンド
剤で結合し、成形してなる精密研磨用砥石において、上
記ボンド剤の量が砥石中に３〜10重量％の範囲にあり、
かつ砥粒の量が砥石の40体積％以上を占めることを特徴
とする精密研磨用砥石。 ２．砥粒を、石油樹脂、バレイショデンプン，コーンス
ターチ等のデンプン類、アルギン酸ソーダ，ガラクタ
ン，寒天，アラビアゴム等の植物性粘質物類、にかわ，
ゼラチン，カゼイン等のタンパク質類等の天然高分子
や、メチルセルロース，エチルセルロース，ヒドロキシ
エチルセルロース，カルボキシルメチルセルロース等の
セルロース類、可溶性デンプン，デキストリン等のデン
プン系の半合成物類、ポリビニルアルコール，アクリル
酸ソーダ，ポリエチレンオキシド等の合成物類、酢酸ビ
ニルエマルジョン，ワックスエマルジョン，アクリル系
エマルジョン等の樹脂エマルジョン等の熱可塑性の粉末
樹脂などから選ばれる一種又は二種以上の有機系ボンド
剤で結合し、成形した砥石を用いて研磨を行なう精密研
磨方法において、上記ボンド剤の量が砥石中に３〜10重
量％の範囲にあり、かつ砥粒の量が砥石の40体積％以上
を占め、砥石と被研磨材との相対的な摺動速度が200m/m
in以下であるとき、研磨に伴う砥石の減耗速度が３μm/
min以上となるように研磨することを特徴とする精密研
磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62325395A JP2808111B2 (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | 精密研磨用砥石及び精密研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62325395A JP2808111B2 (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | 精密研磨用砥石及び精密研磨方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01171768A JPH01171768A (ja) | 1989-07-06 |
| JP2808111B2 true JP2808111B2 (ja) | 1998-10-08 |
Family
ID=18176360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62325395A Expired - Fee Related JP2808111B2 (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | 精密研磨用砥石及び精密研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2808111B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110509170B (zh) * | 2019-08-09 | 2020-11-03 | 大连理工大学 | 一种环抛机用超硬磨盘和修正盘 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5244478B2 (ja) * | 1973-05-21 | 1977-11-08 | ||
| JPS6257874A (ja) * | 1985-09-04 | 1987-03-13 | Mizuho Kenma Toishi Kk | 超砥粒研削砥石 |
| JPS62297071A (ja) * | 1986-06-17 | 1987-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 研磨用砥石 |
-
1987
- 1987-12-24 JP JP62325395A patent/JP2808111B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01171768A (ja) | 1989-07-06 |
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