JP2807240B2 - 流体の貫流の制御のための制御弁 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、特に、流体的ピストン・シリンダ・ユニッ
トを有している流体的減衰ユニットにおける流体の貫流
の制御のための制御弁であり、この場合、流体供給管及
び流体流出管を設けられた室の内部に絞り機構が設けら
れている制御弁に関するものである。

従来の技術 この種類の公知の構成においては、貫流する管の中に
流動体が組み込まれ、この流動体に、貫流の調節のため
に、外部から圧力を作用させることができる袋が置か
れ、そのようにして、貫流横断面を変えることができる
ようになっている。しかしながら、内部圧力に関係して
貫流の自動的な制御を行うことは、この構成において
は、不可能である。

発明が解決しようとする課題 本発明は、一方では、わずかな場所が必要であるだけ
であり、他方では、制御されるべき流体の上昇する圧力
の際には、減衰作用が上昇される、頭書に述べられた種
類の制御弁を得ることを、その課題とするものである。

課題を解決するための手段 本発明によると、この課題は、流体供給管が圧力の衝
撃を受ける室に連結されており、この室は、少なくとも
周辺領域の部分の上を、好適には、円筒形状の横断面を
有しているシリンダ外表面により境界された室の中に設
けられており、また、この室は、２個のたわみ可能な、
本質的にシリンダ外表面の母線に対して平行に延びてい
る、シリンダ外表面の近くまで達している薄板と、２個
の端部壁とにより境界されており、更に、それらの端部
壁の内、流体流出管に向いている端部壁が、シリンダ外
表面により、あるすきまを形成していることにより解決
される。

それ故、通常の減衰状態の下においては、一つの端部
壁と、シリンダ外表面との間のすきまを通って並びに薄
板と、シリンダ外表面との間の自由なままとなっている
すきまを通って、減衰作用を決定することが達成され
る。しかしながら、室の内部の圧力が上昇するならば、
その時には、たわみ可能な薄板は、シリンダ外表面に向
かって変形し、これにより、薄板とシリンダ外表面との
間の自由のままとなっているすきまが、減少され、これ
により、より高い圧力の際にすらも、単に、必要な運動
の許容のために必要とされる流体量だけが、通過するこ
とができるだけであるようにする。

好適には、室は、シリンダ外表面により境界された室
の中に差し込まれた弁体の中に形成され、この場合、弁
体は、室の下部に、切り込みを有しており、この切り込
みは、好適には、室の底に対して平行に延びている。そ
れ故、室の中の内圧の余りにも、高度の上昇の際には、
切り込みの領域内において、全体の室が、シリンダ外表
面から離れるように曲げが生じ、これにより、室の内部
の余りにも高い圧力の上昇により、その時に、余りにも
高い圧力がその中を支配する部分に、障害の現れること
が回避されることが、達成される。この場合、室を有し
ている弁体の部分が、切り込みの自由な出口の領域内に
おいて支持されることができ、これにより、切り込みの
領域内における室の部分の曲げ運動が、制限されること
が可能となる。その上、それ故、室は両端部において支
持され、これにより、切り込みを有する室の部分の中央
領域内において、ある圧力の上昇の際における曲げ運動
が行われ、これにより、この曲げ運動が、単に薄板の角
と、シリンダ内壁との間に存在するすきまだけに、関係
するようにする。制御弁の絞り作用ないしは、既に、正
常の作動の際に、流体の貫流の絞りを制御することがで
きるように、室を有している弁体の部分の支持体は、軸
方向に対して横方向に、流体流出管に向いている端部
と、シリンダ外表面との間のすきまの変化の趣旨で、調
節自在であることができる。多数の減衰過程を同時に実
施することができるように、弁体の中に、多数の、同一
に構成された室が設けられることも、できる。これによ
り、室のそれぞれは、室の底の下部に切り込みを設けら
れることができ、この場合、好適には、各室の下部に、
調節自在な支持体が配置され、これが、それぞれ、必要
のある場合は、別々に操作可能であるようにする。それ
故、多数の制御弁により制御されるべき流体貫流の際に
も、また、それぞれが、個々に、減衰を要求に応じて、
調節することが可能となる。

実 施 例 以下、本発明をその実施例を示す添付図面に基づい
て、詳細に説明をする。

図において、参照数字１により、シリンダ外表面１′
により境界された室が示されているが、この室１の内部
には、室２が配置されており、この室２は、２個のたわ
み可能な、本質的にシリンダ外表面１′の母線に対して
平行に延びている、シリンダ外表面１′の近くまで達し
ている薄板３と、２個の端部壁４、５により境界されて
いる。この室２は、流体供給管９を介して圧力の衝撃を
受け、この場合、室２から室１の中に進入する流体は、
流体流出管10を介して、室１から運び出される。円筒状
の壁１′に対して隣接して延びている薄板３の角と、シ
リンダ壁１′との間並びにシリンダ壁１′の方に向いて
いる端部壁４の面と、シリンダ壁１′との間には、すき
まが設けられており、その大きさは、室２から、室１の
中へ進入する流体に対する貫流横断面を決定する。

今や、室２が、流体供給管９を介して圧力を作用され
るならば、その時には、室２から室１の中への流体の貫
流は、薄板３とシリンダ壁１′との間ないしは端部壁４
と、シリンダ壁１′との間の上記のすきまを経て絞られ
る。今や、圧力が、あるあらかじめ与えられた値を超過
するならば、必然的に室２の内部の圧力は上昇される。
なぜならば、すきまを通る貫流は、ある定められた抵抗
により、抵抗されるからである。それ故、両方の薄板３
は、互いに離れて運動をするように作動され、この場
合、そのたわみ可能性により、シリンダ壁１′への方向
の運動を行い、従って、シリンダ壁１′に近接した薄板
３の角と、シリンダ壁１′との間の貫流すきまが縮小さ
れ、これにより、室２の内部の圧力上昇により、絞りす
きまを経て室１の中への何らの増強された流体の進入も
生ずることができないようにする。それ故、流体的ピス
トン・シリンダ・ユニットにおける減衰は、対応して保
持されたままとなる。

第３及び４図による実施例の場合には、制御弁の対応
する部分は、同一の参照数字を付けられている。第３図
から分かるように、ピストンの底部６の下部には、切り
込み７が設けられており、この切り込み７は、室２の底
に対して平行に延びている。切り込み７の自由な出口の
領域の中には、弁体の室を有している部分が、支持体11
の上に載っている。本実施例の場合においては、支持体
11は、ローラにより形成されているが、このローラ11
は、調節棒８を介して、室２の底に接触して保持されて
いる。この調節棒８は、円すい形に形成されており、ま
た、軸方向において、ねじ12により調節自在となってい
る。ねじ12の回転により、棒８は、軸方向に調節され、
これにより、そのテーパのために、ローラ11は、棒８に
対して放射方向に調節される。13により、棒８の運動に
対する復帰ばねが、示されている。

制御弁の正常の作動においては、制御過程は、第１及
び２図による実施例において説明されたのと同様であ
る。しかしながら、本実施例の場合には、端部壁４と、
シリンダ壁１′との間のすきまの大きさが、希望される
減衰が達成されるように調節する可能性がある。室２の
内部の圧力の上昇が現れた際には、既に、第１及び２図
に述べられたのと同様に、薄板３がシリンダ壁１′の方
に動き、それ故、室２から室１の中への自由な貫流横断
面が減少されるという効果が現れる。今や、本実施例の
場合に、圧力がある一定の値を超過するならば、その時
には、全体の室２は、切り込み７の領域内において曲が
り、これにより、シリンダ壁１′に隣接された薄板の角
は、シリンダ壁１′から、曲げ領域内において離れるよ
うに動かされ、これにより、この領域内において、追加
の進入の可能性が、流体のために作られるようにする。
この流体の進入の可能性は、例えば、場合によっては、
この制御弁にあらかじめ連結されている部材の損傷に導
くことのあり得る非常に大きな圧力が、流体供給管９の
中に形成されることが、制御弁により阻止されるべきで
ある時に、指示される。

ねじ12及びばね13により操作可能である弁棒８の代わ
りに、円すいを作動させる貫通するねじ、あるいは、エ
キセンが、設けられることもできる。

第５図の実施例の場合には、４個のこのような室２
が、シリンダ室１の中に配置されている多重実施形態を
取り扱っているものである。室２は、第１図に示された
室と同様に形成され、この場合、第５図に示された断面
は、ほぼ第３図の線Ｘ−Ｘに沿うものである。この実施
例においては、各室に対する調節棒は、別々であり、別
個に操作可能であり、これにより、第５図に示された室
２のそれぞれに対して、異なった絞り条件が、作られる
ことができるようにする。

本発明による制御弁は、特に、減衰装置の流体的ピス
トン・シリンダ・ユニットのピストンの中に、有利に組
み込まれることができる。なぜならば、その構成が、本
発明による構造により、ほんのわずかな場所を必要とす
るだけであるからである。

発明の効果 本発明は、上記のような構成及び作用を有しているの
で、わずかな場所を必要とするだけであり、また、制御
されるべき流体の圧力の上昇の際に、減衰作用が増加さ
れる流体の貫流の制御のための制御弁を提供するもので
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の簡単な実施例の縦断面図、第２図
は、その横断面図、第３図は、第１図と同様な縦断面図
であるが、第二実施例の縦断面図、第４図は、第３図の
IV−IV線に沿う断面図、第５図は円筒状室の中に多数の
絞り装置が設けられている他の実施例を示す第３図のＸ
−Ｘ線による横断面図である。 １、２……室、１′……シリンダ外表面、３……薄板、
４、５……端部壁、６……室の底、７……切り込み、９
……流体供給管、10……流体流出管、11……支持体。

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】特に、流体ピストン・シリンダ・ユニット
   を有している流体的減衰ユニットにおける流体の貫流の
   制御のための制御弁であって、流体供給管及び流体流出
   管を有する室の内部に絞り機構が設けられている制御弁
   において、流体供給管（９）が、圧力の衝撃を受けるこ
   との可能な室（２）に連結されており、この室（２）
   は、少なくとも、周辺領域の部分の上を、好適には、円
   筒状の横断面を有しているシリンダ外表面（１′）によ
   り境界された室（１）の中に設けられており、又、この
   室（２）は、２個のたわみ可能な、本質的にシリンダ外
   表面（１′）の母線に対して平行に延びている。シリン
   ダ外表面（１′）の近くまで達している薄板（３）及び
   ２個の端部壁（4,5）により境界されており、それらの
   内、流体流出管（10）に向いている端部壁（４）が、シ
   リンダ外表面（１′）と共に隙間を画成していることを
   特徴とする制御弁。
2. 【請求項２】室（２）が、シリンダ外表面（１′）によ
   り境界されている室（１）の中に差し込まれた弁体の中
   に形成されており、この場合、弁体は、室の底（６）の
   下部に、好適には、室の底（６）に対して平行に延びて
   いる切り込み（７）を有している請求項１記載の制御
   弁。
3. 【請求項３】弁体の室（２）を有している部分が、切り
   込み（７）の自由な出口の領域内において支持可能とな
   っている請求項２記載の制御弁。
4. 【請求項４】弁体の室（２）を有している部分の支持体
   （11）が、流体流出管（10）に向いている端部壁（４）
   と、シリンダ外表面（１′）との間の前記隙間を変化さ
   せるように、前記室（２）の軸方向に対して交差する方
   向に調節自在になっている請求項３記載の制御弁。
5. 【請求項５】弁体の中に、多数の同様に構成された室
   （２）が設けられている請求項2,3又は４記載の制御
   弁。
6. 【請求項６】各室（２）が、室の底（６）の下部に切り
   込み（７）を設けられており、この場合、好適には、各
   室（２）の下部に、差し込み自在な支持体（11）を配置
   されており、これが、必要のあるときに、別々に操作可
   能となっている請求項５記載の制御弁。