JP2807230B2 - 光ファイバ線引装置 - Google Patents

光ファイバ線引装置

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JP2807230B2
JP2807230B2 JP63015277A JP1527788A JP2807230B2 JP 2807230 B2 JP2807230 B2 JP 2807230B2 JP 63015277 A JP63015277 A JP 63015277A JP 1527788 A JP1527788 A JP 1527788A JP 2807230 B2 JP2807230 B2 JP 2807230B2
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久 小相沢
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C25/00Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
    • C03C25/10Coating
    • C03C25/12General methods of coating; Devices therefor

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光ファイバ線引装置に関し、特に高速線引時
の断線を少なくすることに関する。
[従来の技術とその課題] 従来の光ファイバ線引装置は第2図に示されるような
構造をしており、線引きの加熱炉(2)、光ファイバ用
外径測定器(3)、1次被覆のダイス(5a)、ダイスホ
ルダー(6a)、1次被覆材硬化用のUVランプ(7a)、2
次被覆のダイス(5b)、ダイスホルダー(6b)、2次被
覆材硬化用のUVランプ(7b)、被覆光ファイバ用外径測
定器(8)、キャプスタン(9)、プーリー(10)およ
び巻取機から構成されている。
光ファイバの紡糸は、プリフォーム(1)を線引加熱
炉(2)中に一定の速度で送り込み、プリフォーム
(1)の自由端から引き出された光ファイバ(4)を一
定の速度で、キャプスタン(9)、プーリー(10)を経
て、巻取機(11)に巻取ることにより行われる。光ファ
イバ(4)の被覆は、所定の線径となったところで、1
次被覆のダイス(5a)に光ファイバ(4)を通して1層
目の被覆材を塗布し、次いで1次被覆材硬化用のUVラン
プ(7a)で前記被覆材を硬化させる。その後2次被覆の
ダイス(5b)に1次被覆光ファイバ(12)を通して2層
目の被覆材を塗布し、次いで2次被覆材硬化用のUVラン
プ(7b)で前記被覆材を硬化させ、2次被覆光ファイバ
(13)を形成する。なお、被覆材である樹脂の種類によ
っては、UVランプのかわりに加熱炉で樹脂硬化を行う場
合もある。
ダイス(5a)に光ファイバ(4)を通す場合には、ダ
イスホルダー(6a)の中心に光ファイバ(4)が位置す
るように該ダイスホルダー(6a)を設置し、そのダイス
ホルダー(6a)上にダイス(5a)を置き、光ファイバ
(4)を通す。また、ダイス(5a)が分割できる場合に
は、その片方だけをダイスホルダー(6a)に取付け、そ
こでダイス(5a)の中心に光ファイバ(4)が位置する
ようにダイスホルダー(6a)を移動させて、ダイス(5
a)の芯と光ファイバ(4)の通る位置を合わせてい
る。
しかしながら、従来技術では、ダイスホルダーとダイ
スとの間に生ずる隙間により、ダイスを付ける前の光フ
ァイバの通る位置と、ダイスを付けた後の光ファイバの
通る位置が一致せず、光ファイバが曲げられてしまって
いた。このために、高速線引時には、光ファイバがダイ
スと接触し、断線し易くなり、また低速線引時には、被
覆光ファイバが偏心し易くなるという問題が生じる。特
に二層一括ダイスなどの多層同時被覆の場合には、ダイ
スと光ファイバとの接触がさらに起こり易く、被覆後の
光ファイバの強度は著しく低下する。
このような問題を解決すべく、特開昭60−137842号公
報や特開昭56−88841号公報には、線引加熱炉の直下に
光ファイバ位置検出器を設けている例が開示されている
が、線引速度の高速化に伴って、前記線引加熱炉とダイ
スの距離は長くなってきており、線引加熱炉の直下で光
ファイバの位置を合わせても、光ファイバがダイスを通
るときには位置にずれが生じてしまっていた。
本発明は以上のような点にかんがみてなされたもの
で、その目的とするところは引張強度を低下させずに、
光ファイバを高速で線引する装置を提供することにあ
る。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために本発明によれば、光ファイ
バプリフォームを線引加熱炉で軟化して光ファイバを紡
糸し、該光ファイバを被覆ダイスに通して被覆を施し、
巻取る光ファイバ線引装置において、被覆ダイスの近傍
に光ファイバ位置検出器を設け、該光ファイバ位置検出
器により定められた位置に被覆ダイスを移動するように
したことを特徴とする光ファイバ線引装置が提供され
る。
このような構成の光ファイバ線引装置においては、被
覆ダイスの近傍に光ファイバ位置検出器が設けられてい
るため、被覆ダイスに光ファイバを通す前後における被
覆ダイス近傍の光ファイバの位置を確認することができ
る。従って、光ファイバを被覆する時に被覆ダイスを移
動して、被覆ダイスを通る際の光ファイバの位置を被覆
ダイスを通らない場合の光ファイバの位置に一致させ、
光ファイバが被覆ダイスと接触するのを避けることがで
きる。
[実施例] 以下図面に示した実施例に基づいて本発明を説明す
る。
第1図は本発明による光ファイバ線引装置の一実施例
の説明図であり、従来例である第2図と比較して、1次
被覆ダイス(5a)と光ファイバ用外径測定器(3)の間
に、1次被覆ダイス(5a)に近づけて光ファイバ位置検
出器(14a)を設置し、2次被覆ダイス(5b)の直上に
も光ファイバ位置検出器(14b)を設置してある。線引
の作業は、まず、ダイス(5a,5b)のない状態での線引
による光ファイバ(4)の位置を、光ファイバ位置検出
器(14a,14b)により検出する。次に光ファイバ(4)
をダイス(5a,5b)に通して光ファイバ(4)の位置を
検出する。もしダイス(5a,5b)に通した光ファイバ
(4)の位置がダイス(5a,5b)を通さない場合の位置
からずれていれば、ダイスホルダー(6a,6b)によりダ
イス(5a,5b)を移動して、光ファイバ(4)の位置ず
れをなくす。例えば、光ファイバ位置検出器として半導
体レーザ光のスキャンニングによる非接触検出器を用い
ると、直交二軸方向の位置をμmオーダーで検出するこ
とができる。なお、前述したダイスホルダ(6a,6b)に
よるダイス(5a,5b)の移動は自動でおこなうことも可
能である。
以上の装置により光ファイバの線引を行うと、開放形
の被覆ダイスの場合、線引速度を従来に比して3倍程の
600〜800m/minの程度に上昇させても、断線あるいは強
度低下の問題は全く生じなかった。また、加圧型の被覆
ダイスの場合には、従来は60〜70m/minの低速度でも強
度低下がみられたが、本装置では400〜600m/minの速度
においても、何ら問題は発生しなかった。
なお、本実施例では、ダイスの直上に光ファイバ位置
検出器を設置しているが、ダイスの直下に設置してもよ
い。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、被覆ダイスの近
傍に光ファイバ位置検出器を設け、該光ファイバ位置検
出器により定められた位置に被覆ダイスを移動するよう
にしたため、光ファイバは被覆ダイスに非接触で線引さ
れ、線引速度を高速化できるという優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の説明図、第2図は一従来例
の説明図である。 1……プリフォーム、2……加熱炉、3……光ファイバ
用外径測定器、4……光ファイバ、5a,5b……ダイス、6
a,6b……ダイスホルダー、7a,7b……UVランプ、8……
被覆光ファイバ用外径測定器、9……キャプスタン、10
……プーリー、11……巻取機、12……1次被覆光ファイ
バ、13……2次被覆光ファイバ、14a,14b……光ファイ
バ位置検出器

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光ファイバプリフォームを線引加熱炉で軟
    化して光ファイバを紡糸し、該光ファイバを被覆ダイス
    に通して被覆を施し、巻取る光ファイバ線引装置におい
    て、被覆ダイスの近傍に光ファイバ位置検出器を設け、
    該光ファイバ位置検出器により定められた位置に被覆ダ
    イスを移動するようにしたことを特徴とする光ファイバ
    線引装置。
JP63015277A 1988-01-26 1988-01-26 光ファイバ線引装置 Expired - Lifetime JP2807230B2 (ja)

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JPH01192739A JPH01192739A (ja) 1989-08-02
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