JP2806816B2 - Bonding apparatus and bonding method using the same - Google Patents

Bonding apparatus and bonding method using the same

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JP2806816B2
JP2806816B2 JP6316873A JP31687394A JP2806816B2 JP 2806816 B2 JP2806816 B2 JP 2806816B2 JP 6316873 A JP6316873 A JP 6316873A JP 31687394 A JP31687394 A JP 31687394A JP 2806816 B2 JP2806816 B2 JP 2806816B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ボンディング装置およ
びこれを用いたボンディング方法に関する。
The present invention relates to a bonding apparatus and a bonding method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図8はTAB方式によるフィルムキャリ
ア型半導体装置を示し、(a)は平面図、(b)は断面
図である。
2. Description of the Related Art FIGS. 8A and 8B show a film carrier type semiconductor device based on a TAB method, wherein FIG. 8A is a plan view and FIG. 8B is a sectional view.

【0003】TAB方式の実装に用いられるフィルムキ
ャリアテープは、図8の(a)および(b)に示すよう
に、ポリイミド等の絶縁性のベースフィルム101に搬
送および位置決めに用いるスプロケットホール107を
形成し、かつ半導体チップ104が入るための開口部で
ある方形のデバイスホール103を形成した後、このベ
ースフィルム101の表面に、銅箔等の金属箔を接着
し、かつこの金属箔をフォトリソグラフィ技術により所
要パターンに形成して、多数のリード102や電気選別
のためのテストパッド108を形成することで構成され
る。
As shown in FIGS. 8A and 8B, a film carrier tape used for mounting in a TAB system has sprocket holes 107 formed on an insulating base film 101 made of polyimide or the like for use in transport and positioning. Then, after forming a square device hole 103 which is an opening for receiving the semiconductor chip 104, a metal foil such as a copper foil is bonded to the surface of the base film 101, and the metal foil is formed by photolithography. To form a required pattern, and a large number of leads 102 and test pads 108 for electrical selection are formed.

【0004】リード102は、デバイスホール103内
に突出したインナーリード102Aと、テストパッド1
08が接続されたアウターリード102Bとで構成さ
れ、この表面に金、錫または半田等の金属メッキが施さ
れている。
The lead 102 has an inner lead 102A projecting into the device hole 103 and a test pad 1
08 is connected to the outer lead 102B, and the surface of the outer lead 102B is plated with metal such as gold, tin, or solder.

【0005】また、アウターリード102Bの直下部の
ベースフィルム101には方形のアウターリードホール
109が数箇所形成されており、このアウターリードホ
ール09とデバイスホール103との間は、リード10
2を保持するサスペンダ110が四隅でベースフィルム
101の本体に連絡している。
The base film 101 immediately below the outer leads 102B is provided with several rectangular outer lead holes 109, and a lead 10 is provided between the outer lead holes 09 and the device holes 103.
2 are connected to the main body of the base film 101 at four corners.

【0006】そして、上記のように構成したフィルムキ
ャリアテープのリード102と半導体チップ104とを
ボンディングする際には、予め半導体チップ104の表
面電極に金属突起物であるバンプ105を設けておき、
このバンプ105上に接合するインナーリード102A
の直下部に半導体チップ104のバンプ105を位置さ
せ、上方よりボンディングツールでインナーリード10
2Aとバンプ105とをボンディングしている。このよ
うなボンディング方法を、インナーリードボンディング
(Inner Lead Bonding、以下、単に「ILB」と略記す
る)という。
When bonding the leads 102 of the film carrier tape and the semiconductor chip 104 configured as described above, bumps 105 which are metal projections are provided on the surface electrodes of the semiconductor chip 104 in advance.
Inner lead 102A bonded onto bump 105
The bumps 105 of the semiconductor chip 104 are located immediately below the inner leads 10.
2A and the bump 105 are bonded. Such a bonding method is called inner lead bonding (hereinafter, simply abbreviated as “ILB”).

【0007】半導体チップ104は、平面が方形の主表
面を有し、各辺に沿って多数の金属突起物であるバンプ
105が設けられているが、このような突起の無い、い
わゆるバンプレスの電極もある。各バンプ105に対向
したインナーリード102Aは、各辺毎にサスペンダ1
10に固着され、アウターリード102Bとなってベー
スフィルム101の本体に固着されている。
[0007] The semiconductor chip 104 has a main surface having a rectangular plane, and is provided with a large number of bumps 105, which are metal projections, along each side. There are also electrodes. The inner lead 102A facing each bump 105 is provided with a suspender 1 for each side.
10 and are fixed to the main body of the base film 101 as outer leads 102B .

【0008】ILB後にテストパッド108を用いて電
気選別が行なわれ、しかる後、テストパッド108と共
にベースフィルム101等は除去される。なお、各辺の
バンプ105は図示されているよりも多数であり、一部
のリード102が欠けて配列されている場合もある。
After the ILB, the electrical screening is performed using the test pad 108, and thereafter, the base film 101 and the like are removed together with the test pad 108. The number of bumps 105 on each side is larger than that shown in the figure, and some leads 102 may be missing and arranged.

【0009】上記のILB方法は一般に、インナーリー
ド102Aとバンプ105とをボンディングツールにて
一括で接合する方法(ギャング・ボンディング方式)
と、インナーリード102Aとバンプ105とを1本づ
つ接続する方法(シングルポイント・ボンディング方
式)の2種類がある。前者の方法では、半導体チップ1
04の寸法が大きくなり、かつリード102が増加する
とボンディングツールと半導体チップ104の平行度を
保つことが困難になる。また、その平行度を調整するた
めに、半導体チップ104の大きさが変わる度に、長時
間の設定が必要で、多品種・少量生産に要求される汎用
性に乏しい。これに対し、後者の方法によると、インナ
ーリード102Aをボンディングツールで1本づつ確実
に接続するため、前者のような微調整はいらず、半導体
チップ104の大型化に伴い採用される機会が多くなっ
ている。
In the above-mentioned ILB method, generally, the inner lead 102A and the bump 105 are collectively joined by a bonding tool (gang bonding method).
And a method of connecting the inner lead 102A and the bump 105 one by one (single point bonding method). In the former method, the semiconductor chip 1
When the dimensions of the semiconductor chip 104 are increased and the number of leads 102 is increased, it becomes difficult to maintain the parallelism between the bonding tool and the semiconductor chip 104. Further, each time the size of the semiconductor chip 104 changes in order to adjust the parallelism, a long time setting is required, and the versatility required for high-mix low-volume production is poor. On the other hand, according to the latter method, since the inner leads 102A are securely connected one by one with a bonding tool, fine adjustment as in the former is not required, and the opportunity to be adopted as the size of the semiconductor chip 104 increases is increased. ing.

【0010】図9はインナーリードのシングルポイント
・ボンディング方法を示す斜視図である。図10はリー
ドのボンディング部分の様子を示す断面図であり、
(a)は図9のボンディングの様子を半導体チップ内側
から見た断面図、(b)は図9のボンディングが行なわ
れている辺と直交する辺におけるボンディングの様子を
半導体チップ内側から見た断面図を示している。
FIG. 9 is a perspective view showing a single-point bonding method for inner leads. FIG. 10 is a cross-sectional view showing a bonding portion of a lead.
9A is a cross-sectional view of the bonding state in FIG. 9 as viewed from the inside of the semiconductor chip, and FIG. 9B is a cross-sectional view of the bonding state in a side orthogonal to the side where bonding is performed in FIG. FIG.

【0011】シングルポイント・ボンディング方式で
は、図9および図10に示すようにシングルポイントボ
ンディングツール111にてインナーリード102Aが
1本づつボンディングされる。
In the single point bonding method, the inner leads 102A are bonded one by one by a single point bonding tool 111 as shown in FIGS.

【0012】この場合のボンディングツール111は、
図11および図12で示すような形状がある。
In this case, the bonding tool 111
There are shapes as shown in FIGS.

【0013】図11はシングルポイント・ボンディング
方式に用いられるボンディングツールの形状を示す図で
あり、図12は図11に示したボンディングツール先端
の拡大図である。
FIG. 11 is a view showing the shape of a bonding tool used in the single point bonding method, and FIG. 12 is an enlarged view of the tip of the bonding tool shown in FIG.

【0014】これらの図に示すように、シングルポイン
トボンディングツール111は先端部が一個の突起から
なっている。
As shown in these figures, the single-point bonding tool 111 has one tip at the tip.

【0015】また、ILBを行なって製造されたフィル
ムキャリア型半導体装置を回路基板等に実装するため
に、アウターリード102Bと不図示の回路基板の電極
とを接続するアウターリードボンディング(Outer Lead
Bonding、以下単に「OLB]と略記する)を行なう
が、この場合にもILB同様、シングルポイント・ボン
ディング方式を採用することがある。
In order to mount the film carrier type semiconductor device manufactured by performing the ILB on a circuit board or the like, an outer lead bonding (Outer Lead bonding) for connecting the outer lead 102B and an electrode of a circuit board (not shown).
Bonding (hereinafter simply abbreviated as “OLB”) is performed, but in this case as well as the ILB, a single point bonding method may be employed.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
シングルポイント・ボンディング方式では、図9に示し
たボンディングツール111にてインナーリード102
Aを1本づつボンディングするため、リード102の数
が増加するとボンディング作業時間が長くなり、生産効
率が低く、汎用性に優れる長所を生かすことができない
という問題点がある。
However, in the above-described single-point bonding method, the inner leads 102 are formed by the bonding tool 111 shown in FIG.
Since A is bonded one by one, when the number of leads 102 increases, the bonding operation time becomes long, and there is a problem that advantages of low production efficiency and excellent versatility cannot be utilized.

【0017】そこで本発明は、上記従来技術の問題点に
鑑み、フィルムキャリアテープと半導体チップとの接
続、あるいはフィルムキャリアテープに半導体チップを
実装してなるフィルムキャリア型半導体装置を回路基板
等に実装する際に用いるシングルポイント・ボンディン
グ方式において、その汎用性に優れたボンディング方式
を生かしながら、生産性の向上を可能にするボンディン
グ装置およびこれを用いたボンディング方法を提供する
ことを目的とする。
In view of the above-mentioned problems of the prior art, the present invention provides a method of connecting a film carrier tape to a semiconductor chip or mounting a film carrier type semiconductor device having a semiconductor chip mounted on a film carrier tape on a circuit board or the like. It is an object of the present invention to provide a bonding apparatus and a bonding method using the single-point bonding method that can improve productivity while utilizing a bonding method excellent in versatility.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、半導体チップの表面電極とフィルムキャリ
アテープのインナリードとを、あるいはインナーリード
ボンディング後のフィルムキャリアテープのアウターリ
ードと回路基板の電極とを一本のボンディングツールに
より一点毎にボンディングするシングルポイント方式の
ボンディング装置において、前記一本のボンディングツ
ールのリードに接触する側の先端部に、一度に複数のリ
ードをボンディングできるように複数の突起が設けられ
たことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention is directed to a method of connecting a surface electrode of a semiconductor chip to an inner lead of a film carrier tape, or an outer lead of a film carrier tape after inner lead bonding and a circuit board. In a single-point type bonding apparatus for bonding one electrode at a time with a single bonding tool, a plurality of leads can be bonded at a time to the tip of the one bonding tool that is in contact with the lead. A plurality of protrusions are provided.

【0019】この場合、前記複数の突起がリードピッチ
に対応して設けられているものや、前記突起はリードピ
ッチの自然数倍の間隔で2個設けられているものであっ
てもよい。
In this case, the plurality of protrusions may be provided corresponding to the lead pitch, or two protrusions may be provided at intervals of a natural number multiple of the lead pitch.

【0020】また、上記のボンディング装置を用いて、
隣接する複数のリードを一度にボンディングする方法
や、1本または隣接するリードを跨いで、複数のリード
を一度にボンディングする方法や、一度にボンディング
ができるリード数に対し、実際にボンディングするリー
ド数が満たなくても、その場合はボンディングに必要な
ボンディングツールに与える超音波振動および荷重を変
更してボンディングする方法も本発明に含まれる。
Further, using the above bonding apparatus,
A method of bonding a plurality of adjacent leads at a time, a method of bonding a plurality of leads at a time over one or adjacent leads, or the number of leads to be actually bonded to the number of leads that can be bonded at one time Even if the above condition is not satisfied, in this case, a method of performing bonding by changing the ultrasonic vibration and the load applied to the bonding tool necessary for bonding is also included in the present invention.

【0021】[0021]

【作用】上記のとおりに構成された本発明では、半導体
チップの表面電極とフィルムキャリアテープのインナリ
ードとを、あるいはインナーリードボンディング後のフ
ィルムキャリアテープのアウターリードと回路基板の電
極とを、シングルポイント方式のボンディング装置にて
ボンディングする際、ボンディングツールのリードに接
触する側の先端部が複数の突起を有するので、一度に複
数のリードがボンディングされる。
In the present invention configured as described above, the surface electrode of the semiconductor chip and the inner lead of the film carrier tape, or the outer lead of the film carrier tape after the inner lead bonding and the electrode of the circuit board are connected to each other. When bonding with a point type bonding apparatus, a plurality of leads are bonded at one time because the tip of the bonding tool on the side in contact with the leads has a plurality of protrusions.

【0022】[0022]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0023】図1は、本発明のボンディング装置を用い
たボンディング方法を示す斜視図、図2は図1に示した
ボンディング方法の第1の実施例におけるインナーリー
ドのボンディングの様子を示す断面図である。但し、図
面において従来技術と変わらない部分には同一符号を付
してある。
FIG. 1 is a perspective view showing a bonding method using the bonding apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view showing a state of bonding of the inner leads in the first embodiment of the bonding method shown in FIG. is there. However, in the drawings, the same reference numerals are given to portions that are the same as those of the related art.

【0024】本実施例のボンディング装置は、図1の
(a)及び(b)に示すように、従来技術と同様、予め
ベースフィルム101上に形成されたリード102のデ
バイスホール103内に突出したインナーリード102
Aの直下部に半導体チップ104のバンプ105を位置
させることが可能であって、インナーリード102Aを
バンプ105に接合させるためのボンディングツール
(以下、単に「ツール」と略記する)100を有してい
る。
As shown in FIGS. 1A and 1B, the bonding apparatus of this embodiment protrudes into a device hole 103 of a lead 102 formed on a base film 101 in advance, as in the prior art. Inner lead 102
A bump 105 of the semiconductor chip 104 can be positioned directly below A, and has a bonding tool (hereinafter simply abbreviated as “tool”) 100 for bonding the inner lead 102A to the bump 105. I have.

【0025】このうち、ツール100のインナーリード
102Aに接触する側の先端は、図2に示すように、隣
接する2本のインナーリード102Aを一度にバンプ1
05と接合させることができるように2つの突起100
Aを有する。
As shown in FIG. 2, the tip of the tool 100 on the side in contact with the inner lead 102A is connected to the two adjacent inner leads 102A at one time.
05 and two projections 100
A.

【0026】このツール100により、従来のシングル
ポイントボンディングではインナーリード102Aを一
本づつボンディングしていたのに対し、一度に2本のイ
ンナーリード102Aをボンディングすることができ
る。
By using the tool 100, two inner leads 102A can be bonded at a time, while the conventional single point bonding has bonded the inner leads 102A one by one.

【0027】本実施例では、図2の(a)及び(b)に
示すように、ボンディングしたインナーリード102A
を有する半導体チップの辺の他のインナーリード102
Aに対し、ツール100を移動させながら隣接する2本
のインナーリード102Aを順次ボンディングしてい
る。また同様に、相対する側のインナーリード102A
も2本づつボンディングする。
In this embodiment, as shown in FIGS. 2A and 2B, the bonded inner leads 102A
Inner lead 102 on the side of a semiconductor chip having
A two adjacent inner leads 102A are sequentially bonded to A while moving the tool 100. Similarly, the inner lead 102A on the opposite side
Are also bonded two by two.

【0028】この場合に用いるツール100について説
明する。
The tool 100 used in this case will be described.

【0029】図3は本発明のボンディング装置の特徴部
であるボンディングツールの形状を示す図、図4は図3
に示したボンディングツール先端のA部拡大図である。
FIG. 3 is a view showing the shape of a bonding tool which is a characteristic part of the bonding apparatus of the present invention, and FIG.
3 is an enlarged view of a portion A at the tip of the bonding tool shown in FIG.

【0030】上記ツール100の先端は、図3および図
4に示すように、隣接するリードを一度にボンディング
できる二つの突起100Aを有し、この突起100Aの
互いの間隔Aは、ボンディング対象の隣接するインナー
リード102Aの間隔と同じである。なお突起100A
は二つに限られず、二つ以上の複数個であってもよい。
As shown in FIGS. 3 and 4, the tip of the tool 100 has two protrusions 100A that can bond adjacent leads at one time. This is the same as the interval between the inner leads 102A. The protrusion 100A
Is not limited to two and may be two or more.

【0031】現在、この隣接するインナーリード102
Aの間隔は、半導体チップの縮小化に伴い近接し、60
μmにまでなっている。このため、ツール先端突起10
0Aの互いの距離をインナーリード間隔で加工するのが
困難な場合がある。
At present, the adjacent inner lead 102
The interval of A becomes closer as the semiconductor chip becomes smaller,
μm. Therefore, the tool tip protrusion 10
In some cases, it is difficult to machine the distance between 0A with the inner lead interval.

【0032】図5乃至図7は本発明のボンディング装置
を用いたボンディング方法の他の実施例によるボンディ
ングの様子を示す断面図である。
FIGS. 5 to 7 are cross-sectional views showing the state of bonding according to another embodiment of the bonding method using the bonding apparatus of the present invention.

【0033】上記のようにツール先端突起100Aの互
いの距離をインナーリード間隔で加工するのが困難な場
合には、図5に示すように、隣接するインナーリード1
02Aを一度にボンディングするのではなく、1本ある
いは隣接する複数のインナーリードを跨いでボンディン
グすることにより、突起100Aを有するツール100
の先端の加工が容易になる。もちろん、図4に示した突
起100Aの間隔や出っ張り高さBは、このボンディン
グ方法に応じて変更する必要がある。
As described above, when it is difficult to machine the distance between the tool tip protrusions 100A at the intervals between the inner leads, as shown in FIG.
The bonding of the tool 100A having the protrusion 100A is performed by bonding one inner lead or a plurality of adjacent inner leads instead of bonding at a time.
The processing of the tip of is easy. Of course, the interval between the protrusions 100A and the protrusion height B shown in FIG. 4 need to be changed according to this bonding method.

【0034】一方、2本づつボンディングする方の辺と
交差する側の2辺のインナーリード102Aについて
は、図1の(b)および図6で示すように、ツール突起
100Aの一つで一本のインナーリード102Aをボン
ディングする。この場合、複数のインナーリード102
Aをボンディングする場合のツール100に印加する荷
重および超音波振動の設定値を低くすることにより、複
数のインナーリード102Aを一度にボンディングする
場合と同等の接合にすることができる。そして、このボ
ンディング方法を用いると、図7で示すような、複数の
インナーリード102Aを一度にボンディングできる辺
にあって、一部のインナーリード102Aが欠けて配列
されている場合にも、ツール100により一度にボンデ
ィングできるリード数を満たしていないインナーリード
102Aに対して最適な接合をすることができる。
On the other hand, as shown in FIG. 1B and FIG. 6, one of the tool projections 100A has one inner lead 102A on the side that intersects the side to be bonded two by two. Is bonded to the inner lead 102A. In this case, a plurality of inner leads 102
By lowering the load applied to the tool 100 and the set value of the ultrasonic vibration when bonding A, it is possible to achieve the same bonding as when bonding a plurality of inner leads 102A at once. When this bonding method is used, even when a plurality of inner leads 102A are on a side where bonding can be performed at one time as shown in FIG. Accordingly, it is possible to perform optimal bonding to the inner lead 102A that does not satisfy the number of leads that can be bonded at one time.

【0035】また本実施例ではILBの場合について説
明したが、OLBにおいても一本のツール100を用い
て同じように複数のアウターリード102Bをボンディ
ングすることができる。
In this embodiment, the case of the ILB has been described. However, a plurality of outer leads 102B can be similarly bonded in the OLB using one tool 100.

【0036】上述のように本実施例は、シングルポイン
ト方式のボンディング装置において、半導体チップ表面
のバンプと接合すべく複数のリードを一度にボンディン
グできるように複数の突起を持つボンディングツールを
備えることにより、汎用性に優れるシングルポイントボ
ンディング方式を生かして、生産性の向上を図ることが
できる。
As described above, in this embodiment, a single-point bonding apparatus is provided with a bonding tool having a plurality of projections so that a plurality of leads can be bonded at a time to bond with a bump on the surface of a semiconductor chip. The productivity can be improved by utilizing the single point bonding method which is excellent in versatility.

【0037】具体的な効果の一例として、半導体チップ
104の4辺にそれぞれ同数のインナーリード102A
がそれぞれ同一の間隔で一列に配列されている場合にお
いて、図2に示したボンディング方法である、向い合う
2辺のインナーリード102Aをボンディングツール1
00にて一度に2本づつボンディングし、残る2辺のイ
ンナーリード102Aはボンディングツール100の片
側の突起100Aで1本づつボンディングを行なったと
き、従来のシングルポイントボンディング方式に比べ、
その従来方式の75%のボンディング動作回数で全ての
インナーリード102Aのボンディングを行なうことが
できた。
As an example of a specific effect, the same number of inner leads 102A are provided on the four sides of the semiconductor chip 104, respectively.
Are arranged in a line at the same interval, and the inner leads 102A on the two sides facing each other, which is the bonding method shown in FIG.
When two wires are bonded at a time at 00 and the inner leads 102A on the remaining two sides are bonded one by one with the protrusion 100A on one side of the bonding tool 100, compared with the conventional single point bonding method,
All the inner leads 102A could be bonded with 75% of the number of bonding operations of the conventional method.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、接触する
側の先端部に一度に複数のリードをボンディングできる
ように複数の突起を有するボンディングツールを備えた
シングルポイント方式のボンディング装置およびこれを
用いたボンディング方法としたことにより、ボンディン
グ作業時間が短縮して生産効率が向上し、かつ汎用性に
優れるという効果を奏する。
As described above, the present invention relates to a single-point type bonding apparatus having a bonding tool having a plurality of projections so that a plurality of leads can be bonded at one time to a tip portion on a contact side, and to a single-point type bonding apparatus. By using the bonding method used, there is an effect that the bonding operation time is shortened, the production efficiency is improved, and the versatility is excellent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のボンディング装置を用いたボンディン
グ方法を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a bonding method using a bonding apparatus of the present invention.

【図2】図1に示したボンディング方法の第1の実施例
におけるインナーリードのボンディングの様子を示す断
面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a state of bonding of inner leads in the first embodiment of the bonding method shown in FIG. 1;

【図3】本発明のボンディング装置の特徴部であるボン
ディングツールの形状を示す図である。
FIG. 3 is a view showing a shape of a bonding tool which is a characteristic part of the bonding apparatus of the present invention.

【図4】図3に示したボンディングツール先端の拡大図
である。
FIG. 4 is an enlarged view of the tip of the bonding tool shown in FIG. 3;

【図5】本発明のボンディング装置を用いたボンディン
グ方法の他の実施例によるボンディングの様子を示す断
面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a state of bonding according to another embodiment of the bonding method using the bonding apparatus of the present invention.

【図6】本発明のボンディング装置を用いたボンディン
グ方法の他の実施例によるボンディングの様子を示す断
面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a state of bonding according to another embodiment of the bonding method using the bonding apparatus of the present invention.

【図7】本発明のボンディング装置を用いたボンディン
グ方法の他の実施例によるボンディングの様子を示す断
面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing a state of bonding according to another embodiment of the bonding method using the bonding apparatus of the present invention.

【図8】TAB方式によるフィルムキャリア型半導体装
置を示し、(a)は平面図、(b)は断面図である。
8A and 8B show a film carrier type semiconductor device using a TAB method, wherein FIG. 8A is a plan view and FIG. 8B is a cross-sectional view.

【図9】インナーリードのシングルポイント・ボンディ
ング方法を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a single-point bonding method for inner leads.

【図10】リードのボンディング部分の様子を示す断面
図であり、(a)は図9のボンディングの様子を半導体
チップ内側から見た断面図、(b)は図9のボンディン
グが行なわれている辺と直交する辺におけるボンディン
グの様子を半導体チップ内側から見た断面図である。
10A and 10B are cross-sectional views showing a bonding portion of a lead, wherein FIG. 10A is a cross-sectional view of the bonding state of FIG. 9 as viewed from the inside of the semiconductor chip, and FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of a state of bonding on a side orthogonal to the side as viewed from the inside of the semiconductor chip.

【図11】シングルポイント・ボンディング方式に用い
られるボンディングツールの形状を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a shape of a bonding tool used for a single point bonding method.

【図12】図11に示したボンディングツール先端の拡
大図である。
FIG. 12 is an enlarged view of the tip of the bonding tool shown in FIG. 11;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 ボンディングツール 100A 突起 101 ベースフィルム 102 リード 102A インナーリード 102B アウターリード 103 デバイスホール 104 半導体チップ 105 バンプ REFERENCE SIGNS LIST 100 Bonding tool 100A Projection 101 Base film 102 Lead 102A Inner lead 102B Outer lead 103 Device hole 104 Semiconductor chip 105 Bump

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/60 H01L 21/607──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01L 21/60 H01L 21/607

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体チップの表面電極とフィルムキャ
リアテープのインナリードとを、あるいはインナーリー
ドボンディング後のフィルムキャリアテープのアウター
リードと回路基板の電極とを一本のボンディングツール
により一点毎にボンディングするシングルポイント方式
のボンディング装置において、 前記一本のボンディングツールのリードに接触する側の
先端部に、一度に複数のリードをボンディングできるよ
うに複数の突起が設けられたことを特徴とするボンディ
ング装置。
1. A and a surface electrode and the film carrier tape of the inner lead of the semiconductor chip, or bonded to each single point by inner lead of the film carrier tape after bonding the outer leads and the circuit board electrode and the one of the bonding tool A single-point bonding apparatus, wherein a plurality of projections are provided at a tip portion of the one bonding tool on a side in contact with the leads so that a plurality of leads can be bonded at one time.
【請求項2】 前記複数の突起がリードピッチに対応し
て設けられていることを特徴とする請求項1に記載のボ
ンディング装置。
2. The bonding apparatus according to claim 1, wherein the plurality of protrusions are provided corresponding to a lead pitch.
【請求項3】 前記突起はリードピッチの自然数倍の間
隔で2個設けられていることを特徴とする請求項1に記
載のボンディング装置。
3. The bonding apparatus according to claim 1, wherein two protrusions are provided at intervals of a natural number multiple of a lead pitch.
【請求項4】 請求項1に記載のボンディング装置を用
いて、隣接する複数のリードを一度にボンディングする
ことを特徴とするボンディング方法。
4. A bonding method comprising: bonding a plurality of adjacent leads at a time using the bonding apparatus according to claim 1.
【請求項5】 請求項1に記載のボンディング装置を用
いて、1本または隣接するリードを跨いで、複数のリー
ドを一度にボンディングすることを特徴とするボンディ
ング方法。
5. A bonding method, wherein a plurality of leads are bonded at one time over one or adjacent leads by using the bonding apparatus according to claim 1.
【請求項6】 請求項1に記載のボンディング装置を用
いたボンディング方法において、一度にボンディングが
できるリード数に対し、実際にボンディングするリード
数が満たなくても、その場合はボンディングに必要なボ
ンディングツールに与える超音波振動および荷重を変更
してボンディングすることを特徴とするボンディング方
法。
6. A bonding method using the bonding apparatus according to claim 1, wherein even if the number of leads to be bonded at one time is less than the number of leads to be actually bonded, in that case, the bonding required for bonding is performed. A bonding method characterized by changing ultrasonic vibration and load applied to a tool to perform bonding.
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