JPH0346343A - Semiconductor manufacturing apparatus - Google Patents

Semiconductor manufacturing apparatus

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JPH0346343A
JPH0346343A JP18231989A JP18231989A JPH0346343A JP H0346343 A JPH0346343 A JP H0346343A JP 18231989 A JP18231989 A JP 18231989A JP 18231989 A JP18231989 A JP 18231989A JP H0346343 A JPH0346343 A JP H0346343A
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JP
Japan
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bonding
electrode
semiconductor chip
bonded
lead
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JP18231989A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiko Ishikuri
雅彦 石栗
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To bond an electrode and a metal lead with good accuracy by installing a single bonder which separately bonds an electrode to be bonded of a semiconductor chip and a lead. CONSTITUTION:An electrode 16a to be bonded of a semiconductor chip 16 and a lead 17a are heated, pressurized and bonded by using a pressurization means 11 and a heating means 13. In this case, a bonding means 12 composed of a single bonder 12a which separately bonds the electrode 16a to be bonded of the semiconductor chip 16 and the lead 17a is installed. As a result, even when a height of the electrode 16a to be bonded is irregular, both 16a, 17a can be bonded and treated by separately pressurizing and bonding the electrode 16a to be bonded and the lead 17a. Thereby, reliability of a manufacturing apparatus can be enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 半導体製造装置、特にモールドパッケージ処理等に移行
する前工程における半導体チップと金属リードとを接合
するT A B (Tape Auto Bondin
g)装置に関し、 該半導体チップのバンブ電極とテープキャリアの金属リ
ードとを大面積の接合ハンマーにより同時に接合するこ
となく、該バンブ電極の高さに不揃いを生じていた場合
であっても、精度良く該電極と金属リードとを接合する
ことを目的とし、少なくとも、加圧手段と、接合手段と
、加熱手段と、試料台と制御手段とを具備し、該制御手
段により前記試料台に載置された半導体チップと該接合
手段とを垂直位置合わせ制御し、前記加圧手段と加熱手
段により、該半導体チップの被接合電極と該被接合電極
と対応するリードとを加熱加圧接合する半導体製造装置
において、 前記接合手段は、前記半導体チップの被接合電極と前記
リードとを個別に接合する単一接合子を設けていること
を含み構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] Semiconductor manufacturing equipment, especially TAB (Tape Auto Bondin) for bonding a semiconductor chip and metal leads in a pre-process before proceeding to mold package processing, etc.
g) Regarding the equipment, even if the bump electrodes of the semiconductor chip and the metal leads of the tape carrier are not bonded simultaneously using a large-area bonding hammer, and the heights of the bump electrodes are uneven, the precision The purpose is to bond the electrode and the metal lead well, and includes at least a pressurizing means, a bonding means, a heating means, a sample stage, and a control means, and the sample is placed on the sample stage by the control means. The semiconductor manufacturing method comprises controlling the vertical alignment of the semiconductor chip and the bonding means, and heating and press-bonding the bonded electrode of the semiconductor chip and the lead corresponding to the bonded electrode using the pressure device and the heating device. In the apparatus, the joining means includes providing a single joint that individually joins the electrodes to be joined of the semiconductor chip and the leads.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は半導体製造装置に関するものであり、更に詳し
く言えば、モールドパッケージ処理等に移行する前工程
における半導体チップと金属リードとを接合するTA 
B (Tape Auto Bonding)装置に関
するものである。
The present invention relates to semiconductor manufacturing equipment, and more specifically, the present invention relates to a TA for joining a semiconductor chip and a metal lead in a pre-process before proceeding to mold package processing, etc.
This relates to a Tape Auto Bonding (B) device.

近年、集積回路等を組み込んだ半導体チンブをモールド
パフケージングする前工程において、テープキャリアに
形成された金属リードと該半導体チップとを自動送りし
ながら、それらを電気的に接合している。
In recent years, in a pre-mold puff caging process for semiconductor chips incorporating integrated circuits and the like, metal leads formed on a tape carrier and the semiconductor chip are electrically connected while being automatically fed.

これによれば、半導体集積回路(LSI)の微細化、高
集積化に伴い、半導体チップのバンブ電極の高さにバラ
ツキを生じていた場合であっても、再現性良く、しかも
精度良く該バンブ電極と金属リードとを接続することが
できる製造装置の要望がある。
According to this, even if there is variation in the height of the bump electrode of a semiconductor chip due to the miniaturization and high integration of semiconductor integrated circuits (LSI), the bump electrode can be removed with good reproducibility and accuracy. There is a need for a manufacturing device that can connect electrodes and metal leads.

〔従来の技術] 第5,6図は、従来例に係る説明図である。[Conventional technology] 5 and 6 are explanatory diagrams relating to the conventional example.

第5図は、従来例の半導体製造装置に係る構成国を示し
ている。
FIG. 5 shows the constituent countries related to conventional semiconductor manufacturing equipment.

図において、自動ボンディング装置等の半導体製造装置
は、接合ハンマーに接合力を与える加圧装置1と、テー
プキャリア7の金属リード7aと半導体チップ6のバン
ブ電極6aとを接合する接合ハンマー2と、接合ハンマ
ー2に熱を供給する加熱装置3と、半導体チンプロをR
置したステージをX−Y−Z方向に移動するステージ駆
動装置4の入出力を制御する接合処理制御装置5とを具
備している。
In the figure, a semiconductor manufacturing device such as an automatic bonding device includes a pressure device 1 that applies a bonding force to a bonding hammer, a bonding hammer 2 that bonds a metal lead 7a of a tape carrier 7 and a bump electrode 6a of a semiconductor chip 6; A heating device 3 that supplies heat to the joining hammer 2 and a semiconductor chip processor
The bonding process control device 5 controls the input and output of a stage drive device 4 that moves the placed stage in the X-Y-Z directions.

また、該装置の機能は、同図の破線円内図のように、各
種電気回路を組み込んだ半導体チップ6のバンブ電極6
aとテープキャリア7に形成された金属リード7aとを
ステージ駆動装W4を介して垂直位置合わせをし、その
後、該バンブ電極6aと金属リード7aとを加熱装置3
により加熱された接合ハンマー2により加圧接合するも
のであ〔発明が解決しようとする課題〕 第6図は、従来例の問題点に係る接合部分の拡大図であ
る。
In addition, the function of the device is as shown in the broken line circle in the figure, the bump electrode 6 of the semiconductor chip 6 incorporating various electric circuits.
a and the metal lead 7a formed on the tape carrier 7 are vertically aligned via the stage driving device W4, and then the bump electrode 6a and the metal lead 7a are moved to the heating device 3.
[Problem to be Solved by the Invention] Fig. 6 is an enlarged view of the joining part related to the problem of the conventional example.

同図において、8は未接合部分であり、金属リード7a
とバンブ電極6aとの間に隙間を生じているものである
。これは、接合ハンマー2が一群のバンブ電極6aと金
属リード7aとを同時に加圧する機構であることから、
半導体チップ6のバンブ電極が他のバンブ電極6aより
も高さが不足しているために発生したものである。
In the figure, 8 is an unbonded part, and the metal lead 7a
A gap is created between the bump electrode 6a and the bump electrode 6a. This is because the joining hammer 2 is a mechanism that presses a group of bump electrodes 6a and metal leads 7a at the same time.
This occurs because the height of the bump electrode of the semiconductor chip 6 is insufficient compared to the other bump electrodes 6a.

このバンブ電極6aの不揃いの発生数は、半導体集積回
路の高集積化、高密度化になるに従って、多くなる傾向
にある。これは、微細化によるバンプパターンの縮小化
に伴うAuバンプ等のメツキの製造バラツキにより生ず
るものと考えられている。
The number of occurrences of irregularities in bump electrodes 6a tends to increase as semiconductor integrated circuits become more highly integrated and densely packed. This is thought to be caused by manufacturing variations in the plating of Au bumps and the like due to the reduction in size of bump patterns due to miniaturization.

このため、大面積を有する1つの接合ハンマー2で、複
数のバンプ電極6a群と複数の金属り一ド7aとを同時
に接合する装置では、1つの半導体チップ6において未
接合部分8の発生が多く生じ、接合処理装置の信頼度の
低下を招くおそれがある。
For this reason, in a device that simultaneously joins a plurality of bump electrode groups 6a and a plurality of metal bonds 7a with one joining hammer 2 having a large area, unbonded portions 8 often occur in one semiconductor chip 6. This may cause a decrease in the reliability of the bonding processing apparatus.

これにより、半導体チップの生産歩留りが悪くなるとい
う問題がある。
This poses a problem in that the production yield of semiconductor chips deteriorates.

本発明はかかる従来の問題点に鑑みて創作されたもので
あり、該半導体チンブのバンブ電極とテープキャリアの
金属リードとを大面積の接合マ、ンマーにより同時に接
合することなく、咳バンプ電極の高さに不揃いを生じて
いた場合であっても、精度良く該電極と金属リードとを
接合することを可能とする半導体製造装置の提供を目的
とする。
The present invention was created in view of such conventional problems, and it is possible to connect the bump electrode of the semiconductor chimney and the metal lead of the tape carrier at the same time using a large-area bonding machine. It is an object of the present invention to provide a semiconductor manufacturing apparatus that can accurately join an electrode and a metal lead even when the heights are uneven.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

第1図は、本発明の半導体製造装置に係る原理図を示し
ている。
FIG. 1 shows a principle diagram of the semiconductor manufacturing apparatus of the present invention.

その装置は、少なくとも、加圧手段11と、接合手段1
2と、加熱手段13と、試料台14と制御手段15とを
具備し、該制御手段15により前記試料台14に載置さ
れた半導体チンプ16と該接合手段12とを垂直位置合
わせ制御し、前記加圧手段11と加熱手段13により、
該半導体チップ16の被接合電極16aと該被接合電極
16aに対応するリード17aとを加熱加圧接合する半
導体製造装置において、 前記接合手段12は、前記半導体チップ16の被接合電
極16aと前記リード17aとを個別に接合する単一接
合子12aを設けていること特徴とし、上記目的を達成
する。
The device includes at least a pressurizing means 11 and a joining means 1.
2, a heating means 13, a sample stage 14 and a control means 15, the control means 15 controls the vertical alignment of the semiconductor chimp 16 placed on the sample stage 14 and the bonding means 12, By the pressurizing means 11 and heating means 13,
In a semiconductor manufacturing apparatus for bonding a bonded electrode 16a of the semiconductor chip 16 and a lead 17a corresponding to the bonded electrode 16a by heating and pressurizing, the bonding means 12 connects the bonded electrode 16a of the semiconductor chip 16 and the lead 17a. The above object is achieved by providing a single zygote 12a for individually joining 17a.

〔作用〕[Effect]

本発明によれば、半導体チップ16の被接合電極16a
とり一ド17aとを個別に接合する単一接合子12aか
らなる接合手段12が設けられている。
According to the present invention, the bonded electrode 16a of the semiconductor chip 16
There is provided a joining means 12 consisting of a single joint 12a for individually joining the leads 17a.

このため、被接合′F!j、極16aの高さに不揃いを
生していた場合であっても、該被接合電極16aとり−
ド17aとを個別に加圧接合することにより、精度良く
両者16a、17aの接合処理をすることが可能となる
For this reason, the welded 'F! j, even if the height of the electrode 16a is uneven, the height of the electrode 16a to be bonded -
By individually pressurizing and bonding the two parts 16a and 17a, it becomes possible to join the two parts 16a and 17a with high accuracy.

これにより、接合不良等を減少することができることか
ら、当該製造装置の信頼度の向上を図ることが可能とな
る。
This makes it possible to reduce bonding defects and the like, thereby making it possible to improve the reliability of the manufacturing apparatus.

〔実施例〕〔Example〕

次に、図を参照しながら本発明の実施例について説明す
る。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第2〜4図は、本発明の実施例に係る半導体製造装置を
説明する図であり、第2図は本発明の実施例の半導体製
造装置に係る溝戒図を示している。
2 to 4 are diagrams for explaining a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a groove diagram of the semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

図において、21は加圧手段1(の一実施例となる個別
加圧出力装置であり、接合力誘導管21aを介して単一
ハンマー22aに接合力を供給するものである。個別加
圧出力装置21は、第4図において説明する。
In the figure, reference numeral 21 denotes an individual pressurizing output device which is an example of the pressurizing means 1, which supplies bonding force to a single hammer 22a via a bonding force guiding pipe 21a.Individual pressurizing output The device 21 is illustrated in FIG.

22aは単一接合子の一実施例となる単一ハンマーであ
り、不図示のテープキャリアに形成された金属リード2
7aと半導体チップ26のバンブ電極26aとを個別に
接合する機能を有している。
22a is a single hammer, which is an example of a single zygote, and a metal lead 2 formed on a tape carrier (not shown).
7a and the bump electrode 26a of the semiconductor chip 26 individually.

なお、22bはスプリングであり、単一ハンマー22a
の接合力を補助するものである。従って、個別加圧出力
装置の接合力誘導を補助するものであり、省略してもよ
い。
Note that 22b is a spring, and the single hammer 22a
This is to assist the bonding force of. Therefore, it assists in guiding the bonding force of the individual pressure output device, and may be omitted.

23は第1図で示した加熱手段13の一実施例となる加
熱装置であり、本発明の実施例では、熱伝達ガイドプレ
ート23aに埋め込まれたヒーター23bの電源制御装
置等である。なお、熱伝達ガイドプレート23aについ
ては、第3図において、詳述する。
23 is a heating device which is an embodiment of the heating means 13 shown in FIG. 1, and in the embodiment of the present invention, it is a power supply control device for the heater 23b embedded in the heat transfer guide plate 23a. Note that the heat transfer guide plate 23a will be described in detail in FIG. 3.

24は、試料台14の一実施例となるステージ駆動装置
であり、半導体チップ26に載置したステージをX−Y
−Z方向に移動するものである。
24 is a stage driving device which is an example of the sample stage 14, and it moves the stage mounted on the semiconductor chip 26 in the X-Y direction.
-It moves in the Z direction.

25は第1図で示した制御手段15の一実施例となる接
合処理制御装置であり、個別加圧出力装置21や加熱装
置23およびステージ駆動装置24の入出力を制御する
ものである。
Reference numeral 25 denotes a bonding processing control device which is an embodiment of the control means 15 shown in FIG.

第3図は、本発明の実施例に係る熱伝達ガイドプレート
の構造図を示している。
FIG. 3 shows a structural diagram of a heat transfer guide plate according to an embodiment of the present invention.

図において、熱伝達ガイドプレート23aは、予め、垂
直位置合わせされた第2図で示した金属リード27aと
バンブ電極26aとに、個別加圧出力装置21からの接
合力を導入する機能と、その接合点に熱を伝達する機能
を有している。
In the figure, the heat transfer guide plate 23a has the function of introducing bonding force from the individual pressure output device 21 to the metal lead 27a and the bump electrode 26a shown in FIG. It has the function of transmitting heat to the junction.

熱伝達ガイドブレー)23aは、熱伝導性の良い金属に
導入路23bが設けれている。単一ハンマー22aはこ
の導入路23bに挿入され、それが可撓性を有する接合
力誘導管21aのワイヤ21bに接続されている。
The heat transfer guide brake (23a) is made of metal with good thermal conductivity and is provided with an introduction path 23b. A single hammer 22a is inserted into this introduction channel 23b, which is connected to the wire 21b of the flexible bonding force guide tube 21a.

これにより、個別加圧出力装置21からの接合力と熱の
供給を受けた単一ハンマー22aを、バンブ電極26a
と金属リード27aとの接合部に再現性良く加圧するこ
とができる。
As a result, the single hammer 22a, which has been supplied with bonding force and heat from the individual pressure output device 21, is moved to the bump electrode 26a.
Pressure can be applied to the joint between the metal lead 27a and the metal lead 27a with good reproducibility.

第4図は、本発明の実施例に係る個別加圧出力装置の説
明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of an individual pressurization output device according to an embodiment of the present invention.

図において、個別加圧出力装置21は、本発明の実施例
では、油圧シリンダ方式によるものである。すなわち、
接合力誘導管21aの内部のワイヤ21bが油圧シリン
ダ21cに接続されている。
In the figure, the individual pressurization output device 21 is of the hydraulic cylinder type in the embodiment of the present invention. That is,
A wire 21b inside the bonding force guide tube 21a is connected to a hydraulic cylinder 21c.

この油圧シリンダ21cは、バンブ電極、もしくは金属
リードの設置数に対応して設けられている。
The hydraulic cylinders 21c are provided in correspondence with the number of bump electrodes or metal leads installed.

また、油圧シリンダ21cの機能は、図において、個別
加圧出力装置21に設けられたオイル管のrOJ方向に
オイルを流入することにより、ワイヤ21bに圧力を供
給し、rOFFJ方向にオイルを流入することにより、
ワイヤ21bへの圧力を解除することができる。
In the figure, the function of the hydraulic cylinder 21c is to supply pressure to the wire 21b by flowing oil in the rOJ direction of the oil pipe provided in the individual pressure output device 21, and to cause oil to flow in the rOFFJ direction. By this,
The pressure on wire 21b can be released.

これらにより、本発明の実施例に係る半導体製造装置を
構成する。
These constitute a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

次に当該装置の接合処理動作について、第2図。Next, FIG. 2 shows the joining processing operation of the apparatus.

第3図、第4図を参照しながら、説明をする。The explanation will be given with reference to FIGS. 3 and 4.

例えば、v!4箔により形成された金属リード27aと
Pdバンプ電極26aとを接合処理をする場合、まず、
第2図において、ステージ駆動装置24のステージに半
導体チップ26を載置して、該半導体チップ26のバン
プtFj26aとを水平位置合わせをする。この際に接
合処理制御装置25からの制御信号S1によってステー
ジ駆動装W24が制御される。
For example, v! When bonding the metal lead 27a formed of four foils and the Pd bump electrode 26a, first,
In FIG. 2, the semiconductor chip 26 is placed on the stage of the stage driving device 24, and the bumps tFj26a of the semiconductor chip 26 are horizontally aligned. At this time, the stage drive device W24 is controlled by the control signal S1 from the bonding processing control device 25.

次いで、水平方向に位置合わ廿をしたステージをZ方向
に移動して、テープキャリアの金属り−ド27aと半導
体チップ26のバンブ電極26aとを垂直位置合わせを
する。
Next, the horizontally aligned stage is moved in the Z direction to vertically align the metal pad 27a of the tape carrier and the bump electrode 26a of the semiconductor chip 26.

なお、予め制御信号S2によって加熱装置23゜ヒータ
ー23bにより、熱伝達ガイドプレート23aを200
 ’C〜400℃程度に加熱して置く(第2図参照)。
Note that the heat transfer guide plate 23a is heated to 200° by the heating device 23° heater 23b in accordance with the control signal S2 in advance.
Heat to about 400°C to 400°C (see Figure 2).

次に、接合処理制御装置25から個別加圧出力21に制
御信号S3を出力する。この制御信号S3は、第4図に
おいて、オイルのrONJ 、r。
Next, a control signal S3 is outputted from the bonding processing control device 25 to the individual pressure output 21. This control signal S3 is applied to the oil rONJ and r in FIG.

FF」方向を選択する信号である。これにより、個別加
圧出力装置21において、オイルが「○NJ方向に流入
することによって、−群のバンブ電極26aと一群の金
属リード27aとを個別に接合することができる。
This signal selects the FF direction. As a result, in the individual pressurization output device 21, the oil flows in the ○NJ direction, so that the - group of bump electrodes 26a and the group of metal leads 27a can be individually joined.

このようにして、本発明によれば半導体チップ26のバ
ンプ1N!i+26aとテープキャリアの金属リード2
7aとを個別に接合する単一ハンマー22aが設けられ
ている。
In this way, according to the invention, the bumps 1N! of the semiconductor chip 26! i+26a and tape carrier metal lead 2
A single hammer 22a is provided for individually joining 7a.

このため、半導体チップ26の高集積化、高密度化に伴
うPdやAuメノキ工程の製造バラツキを原因とするバ
ンプ電fi26aの高さに不揃いを生じていた場合であ
っても、該バンブ電極26aと金属リード27aとを個
別に加圧接合することにより、精度良く、しかも再現性
良く、画電極263゜27aの接合処理をすることが可
能となる。
Therefore, even if the heights of the bump electrodes fi 26a are uneven due to manufacturing variations in the Pd or Au agate process due to higher integration and higher density of the semiconductor chip 26, the bump electrodes 26a By individually pressurizing and bonding the metal lead 27a and the metal lead 27a, it becomes possible to bond the picture electrode 263.degree. 27a with high precision and good reproducibility.

これにより、従来のような大面積をもつハンマーとバン
ブ電極の高さの不揃いを原因とする接合不良等を減少す
ることが可能となる。
This makes it possible to reduce bonding defects caused by uneven heights between the hammer and bump electrodes, which have a large area, as in the prior art.

なお、本発明の実施例によれば個別接合、すなわち点接
合による一括処理であるため、従来の大餌積のハンマー
による接合、すなわち−面多接合に比べて、熱応力等に
よるバンブ電極の変形等も、極力抑制することが可能と
なる。
In addition, according to the embodiment of the present invention, the batch process is performed by individual bonding, that is, point bonding, so the deformation of the bump electrode due to thermal stress, etc. is less than the conventional bonding using a hammer with a large area, that is, multi-sided bonding. etc., can be suppressed as much as possible.

〔発明の効果J 以上説明したように、本発明によれば単一ハンマーによ
る点接合によりバンブ電極に不揃いを生じた場合でも、
再現性良く、しかも精度良く、該バンブ電極と金属リー
ドとを接合することができこのため、従来のような一面
多接合を原因とする接合不良を減少させることができる
。従って、半導体チップの生産歩留りの向上を図ること
ができる。
[Effect of the Invention J As explained above, according to the present invention, even when unevenness occurs in the bump electrode due to point joining using a single hammer,
The bump electrode and the metal lead can be bonded with good reproducibility and precision, and therefore bonding defects caused by conventional one-sided multi-bonding can be reduced. Therefore, it is possible to improve the production yield of semiconductor chips.

これにより、高信頼度の半導体製造装置の製造に寄与す
るところが大きい。
This greatly contributes to the manufacture of highly reliable semiconductor manufacturing equipment.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の半導体製造装置に係る原理図、 第2図は、本発明の実施例の半導体製造装置に係る構成
国、 第3図は、本発明の実施例に係る熱伝達ガイドプレート
の構造図、 第4図は、本発明の実施例に係る個別加圧出力装置の説
明図、 第5図は、従来例の半導体製造装置に係る構成国、 第6図は、従来例の問題点に係る接合部分の拡大図であ
る。 (符号の説明) 11・・・加圧手段、 12・・・接合手段、 12a・・・単一接合子、 13・・・加熱手段、 14・・・試料台、 15・・・制御手段。
FIG. 1 is a principle diagram of a semiconductor manufacturing device according to the present invention; FIG. 2 is a constituent country related to a semiconductor manufacturing device according to an embodiment of the present invention; FIG. 3 is a heat transfer guide according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is an explanatory diagram of the individual pressure output device according to the embodiment of the present invention; FIG. 5 is the constituent countries of the conventional semiconductor manufacturing equipment; FIG. 6 is the diagram of the conventional semiconductor manufacturing device. FIG. 3 is an enlarged view of the joint portion related to the problem. (Explanation of symbols) 11... Pressurizing means, 12... Joining means, 12a... Single zygote, 13... Heating means, 14... Sample stage, 15... Control means.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 少なくとも、加圧手段(11)と、接合手段(12)と
、加熱手段(13)と、試料台(14)と制御手段(1
5)とを具備し、該制御手段(15)により前記試料台
(14)に載置された半導体チップ(16)と該接合手
段(12)とを垂直位置合わせ制御し、前記加圧手段(
11)と加熱手段(13)により、該半導体チップ(1
6)の被接合電極(16a)と該被接合電極(16a)
に対応するリード(17a)とを加熱加圧接合する半導
体製造装置において、 前記接合手段(12)は、前記半導体チップ(16)の
被接合電極(16a)と前記リード(17a)とを個別
に接合する単一接合子(12a)を設けていること特徴
とする半導体製造装置。
[Claims] At least a pressurizing means (11), a joining means (12), a heating means (13), a sample stage (14), and a control means (1).
5), the control means (15) controls the vertical alignment of the semiconductor chip (16) placed on the sample stage (14) and the bonding means (12), and the pressurizing means (
11) and heating means (13), the semiconductor chip (1
6) The electrode to be joined (16a) and the electrode to be joined (16a)
In a semiconductor manufacturing apparatus for bonding leads (17a) corresponding to leads (17a) under heat and pressure, the bonding means (12) individually connects the electrodes (16a) of the semiconductor chip (16) to be bonded and the leads (17a). A semiconductor manufacturing apparatus characterized in that a single junction (12a) for joining is provided.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04355940A (en) * 1991-03-27 1992-12-09 Nec Corp Joining method for tab inner lead and bonding tool for junction
JPH08172113A (en) * 1994-12-20 1996-07-02 Nec Corp Bonding device and bonding method using it

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