JP2795400B2 - ガラス基板のバッチ式熱処理炉 - Google Patents
ガラス基板のバッチ式熱処理炉Info
- Publication number
- JP2795400B2 JP2795400B2 JP6327608A JP32760894A JP2795400B2 JP 2795400 B2 JP2795400 B2 JP 2795400B2 JP 6327608 A JP6327608 A JP 6327608A JP 32760894 A JP32760894 A JP 32760894A JP 2795400 B2 JP2795400 B2 JP 2795400B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heater
- glass substrate
- furnace
- heat treatment
- side wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Vertical, Hearth, Or Arc Furnaces (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、側壁、天井、炉床より
なる炉壁のうち、少なくとも側壁にヒータを設けたガラ
ス基板のバッチ式熱処理炉に関するものである。
なる炉壁のうち、少なくとも側壁にヒータを設けたガラ
ス基板のバッチ式熱処理炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来、ガ
ラス基板をバッチ式熱処理炉により熱処理する場合、一
般に、ガラス基板の昇温後の均熱性のみが重要視されて
いるため、図５に示すように、トレイ１０に載置したガ
ラス基板Ｗを支持部材７に載置して、炉本体１の側壁５
に設けたヒータ６のみで熱処理していた。ところが、近
年、太陽電池に使用するガラス基板Ｗでは、昇温後の均
熱性だけでなく昇温、降温域においてもガラス基板Ｗの
温度分布の均一性が求められることが多くなってきた。
しかしながら、前述のバッチ式熱処理炉において、昇温
が開始されヒータ６が作動すると、ヒータ６と対向する
部分が他の部分より早く昇温する一方、降温時にヒータ
６を停止すると、炉殻からの放熱のため炉壁に対向する
部分は他の部分より早く冷却し、ガラス基板の温度分布
を均一にすることができなかった。
ラス基板をバッチ式熱処理炉により熱処理する場合、一
般に、ガラス基板の昇温後の均熱性のみが重要視されて
いるため、図５に示すように、トレイ１０に載置したガ
ラス基板Ｗを支持部材７に載置して、炉本体１の側壁５
に設けたヒータ６のみで熱処理していた。ところが、近
年、太陽電池に使用するガラス基板Ｗでは、昇温後の均
熱性だけでなく昇温、降温域においてもガラス基板Ｗの
温度分布の均一性が求められることが多くなってきた。
しかしながら、前述のバッチ式熱処理炉において、昇温
が開始されヒータ６が作動すると、ヒータ６と対向する
部分が他の部分より早く昇温する一方、降温時にヒータ
６を停止すると、炉殻からの放熱のため炉壁に対向する
部分は他の部分より早く冷却し、ガラス基板の温度分布
を均一にすることができなかった。
【０００３】これを防止するには、ヒータ６（側壁５）
とガラス基板Ｗとの間隔を大きくすることが考えられる
が、このようにすると、炉が大型化するとともにヒータ
６自体も側壁５からの放熱損失をカバーするため大容量
のものを使用しなければならず高価になるという課題を
有していた。本発明は、簡単な機構を付加することによ
り前記課題を解決することのできるガラス基板のバッチ
式熱処理炉を提供することを目的とする。
とガラス基板Ｗとの間隔を大きくすることが考えられる
が、このようにすると、炉が大型化するとともにヒータ
６自体も側壁５からの放熱損失をカバーするため大容量
のものを使用しなければならず高価になるという課題を
有していた。本発明は、簡単な機構を付加することによ
り前記課題を解決することのできるガラス基板のバッチ
式熱処理炉を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、側壁、天井、炉床よりなる炉壁のうち、
少なくとも側壁にヒータを設けたガラス基板のバッチ式
熱処理炉において、炉内にガラス基板の支持部材を鉛直
方向に所定間隔をもって配設するとともに、前記ガラス
基板を上下に挟んで冷却器と補助ヒータとを設け、前記
側壁に設けたヒータと補助ヒータとを独立して制御する
ようにしたものである。
成するために、側壁、天井、炉床よりなる炉壁のうち、
少なくとも側壁にヒータを設けたガラス基板のバッチ式
熱処理炉において、炉内にガラス基板の支持部材を鉛直
方向に所定間隔をもって配設するとともに、前記ガラス
基板を上下に挟んで冷却器と補助ヒータとを設け、前記
側壁に設けたヒータと補助ヒータとを独立して制御する
ようにしたものである。
【０００５】
【実施例】つぎに、本発明の実施例を図にしたがって説
明する。図１，図２は、本発明の第１実施例を示し、１
は炉本体、２は断熱材、３は開閉装置４に連設した扉で
ある。そして、炉本体１の天井および炉床を除く側壁５
内面にヒータ６を配設している。また、扉３に隣接する
側壁５ａ，５ｂには、梁からなる複数の支持部材７を対
向する側壁５ｂ，５ａに向かって延設し、かつ鉛直方向
に所定間隔を保って交互に配設している。
明する。図１，図２は、本発明の第１実施例を示し、１
は炉本体、２は断熱材、３は開閉装置４に連設した扉で
ある。そして、炉本体１の天井および炉床を除く側壁５
内面にヒータ６を配設している。また、扉３に隣接する
側壁５ａ，５ｂには、梁からなる複数の支持部材７を対
向する側壁５ｂ，５ａに向かって延設し、かつ鉛直方向
に所定間隔を保って交互に配設している。
【０００６】前記各段の支持部材７間と、最上段の支持
部材７の上方の側壁５ａ，５ｂには、冷却管８および複
数の補助ヒータ９をそれぞれ前記支持部材７と同様、一
方の側壁５ａ，５ｂから他方の側壁５ｂ，５ａに向かっ
て配設している。なお、前記ヒータ６と補助ヒータ９と
は独立して温度制御可能となっている。
部材７の上方の側壁５ａ，５ｂには、冷却管８および複
数の補助ヒータ９をそれぞれ前記支持部材７と同様、一
方の側壁５ａ，５ｂから他方の側壁５ｂ，５ａに向かっ
て配設している。なお、前記ヒータ６と補助ヒータ９と
は独立して温度制御可能となっている。
【０００７】つぎに、前記構成からなるガラス基板のバ
ッチ式熱処理炉の操業方法を説明する。まず、扉３を開
閉して、トレイ１０に載置したガラス基板Ｗを前記各段
の支持部材７上に載置する。
ッチ式熱処理炉の操業方法を説明する。まず、扉３を開
閉して、トレイ１０に載置したガラス基板Ｗを前記各段
の支持部材７上に載置する。
【０００８】そして、昇温にあたっては、ヒータ６と補
助ヒータ９とによりガラス基板Ｗを加熱するが、ヒータ
６からの供給熱量が大きければ、ヒータ６に対向するガ
ラス基板Ｗの端部が過加熱されるため、ヒータ６は炉壁
からの放熱を補給する程度に制御し、主として補助ヒー
タ９により昇温してガラス基板Ｗの温度分布を均一にす
る。その後、炉内は所定温度（焼成温度）まで昇温する
が、炉壁からの放熱、支持部材７からの伝導損失がある
ため、この熱損失を補うようヒータ６と補助ヒータ９と
を独立して制御し、ガラス基板Ｗの温度分布を均一に保
つ。
助ヒータ９とによりガラス基板Ｗを加熱するが、ヒータ
６からの供給熱量が大きければ、ヒータ６に対向するガ
ラス基板Ｗの端部が過加熱されるため、ヒータ６は炉壁
からの放熱を補給する程度に制御し、主として補助ヒー
タ９により昇温してガラス基板Ｗの温度分布を均一にす
る。その後、炉内は所定温度（焼成温度）まで昇温する
が、炉壁からの放熱、支持部材７からの伝導損失がある
ため、この熱損失を補うようヒータ６と補助ヒータ９と
を独立して制御し、ガラス基板Ｗの温度分布を均一に保
つ。
【０００９】つぎに、降温時には、前記冷却管８に冷却
用流体、たとえば冷却空気を供給してガラス基板Ｗを降
温するが、昇温時と同様、炉壁からの放熱によりガラス
基板Ｗの対向面が他の部分に比べて過冷却されることが
ある。したがって、ガラス基板Ｗに温度分布の差が生じ
ないようヒータ６にて微加熱しながら降温する。また、
冷却管８による冷却速度が早過ぎる場合には、補助ヒー
タ９により微加熱を行なうか、あるいは冷却流体の流量
調整を行なって冷却速度を抑制しながら降温してもよ
い。
用流体、たとえば冷却空気を供給してガラス基板Ｗを降
温するが、昇温時と同様、炉壁からの放熱によりガラス
基板Ｗの対向面が他の部分に比べて過冷却されることが
ある。したがって、ガラス基板Ｗに温度分布の差が生じ
ないようヒータ６にて微加熱しながら降温する。また、
冷却管８による冷却速度が早過ぎる場合には、補助ヒー
タ９により微加熱を行なうか、あるいは冷却流体の流量
調整を行なって冷却速度を抑制しながら降温してもよ
い。
【００１０】なお、前記ガラス基板Ｗの温度分布に対す
る許容範囲がより厳格な場合には、たとえば、ガラス基
板Ｗを上段、中段、下段にグループ分けするとともに、
それに対応してヒータ６、補助ヒータ９もグループ分け
して、各々を別制御するようにすればよい。また、前述
した温度制御は、側壁５あるいは支持部材７近傍に図示
しない温度センサを設け、この温度センサによりヒータ
６、補助ヒータ９を制御するものである。
る許容範囲がより厳格な場合には、たとえば、ガラス基
板Ｗを上段、中段、下段にグループ分けするとともに、
それに対応してヒータ６、補助ヒータ９もグループ分け
して、各々を別制御するようにすればよい。また、前述
した温度制御は、側壁５あるいは支持部材７近傍に図示
しない温度センサを設け、この温度センサによりヒータ
６、補助ヒータ９を制御するものである。
【００１１】図３，図４は本発明の第２実施例を示し、
前記支持部材７を箱体で構成し、この支持部材７内部に
冷却管８と補助ヒータ９を内蔵させて一体構成としたも
のである。ただし、炉上方の冷却管８、補助ヒータ９も
支持部材７と一体に構成したものを使用している。操業
については第１実施例と同様のため説明を省略する。
前記支持部材７を箱体で構成し、この支持部材７内部に
冷却管８と補助ヒータ９を内蔵させて一体構成としたも
のである。ただし、炉上方の冷却管８、補助ヒータ９も
支持部材７と一体に構成したものを使用している。操業
については第１実施例と同様のため説明を省略する。
【００１２】前記第１，第２実施例とも、対向する側壁
から交互に支持部材７、冷却管８、補助ヒータ９を炉内
に突出するように配設したが、同一側壁（たとえば５ａ
側）からすべてを炉内に突出させるように配設してもよ
い。
から交互に支持部材７、冷却管８、補助ヒータ９を炉内
に突出するように配設したが、同一側壁（たとえば５ａ
側）からすべてを炉内に突出させるように配設してもよ
い。
【００１３】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、炉壁のうち少なくとも側壁に設けたヒータの他
に、ガラス基板を上下に挟んで補助ヒータと冷却器とを
配設し、それぞれのヒータを独立して制御することによ
りヒータで炉壁からの放熱熱量に見合う熱量を補給しつ
つ、補助ヒータあるいは冷却器でガラス基板を加熱ある
いは冷却し、ガラス基板端部における過加熱あるいは過
冷却を防止するため、熱処理の全工程において、ガラス
基板の温度分布を均一に保つことができる。また、側壁
に配設するヒータは、前述のように、炉壁からの放熱熱
量に見合う熱量を補給するものであってガラス基板を直
接加熱するものでないため、このヒータでガラス基板端
部が過加熱することはない。そのため、炉側壁をガラス
基板端部に近接することができ、それだけ炉自体を小型
化でき省エネルギーと設備の低コスト化を実現すること
ができる。
よれば、炉壁のうち少なくとも側壁に設けたヒータの他
に、ガラス基板を上下に挟んで補助ヒータと冷却器とを
配設し、それぞれのヒータを独立して制御することによ
りヒータで炉壁からの放熱熱量に見合う熱量を補給しつ
つ、補助ヒータあるいは冷却器でガラス基板を加熱ある
いは冷却し、ガラス基板端部における過加熱あるいは過
冷却を防止するため、熱処理の全工程において、ガラス
基板の温度分布を均一に保つことができる。また、側壁
に配設するヒータは、前述のように、炉壁からの放熱熱
量に見合う熱量を補給するものであってガラス基板を直
接加熱するものでないため、このヒータでガラス基板端
部が過加熱することはない。そのため、炉側壁をガラス
基板端部に近接することができ、それだけ炉自体を小型
化でき省エネルギーと設備の低コスト化を実現すること
ができる。
【図１】 本発明にかかるガラス基板のバッチ式熱処理
炉の第１実施例を示す断面図。
炉の第１実施例を示す断面図。
【図２】 図１のII−II線断面図。
【図３】 第２実施例の断面図。
【図４】 図３のIV−IV線断面図。
【図５】 従来のガラス基板のバッチ式加熱処理炉の断
面図。
面図。
１…炉本体、５（５ａ，５ｂ）…側壁、６…ヒータ、７
…支持部材、８…冷却管、９…補助ヒータ、１０…トレ
イ、Ｗ…ガラス基板。
…支持部材、８…冷却管、９…補助ヒータ、１０…トレ
イ、Ｗ…ガラス基板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野村 紀之 大阪府大阪市西区京町堀２丁目４番７号 中外炉工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平１−100069（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−125896（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−302580（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 側壁、天井、炉床よりなる炉壁のうち、
少なくとも側壁にヒータを設けたガラス基板のバッチ式
熱処理炉において、炉内にガラス基板の支持部材を鉛直
方向に所定間隔をもって配設するとともに、前記ガラス
基板を上下に挟んで冷却器と補助ヒータとを設け、前記
側壁に設けたヒータと補助ヒータとを独立して制御する
ようにしたことを特徴とするガラス基板のバッチ式熱処
理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6327608A JP2795400B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | ガラス基板のバッチ式熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6327608A JP2795400B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | ガラス基板のバッチ式熱処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08178532A JPH08178532A (ja) | 1996-07-12 |
| JP2795400B2 true JP2795400B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=18200964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6327608A Expired - Lifetime JP2795400B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | ガラス基板のバッチ式熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2795400B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6238282B2 (ja) * | 2013-09-29 | 2017-11-29 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02302580A (ja) * | 1989-05-16 | 1990-12-14 | Murata Mfg Co Ltd | 焼成炉 |
| JPH0769111B2 (ja) * | 1989-10-12 | 1995-07-26 | 株式会社村田製作所 | 焼成炉 |
-
1994
- 1994-12-28 JP JP6327608A patent/JP2795400B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08178532A (ja) | 1996-07-12 |
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