JP2789827B2 - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2789827B2
JP2789827B2 JP3705191A JP3705191A JP2789827B2 JP 2789827 B2 JP2789827 B2 JP 2789827B2 JP 3705191 A JP3705191 A JP 3705191A JP 3705191 A JP3705191 A JP 3705191A JP 2789827 B2 JP2789827 B2 JP 2789827B2
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    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L24/743Apparatus for manufacturing layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L2224/743Apparatus for manufacturing layer connectors

Abstract

PURPOSE:To reduce a thermal resistance due to thin film bonding and to increase an yield of assembly for a semiconductor device. CONSTITUTION:A package 5 and a semiconductor element 1 which is attached to the attachment surface 8 of the package 5 are formed nearly in the same size. This device is so structured that the package may be die-bonded (40) onto the semiconductor element 1 with a thin film adhesive 20.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に関し、特に
パッケージに対し接着剤により半導体素子をダイボンド
することにより形成される半導体装置の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to an improvement in a semiconductor device formed by die-bonding a semiconductor element to a package with an adhesive.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液体窒素温度(77゜K)のよう
な極低温条件下で使用される赤外線検出器などでは、接
着剤を使用するダイボンド法が行われている。ところ
で、このような赤外線検出器は極低温条件下で使用され
ることから、赤外線検出器には熱収縮が発生し易く、半
田のような硬い物質を用いるダイボンド法では、これら
ダイボンド剤はパッケージと半導体素子の熱収縮率の違
いによる変位差を吸収できないので、半導体素子の破壊
を引き起こす結果となる。このため、赤外線検出器にお
けるダイボンド法にあっては、低温条件下において柔軟
で強靱な低温用接着剤を使用している。一般に低温用接
着剤としてエポキシ系やウレタン系の常温硬化型の接着
剤を使用することが多く、このような低温用接着剤とし
ては、たとえばハイソール(商品名)やクレスト(商品
名)などが知られている。そして、これらの低温用接着
剤は、低温条件下において柔軟性と高い接着強度とをも
っているが、その反面非常に大きい熱抵抗をもってい
る。このため、半導体装置を極低温条件下で使用する場
合、半導体素子はパッケージを通して冷却されるので、
半導体素子が充分に冷えず、結果として半導体装置とし
ての性能を充分に発揮することができないという問題を
生じる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a die bonding method using an adhesive has been performed in an infrared detector used under extremely low temperature conditions such as liquid nitrogen temperature (77 ° K.). By the way, since such infrared detectors are used under extremely low temperature conditions, the infrared detectors are liable to undergo heat shrinkage, and in the die bonding method using a hard substance such as solder, these die bonding agents are not included in the package. Since the displacement difference due to the difference in the heat shrinkage of the semiconductor element cannot be absorbed, the semiconductor element is destroyed. For this reason, in the die bonding method for the infrared detector, a low-temperature adhesive that is flexible and tough under low-temperature conditions is used. In general, an epoxy-based or urethane-based cold-setting adhesive is often used as the low-temperature adhesive, and examples of such low-temperature adhesives include Hysole (trade name) and Crest (trade name). Have been. These low-temperature adhesives have flexibility and high adhesive strength under low-temperature conditions, but have very high thermal resistance. Therefore, when the semiconductor device is used under cryogenic conditions, the semiconductor element is cooled through the package,
The semiconductor element does not cool sufficiently, and as a result, there arises a problem that the performance as a semiconductor device cannot be sufficiently exhibited.

【0003】図7および図8は従来の半導体装置を示す
ものであり、これらの図において、1は半導体素子、2
は半導体素子1の赤外線入射面、3は赤外線検出領域、
4はダイパッド、5はパッケージ、6はパッド、7はリ
ードで、パッケージ5内でパッド6に接続されている。
8はパッケージ5の接着剤塗布面領域、9はパッケージ
5の接着剤塗布面領域8に塗布された接着剤であり、ま
た10はダイボンド時に接着剤塗布面領域8から赤外線
検出領域3にはみ出した接着剤である。以上の構成によ
る半導体装置においてダイボンドは、次のような手順で
行われていた。まず、パッケージ5の接着剤塗布面領域
8の全面に、所定の方法で接着剤9を塗布する。そし
て、この接着剤9の塗布完了後に、張り合わせ装置を用
いてパッケージ5の中央に半導体素子1をダイボンドす
る。このとき、半導体素子1とパッケージ5との接合状
態を確実とするために、半導体素子1を上方から押し付
けるようにしている。そして、この状態で接着剤9が硬
化することで、ダイボンド処理が完了する。
FIGS. 7 and 8 show a conventional semiconductor device. In these figures, reference numeral 1 denotes a semiconductor element;
Is an infrared incident surface of the semiconductor element 1, 3 is an infrared detection area,
4 is a die pad, 5 is a package, 6 is a pad, and 7 is a lead, which is connected to the pad 6 in the package 5.
Reference numeral 8 denotes an adhesive applied surface area of the package 5, reference numeral 9 denotes an adhesive applied to the adhesive applied surface area 8 of the package 5, and reference numeral 10 protrudes from the adhesive applied surface area 8 to the infrared detection area 3 during die bonding. Adhesive. In the semiconductor device having the above configuration, die bonding is performed in the following procedure. First, an adhesive 9 is applied to the entire surface of the adhesive applied surface area 8 of the package 5 by a predetermined method. After the application of the adhesive 9 is completed, the semiconductor element 1 is die-bonded to the center of the package 5 using a bonding device. At this time, the semiconductor element 1 is pressed from above in order to ensure the bonding state between the semiconductor element 1 and the package 5. Then, the adhesive 9 is cured in this state, whereby the die bonding process is completed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな従来のダイボンド法では、接着剤9の粘性が高く、
これを接着剤塗布面領域8に塗布した場合に、どうして
も厚膜になってしまうものであり、パッケージ5と半導
体素子1との熱抵抗が高くなり、半導体装置の動作時
に、半導体素子1の性能を充分に発揮させることができ
ないという問題を生じていた。また、接着強度を大きく
するために、半導体素子1を充分に冷却するために、半
導体素子1とパッケージ5との間の接着面積をできるだ
け大きくする必要から、接着剤塗布面領域8の全面に接
着剤9を塗布しなければならないが、このように塗布す
ると、ダイボンド時に半導体素子1を押さえ付けたとき
に接着剤9が半導体素子1の赤外線入射面2側の赤外線
検出領域3にまではみ出し、ダイボンド不良によるアッ
センブリの歩留りを低下させるという問題があった。
In the conventional die bonding method as described above, the viscosity of the adhesive 9 is high.
When this is applied to the adhesive applied surface region 8, the film becomes inevitably thick, the thermal resistance between the package 5 and the semiconductor element 1 increases, and the performance of the semiconductor element 1 during operation of the semiconductor device is increased. Has not been fully exhibited. Further, in order to sufficiently cool the semiconductor element 1 in order to increase the adhesive strength, the adhesive area between the semiconductor element 1 and the package 5 needs to be as large as possible. When the semiconductor element 1 is pressed down during the die bonding, the adhesive 9 protrudes to the infrared detection area 3 on the infrared incident surface 2 side of the semiconductor element 1 and the die bonding is performed. There is a problem that the yield of the assembly is reduced due to the failure.

【0005】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであって、パッケージと半導体素子との薄膜接着を
可能とし、これによりパッケージと半導体素子間の熱抵
抗を低減させ、半導体素子の性能を充分に発揮させ得る
とともに、接着剤のはみ出しを低減させ、ダイボンドに
よるアッセンブリの歩留りを向上させ得るようにした半
導体装置を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of such circumstances, and enables thin film bonding between a package and a semiconductor element, thereby reducing the thermal resistance between the package and the semiconductor element and improving the performance of the semiconductor element. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device capable of sufficiently exhibiting the above characteristics, reducing the protrusion of an adhesive, and improving the yield of assembly by die bonding.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】このような要請に応える
ために本発明に係る半導体装置は、パッケージと、この
パッケージの被接着面に接着される半導体素子とを同等
の大きさにて構成し、その半導体素子上にパッケージを
ダイボンドするように構成したものである。
In order to satisfy such a demand, a semiconductor device according to the present invention comprises a package and a semiconductor element bonded to a surface to be bonded of the package having the same size. , And a package is die-bonded on the semiconductor element.

【0007】[0007]

【作用】本発明によれば、同等の大きさにて形成したパ
ッケージと半導体素子とのダイボンドによって、これら
間での接着を容易に薄膜接着とし、これによりこれらパ
ッケージと半導体素子間での熱抵抗を低減させ、半導体
装置としての性能を充分に発揮させ得るとともに、接着
剤の半導体素子上での赤外線検出領域へのはみ出しを極
力減少させ、アッセンブリの歩留りを向上させ得るもの
である。
According to the present invention, the bonding between a package and a semiconductor element formed in the same size is easily made into a thin film bonding by die bonding between the package and the semiconductor element. In addition, the performance of the semiconductor device can be sufficiently exhibited, and the protrusion of the adhesive into the infrared detection region on the semiconductor element can be reduced as much as possible, thereby improving the yield of the assembly.

【0008】[0008]

【実施例】図1ないし図6は本発明に係る半導体装置の
一実施例を示すものであり、これらの図において前述し
た図7および図8と同一または相当する部分には同一番
号を付してその説明は省略する。さて、本発明によれ
ば、パッケージ5と、このパッケージ5の被接着面に接
着される半導体素子1とを、図1、図2および図3等か
ら明かなように、略同等の大きさにて構成したところに
特徴を有している。ここで、図2において符号11は半
導体素子1上で検出器等が製造されるパターン領域、1
2は半導体素子1上で何もないダミー領域である。ま
た、図3および図4は図2で示した半導体素子1を収納
するパッケージ5を示しており、ここで図4において符
号8で示した部分が半導体素子1との被接着面となる接
着剤塗布面領域である。このような接着剤塗布面領域8
に対して薄膜接着剤20を塗布する方法の一例を図6に
示しており、この図6において30は平面が正確にでて
いる平面台で、この平面台30上に図6の(a)に示すよ
うに薄膜接着剤20が薄くしかも均一に伸ばして載せら
れる。31はこの薄膜接着剤20を転写するローラで、
図6の(a)に示す状態から、同図(b)に示すようにその外
周面に薄膜接着剤20が転写される。そして、このよう
なローラ31をパッケージ5の被接着面である接着剤塗
布面領域8に接して転接させることで、同図(c)に示す
ように、薄膜接着剤20をパッケージ5側に転写されて
塗布されることになるものである。図5に上述した半導
体素子1とパッケージ5とをダイボンドする方法を示し
ており、図中40はダイボンド治具であり、このダイボ
ンド治具40上に図示したように半導体素子1が装着さ
れる。そして、このようにダイボンド治具40上に装着
した半導体素子1に、前述したように薄膜接着剤20が
塗布されたパッケージ5を載せて該治具40に装着し、
これら半導体素子1とパッケージ5とをダイボンドする
とよい。ここで、このような本発明におけるダイボンド
方法では、半導体素子1上にパッケージ5をダイボンド
するために、半導体素子1には、従来の場合とは異な
り、パターンが何も形成されてないダミー領域12が必
要となる。一方、パッケージ5の大きさは、半導体素子
1の大きさと同一となり、その接着面塗布面領域8の大
きさは半導体素子1のダミー領域と等しくなる。
1 to 6 show an embodiment of a semiconductor device according to the present invention. In these figures, the same or corresponding parts as those in FIGS. 7 and 8 are denoted by the same reference numerals. The description is omitted. According to the present invention, the package 5 and the semiconductor element 1 adhered to the surface to be adhered of the package 5 are made to have substantially the same size as is apparent from FIGS. It is characterized by its configuration. Here, in FIG. 2, reference numeral 11 denotes a pattern area where a detector or the like is manufactured on the semiconductor element 1;
Numeral 2 denotes a dummy area having nothing on the semiconductor element 1. FIGS. 3 and 4 show a package 5 for accommodating the semiconductor element 1 shown in FIG. 2. Here, the portion indicated by reference numeral 8 in FIG. This is the application surface area. Such an adhesive applied surface area 8
FIG. 6 shows an example of a method of applying the thin film adhesive 20 to the surface table. In FIG. 6, reference numeral 30 denotes a plane table on which the plane is accurate, and FIG. As shown in (1), the thin film adhesive 20 is thinly and uniformly stretched and placed. A roller 31 transfers the thin film adhesive 20.
From the state shown in FIG. 6A, the thin film adhesive 20 is transferred to the outer peripheral surface as shown in FIG. 6B. Then, the roller 31 is brought into contact with the adhesive-applied surface area 8 which is the surface to be adhered of the package 5 and rolled, so that the thin film adhesive 20 is applied to the package 5 side as shown in FIG. It is to be transferred and applied. FIG. 5 shows a method for die-bonding the semiconductor element 1 and the package 5 described above. In the figure, reference numeral 40 denotes a die-bonding jig, on which the semiconductor element 1 is mounted as shown. Then, the package 5 coated with the thin film adhesive 20 as described above is mounted on the semiconductor element 1 mounted on the die bonding jig 40 as described above, and mounted on the jig 40,
The semiconductor element 1 and the package 5 may be die-bonded. Here, in the die bonding method of the present invention, since the package 5 is die-bonded on the semiconductor element 1, unlike the conventional case, the dummy region 12 on which no pattern is formed is different from the conventional case. Is required. On the other hand, the size of the package 5 is the same as the size of the semiconductor element 1, and the size of the bonding surface application surface area 8 is equal to the size of the dummy area of the semiconductor element 1.

【0009】このような構成において、まず、パッケー
ジ5に前述した図6に示したような方法にて接着剤20
を薄膜塗布する。次に、この接着剤20が塗布されたパ
ッケージ5と半導体素子1とを、図4および図1に示す
順序にてダイボンドする。すなわち、半導体素子1と同
等よりも僅かにおおきな凹部を有するダイボンド治具を
用い、その部分で半導体素子1とパッケージ5のダイボ
ンドを行うとよい。まず、半導体素子1を赤外線入射面
2を下向きとして、図5に示すように治具40の凹部内
に装着する。そして、この状態で前述したように薄膜接
着剤20を予め塗布したパッケージ5を載せてこれを治
具40に装着し、この状態で上方から押えてダイボンド
を確実とし、この状態で接着剤20を硬化させる。この
とき、半導体素子1とパッケージ5のアライメントは特
に何もすることなく完了している。そして、このような
構成では、同等の大きさを有するパッケージ5と半導体
素子1とをダイボンドしていることで、これら間での接
着を容易に薄膜接着とし、これによりこれらパッケージ
5と半導体素子1間での熱抵抗を低減させ、半導体装置
としての性能を充分に発揮させ得るとともに、接着剤2
0の半導体素子1上での赤外線検出領域3へのはみ出し
を極力減少させ、ダイボンド不良によるアッセンブリの
歩留りを向上させ得るものである。
In such a configuration, first, the adhesive 20 is attached to the package 5 by the method shown in FIG.
Is applied as a thin film. Next, the package 5 to which the adhesive 20 has been applied and the semiconductor element 1 are die-bonded in the order shown in FIGS. That is, it is preferable to use a die bonding jig having a slightly larger concave portion than that of the semiconductor element 1 and to perform die bonding between the semiconductor element 1 and the package 5 at that portion. First, the semiconductor element 1 is mounted in the recess of the jig 40 with the infrared incident surface 2 facing downward as shown in FIG. Then, in this state, as described above, the package 5 on which the thin film adhesive 20 has been applied in advance is mounted and mounted on the jig 40. In this state, pressing is performed from above to secure the die bond. Let it cure. At this time, the alignment between the semiconductor element 1 and the package 5 is completed without any particular operation. In such a configuration, the package 5 having the same size and the semiconductor element 1 are die-bonded, so that the thin film can be easily bonded between the packages 5 and the semiconductor element 1. In addition to reducing the thermal resistance between the two, the performance of the semiconductor device can be sufficiently exhibited, and the adhesive 2
In this case, it is possible to minimize the protrusion of the No. 0 on the semiconductor element 1 into the infrared detection region 3 and to improve the yield of the assembly due to a defective die bond.

【0010】なお、本発明は上述した実施例構造には限
定されず、各部の構造等を適宜変更することは自由であ
る。たとえば上述した実施例では、ダイボンド治具40
にセット用として凹部を設けているが、これに代えて位
置決めピン等を立ててアライメントするように構成して
もよい。また、上述した実施例では、転写ローラ31を
用いてパッケージ5への薄膜接着剤20の塗布を行って
いるが、これに代えて種々の接着剤塗布方法を採用して
もよいことは言うまでもない。要は薄膜接着剤20を、
パッケージ5上に塗布し得る手法であればよい。
The present invention is not limited to the structure of the embodiment described above, and the structure and the like of each part can be freely changed. For example, in the above-described embodiment, the die bonding jig 40
Although a concave portion is provided for the setting, a positioning pin or the like may be provided vertically for alignment instead. In the above-described embodiment, the transfer roller 31 is used to apply the thin film adhesive 20 to the package 5. However, it goes without saying that various adhesive application methods may be used instead. . In short, the thin film adhesive 20
Any method that can be applied on the package 5 may be used.

【0011】[0011]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る半導体
装置によれば、パッケージと、このパッケージの被接着
面に接着される半導体素子とを同等の大きさにて構成
し、その半導体素子上にパッケージをダイボンドするよ
うに構成したので、これら間での接着を薄膜接着するこ
とが容易に行え、これによりこれらパッケージと半導体
素子間での熱抵抗を低減させ、半導体装置としての性能
を充分に発揮させ得るとともに、接着剤の半導体素子上
での赤外線検出領域等へのはみ出しを極力減少させ、ア
ッセンブリのダイボンドによる歩留りを向上させ得るも
ので、また容易にしかも精度よく半導体素子とパッケー
ジのアライメントで行える等の種々優れた効果がある。
As described above, according to the semiconductor device of the present invention, the package and the semiconductor element adhered to the surface to be adhered of the package are formed in the same size, and the Since the package is configured to be die-bonded, thin films can be easily bonded between them, thereby reducing the thermal resistance between the package and the semiconductor element and sufficiently improving the performance as a semiconductor device. In addition to reducing the amount of adhesive that protrudes into the infrared detection area on the semiconductor element, the yield can be improved by die bonding of the assembly. There are various excellent effects such as performing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る半導体装置の一実施例を示すダイ
ボンド治具上での半導体素子とパッケージとのダイボン
ドを行っている状態を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a state in which die bonding between a semiconductor element and a package is performed on a die bonding jig, showing one embodiment of a semiconductor device according to the present invention.

【図2】半導体素子の概略構成を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of a semiconductor element.

【図3】パッケージの概略構成を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a schematic configuration of a package.

【図4】図3でのIV−IV線断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG.

【図5】半導体素子をダイボンド治具に装着した状態を
示す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a state where the semiconductor element is mounted on a die bonding jig.

【図6】パッケージの被接着面への薄膜接着剤の塗布方
法を説明するための概略説明図である。
FIG. 6 is a schematic explanatory view for explaining a method of applying a thin film adhesive to a surface to be bonded of a package.

【図7】従来の半導体装置を例示する概略断面図であ
る。
FIG. 7 is a schematic sectional view illustrating a conventional semiconductor device.

【図8】図7のVIII−VIII線断面図である。8 is a sectional view taken along line VIII-VIII in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体素子 2 赤外線入射面 3 赤外線検出領域 4 ダイパッド 5 パッケージ 6 パッド 7 リード 8 接着剤塗布面領域(被接着面) 12 ダミー領域 20 薄膜接着剤 40 ダイボンド治具 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor element 2 Infrared incident surface 3 Infrared detection area 4 Die pad 5 Package 6 Pad 7 Lead 8 Adhesive applied surface area (adhered surface) 12 Dummy area 20 Thin film adhesive 40 Die bond jig

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 パッケージと、このパッケージの被接着
面に接着される半導体素子とを備えてなり、この半導体
素子を、前記パッケージと同等の大きさにて構成したこ
とを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device comprising: a package; and a semiconductor element adhered to a surface to be adhered of the package, wherein the semiconductor element has a size equivalent to that of the package.
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