JPH04297040A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH04297040A
JPH04297040A JP3705191A JP3705191A JPH04297040A JP H04297040 A JPH04297040 A JP H04297040A JP 3705191 A JP3705191 A JP 3705191A JP 3705191 A JP3705191 A JP 3705191A JP H04297040 A JPH04297040 A JP H04297040A
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die
bonding
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    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
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Abstract

PURPOSE:To reduce a thermal resistance due to thin film bonding and to increase an yield of assembly for a semiconductor device. CONSTITUTION:A package 5 and a semiconductor element 1 which is attached to the attachment surface 8 of the package 5 are formed nearly in the same size. This device is so structured that the package may be die-bonded (40) onto the semiconductor element 1 with a thin film adhesive 20.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に関し、特に
パッケージに対し接着剤により半導体素子をダイボンド
することにより形成される半導体装置の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor devices, and more particularly to improvements in semiconductor devices formed by die-bonding a semiconductor element to a package using an adhesive.

【0002】0002

【従来の技術】従来、液体窒素温度(77゜K)のよう
な極低温条件下で使用される赤外線検出器などでは、接
着剤を使用するダイボンド法が行われている。ところで
、このような赤外線検出器は極低温条件下で使用される
ことから、赤外線検出器には熱収縮が発生し易く、半田
のような硬い物質を用いるダイボンド法では、これらダ
イボンド剤はパッケージと半導体素子の熱収縮率の違い
による変位差を吸収できないので、半導体素子の破壊を
引き起こす結果となる。このため、赤外線検出器におけ
るダイボンド法にあっては、低温条件下において柔軟で
強靱な低温用接着剤を使用している。一般に低温用接着
剤としてエポキシ系やウレタン系の常温硬化型の接着剤
を使用することが多く、このような低温用接着剤として
は、たとえばハイソール(商品名)やクレスト(商品名
)などが知られている。そして、これらの低温用接着剤
は、低温条件下において柔軟性と高い接着強度とをもっ
ているが、その反面非常に大きい熱抵抗をもっている。 このため、半導体装置を極低温条件下で使用する場合、
半導体素子はパッケージを通して冷却されるので、半導
体素子が充分に冷えず、結果として半導体装置としての
性能を充分に発揮することができないという問題を生じ
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, in infrared detectors and the like used under extremely low temperature conditions such as liquid nitrogen temperature (77°K), a die bonding method using an adhesive has been used. By the way, since such infrared detectors are used under extremely low temperature conditions, they tend to undergo thermal shrinkage, and in die bonding methods that use hard substances such as solder, these die bonding agents are difficult to bond with the package. Since the displacement difference due to the difference in thermal contraction rate of the semiconductor element cannot be absorbed, this results in destruction of the semiconductor element. For this reason, in the die-bonding method for infrared detectors, a low-temperature adhesive that is flexible and tough under low-temperature conditions is used. In general, epoxy-based or urethane-based room-temperature curing adhesives are often used as low-temperature adhesives, and examples of such low-temperature adhesives include Hysole (product name) and Crest (product name). It is being These low-temperature adhesives have flexibility and high adhesive strength under low-temperature conditions, but on the other hand, they have very high thermal resistance. Therefore, when using semiconductor devices under extremely low temperature conditions,
Since the semiconductor element is cooled through the package, the semiconductor element is not cooled down sufficiently, resulting in a problem that the performance of the semiconductor device cannot be fully demonstrated.

【0003】図7および図8は従来の半導体装置を示す
ものであり、これらの図において、1は半導体素子、2
は半導体素子1の赤外線入射面、3は赤外線検出領域、
4はダイパッド、5はパッケージ、6はパッド、7はリ
ードで、パッケージ5内でパッド6に接続されている。 8はパッケージ5の接着剤塗布面領域、9はパッケージ
5の接着剤塗布面領域8に塗布された接着剤であり、ま
た10はダイボンド時に接着剤塗布面領域8から赤外線
検出領域3にはみ出した接着剤である。以上の構成によ
る半導体装置においてダイボンドは、次のような手順で
行われていた。まず、パッケージ5の接着剤塗布面領域
8の全面に、所定の方法で接着剤9を塗布する。そして
、この接着剤9の塗布完了後に、張り合わせ装置を用い
てパッケージ5の中央に半導体素子1をダイボンドする
。このとき、半導体素子1とパッケージ5との接合状態
を確実とするために、半導体素子1を上方から押し付け
るようにしている。そして、この状態で接着剤9が硬化
することで、ダイボンド処理が完了する。
7 and 8 show conventional semiconductor devices. In these figures, 1 is a semiconductor element, and 2 is a semiconductor device.
is the infrared incident surface of the semiconductor element 1, 3 is the infrared detection area,
4 is a die pad, 5 is a package, 6 is a pad, and 7 is a lead, which is connected to the pad 6 within the package 5. 8 is the adhesive applied surface area of the package 5, 9 is the adhesive applied to the adhesive applied surface area 8 of the package 5, and 10 is the adhesive applied to the infrared ray detection area 3 from the adhesive applied surface area 8 during die bonding. It is an adhesive. In the semiconductor device having the above configuration, die bonding was performed in the following procedure. First, the adhesive 9 is applied to the entire surface of the adhesive application surface area 8 of the package 5 using a predetermined method. After the application of the adhesive 9 is completed, the semiconductor element 1 is die-bonded to the center of the package 5 using a bonding device. At this time, in order to ensure the bonding state between the semiconductor element 1 and the package 5, the semiconductor element 1 is pressed from above. Then, the adhesive 9 is cured in this state, thereby completing the die bonding process.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな従来のダイボンド法では、接着剤9の粘性が高く、
これを接着剤塗布面領域8に塗布した場合に、どうして
も厚膜になってしまうものであり、パッケージ5と半導
体素子1との熱抵抗が高くなり、半導体装置の動作時に
、半導体素子1の性能を充分に発揮させることができな
いという問題を生じていた。また、接着強度を大きくす
るために、半導体素子1を充分に冷却するために、半導
体素子1とパッケージ5との間の接着面積をできるだけ
大きくする必要から、接着剤塗布面領域8の全面に接着
剤9を塗布しなければならないが、このように塗布する
と、ダイボンド時に半導体素子1を押さえ付けたときに
接着剤9が半導体素子1の赤外線入射面2側の赤外線検
出領域3にまではみ出し、ダイボンド不良によるアッセ
ンブリの歩留りを低下させるという問題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional die bonding method as described above, the viscosity of the adhesive 9 is high;
When this adhesive is applied to the adhesive application surface area 8, it inevitably becomes a thick film, which increases the thermal resistance between the package 5 and the semiconductor element 1, and reduces the performance of the semiconductor element 1 during operation of the semiconductor device. This has caused the problem that it is not possible to fully utilize the functions. In addition, in order to increase the adhesive strength and to sufficiently cool the semiconductor element 1, it is necessary to increase the adhesive area between the semiconductor element 1 and the package 5 as much as possible. The adhesive 9 must be applied, but if applied in this way, when the semiconductor element 1 is pressed during die bonding, the adhesive 9 will spill out into the infrared detection area 3 on the infrared incident surface 2 side of the semiconductor element 1, preventing the die bonding. There is a problem in that the yield of the assembly is reduced due to defects.

【0005】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであって、パッケージと半導体素子との薄膜接着を
可能とし、これによりパッケージと半導体素子間の熱抵
抗を低減させ、半導体素子の性能を充分に発揮させ得る
とともに、接着剤のはみ出しを低減させ、ダイボンドに
よるアッセンブリの歩留りを向上させ得るようにした半
導体装置を提供することを目的としている。
The present invention was made in view of the above circumstances, and enables thin film bonding between a package and a semiconductor element, thereby reducing the thermal resistance between the package and the semiconductor element and improving the performance of the semiconductor element. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device which can fully exhibit the properties of the semiconductor device, reduce adhesive extrusion, and improve the yield of assembly by die bonding.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】このような要請に応える
ために本発明に係る半導体装置は、パッケージと、この
パッケージの被接着面に接着される半導体素子とを同等
の大きさにて構成し、その半導体素子上にパッケージを
ダイボンドするように構成したものである。
[Means for Solving the Problems] In order to meet such demands, a semiconductor device according to the present invention has a package and a semiconductor element bonded to the surface of the package that are of the same size. , the package is die-bonded onto the semiconductor element.

【0007】[0007]

【作用】本発明によれば、同等の大きさにて形成したパ
ッケージと半導体素子とのダイボンドによって、これら
間での接着を容易に薄膜接着とし、これによりこれらパ
ッケージと半導体素子間での熱抵抗を低減させ、半導体
装置としての性能を充分に発揮させ得るとともに、接着
剤の半導体素子上での赤外線検出領域へのはみ出しを極
力減少させ、アッセンブリの歩留りを向上させ得るもの
である。
[Function] According to the present invention, by die-bonding the package and the semiconductor element formed in the same size, the bonding between them is easily made into a thin film bond, thereby reducing the thermal resistance between the package and the semiconductor element. In addition, it is possible to fully exhibit the performance of a semiconductor device, and to reduce as much as possible the protrusion of the adhesive into the infrared detection region on the semiconductor element, thereby improving the yield of the assembly.

【0008】[0008]

【実施例】図1ないし図6は本発明に係る半導体装置の
一実施例を示すものであり、これらの図において前述し
た図7および図8と同一または相当する部分には同一番
号を付してその説明は省略する。さて、本発明によれば
、パッケージ5と、このパッケージ5の被接着面に接着
される半導体素子1とを、図1、図2および図3等から
明かなように、略同等の大きさにて構成したところに特
徴を有している。ここで、図2において符号11は半導
体素子1上で検出器等が製造されるパターン領域、12
は半導体素子1上で何もないダミー領域である。また、
図3および図4は図2で示した半導体素子1を収納する
パッケージ5を示しており、ここで図4において符号8
で示した部分が半導体素子1との被接着面となる接着剤
塗布面領域である。このような接着剤塗布面領域8に対
して薄膜接着剤20を塗布する方法の一例を図6に示し
ており、この図6において30は平面が正確にでている
平面台で、この平面台30上に図6の(a)に示すよう
に薄膜接着剤20が薄くしかも均一に伸ばして載せられ
る。31はこの薄膜接着剤20を転写するローラで、図
6の(a)に示す状態から、同図(b)に示すようにそ
の外周面に薄膜接着剤20が転写される。そして、この
ようなローラ31をパッケージ5の被接着面である接着
剤塗布面領域8に接して転接させることで、同図(c)
に示すように、薄膜接着剤20をパッケージ5側に転写
されて塗布されることになるものである。図5に上述し
た半導体素子1とパッケージ5とをダイボンドする方法
を示しており、図中40はダイボンド治具であり、この
ダイボンド治具40上に図示したように半導体素子1が
装着される。そして、このようにダイボンド治具40上
に装着した半導体素子1に、前述したように薄膜接着剤
20が塗布されたパッケージ5を載せて該治具40に装
着し、これら半導体素子1とパッケージ5とをダイボン
ドするとよい。ここで、このような本発明におけるダイ
ボンド方法では、半導体素子1上にパッケージ5をダイ
ボンドするために、半導体素子1には、従来の場合とは
異なり、パターンが何も形成されてないダミー領域12
が必要となる。一方、パッケージ5の大きさは、半導体
素子1の大きさと同一となり、その接着面塗布面領域8
の大きさは半導体素子1のダミー領域と等しくなる。
[Embodiment] FIGS. 1 to 6 show an embodiment of a semiconductor device according to the present invention, and in these figures, the same or corresponding parts as in FIGS. 7 and 8 described above are designated by the same numbers. Therefore, the explanation will be omitted. Now, according to the present invention, the package 5 and the semiconductor element 1 to be bonded to the surface of the package 5 are made to have approximately the same size, as is clear from FIGS. 1, 2, 3, etc. It is characterized by its structure. Here, in FIG. 2, reference numeral 11 denotes a pattern area where a detector etc. are manufactured on the semiconductor element 1;
is a dummy area where there is nothing on the semiconductor element 1. Also,
3 and 4 show a package 5 that houses the semiconductor element 1 shown in FIG.
The part indicated by is the adhesive coated surface area which becomes the surface to be adhered to the semiconductor element 1. An example of a method of applying the thin film adhesive 20 to the adhesive application surface area 8 is shown in FIG. As shown in FIG. 6(a), the thin film adhesive 20 is spread thinly and uniformly on the adhesive 30. Reference numeral 31 denotes a roller for transferring the thin film adhesive 20, and the thin film adhesive 20 is transferred from the state shown in FIG. 6(a) to the outer circumferential surface of the roller 31 as shown in FIG. 6(b). By rolling such a roller 31 in contact with the adhesive application surface area 8 which is the surface to be adhered of the package 5, as shown in FIG.
As shown in FIG. 2, the thin film adhesive 20 is transferred and applied to the package 5 side. FIG. 5 shows a method of die-bonding the semiconductor element 1 and the package 5 described above. In the figure, 40 is a die-bonding jig, and the semiconductor element 1 is mounted on this die-bonding jig 40 as shown. Then, the package 5 coated with the thin film adhesive 20 as described above is placed on the semiconductor element 1 mounted on the die bonding jig 40 in this manner, and the package 5 is mounted on the jig 40. It is recommended to die-bond the Here, in the die bonding method according to the present invention, in order to die bond the package 5 onto the semiconductor element 1, the semiconductor element 1 has a dummy region 12 in which no pattern is formed, unlike the conventional case.
Is required. On the other hand, the size of the package 5 is the same as the size of the semiconductor element 1, and its adhesive surface coating area 8
The size of the area is equal to that of the dummy area of the semiconductor element 1.

【0009】このような構成において、まず、パッケー
ジ5に前述した図6に示したような方法にて接着剤20
を薄膜塗布する。次に、この接着剤20が塗布されたパ
ッケージ5と半導体素子1とを、図4および図1に示す
順序にてダイボンドする。すなわち、半導体素子1と同
等よりも僅かにおおきな凹部を有するダイボンド治具を
用い、その部分で半導体素子1とパッケージ5のダイボ
ンドを行うとよい。まず、半導体素子1を赤外線入射面
2を下向きとして、図5に示すように治具40の凹部内
に装着する。そして、この状態で前述したように薄膜接
着剤20を予め塗布したパッケージ5を載せてこれを治
具40に装着し、この状態で上方から押えてダイボンド
を確実とし、この状態で接着剤20を硬化させる。この
とき、半導体素子1とパッケージ5のアライメントは特
に何もすることなく完了している。そして、このような
構成では、同等の大きさを有するパッケージ5と半導体
素子1とをダイボンドしていることで、これら間での接
着を容易に薄膜接着とし、これによりこれらパッケージ
5と半導体素子1間での熱抵抗を低減させ、半導体装置
としての性能を充分に発揮させ得るとともに、接着剤2
0の半導体素子1上での赤外線検出領域3へのはみ出し
を極力減少させ、ダイボンド不良によるアッセンブリの
歩留りを向上させ得るものである。
In this configuration, first, the adhesive 20 is applied to the package 5 by the method shown in FIG.
Apply a thin film. Next, the package 5 coated with the adhesive 20 and the semiconductor element 1 are die-bonded in the order shown in FIGS. 4 and 1. That is, it is preferable to use a die bonding jig having a recess slightly larger than that of the semiconductor element 1, and perform die bonding between the semiconductor element 1 and the package 5 at that part. First, the semiconductor element 1 is mounted in the recess of the jig 40, as shown in FIG. 5, with the infrared incident surface 2 facing downward. Then, in this state, the package 5 coated with the thin film adhesive 20 in advance is mounted on the jig 40 as described above, and in this state, it is pressed from above to ensure die bonding, and in this state, the adhesive 20 is applied. Let it harden. At this time, the alignment of the semiconductor element 1 and the package 5 is completed without any special action. In such a configuration, by die-bonding the package 5 and the semiconductor element 1, which have the same size, the bonding between them is easily achieved by thin film bonding, and thereby the package 5 and the semiconductor element 1 are bonded together. In addition to reducing the thermal resistance between
It is possible to reduce as much as possible the protrusion of 0 to the infrared detection area 3 on the semiconductor element 1, and improve the yield of assemblies due to defective die bonding.

【0010】なお、本発明は上述した実施例構造には限
定されず、各部の構造等を適宜変更することは自由であ
る。たとえば上述した実施例では、ダイボンド治具40
にセット用として凹部を設けているが、これに代えて位
置決めピン等を立ててアライメントするように構成して
もよい。また、上述した実施例では、転写ローラ31を
用いてパッケージ5への薄膜接着剤20の塗布を行って
いるが、これに代えて種々の接着剤塗布方法を採用して
もよいことは言うまでもない。要は薄膜接着剤20を、
パッケージ5上に塗布し得る手法であればよい。
[0010] The present invention is not limited to the structure of the above-described embodiment, and the structure of each part may be changed as appropriate. For example, in the embodiment described above, the die bonding jig 40
A recessed portion is provided for setting, but instead of this, a configuration may be adopted in which a positioning pin or the like is erected for alignment. Further, in the above embodiment, the thin film adhesive 20 is applied to the package 5 using the transfer roller 31, but it goes without saying that various adhesive application methods may be adopted instead. . In short, the thin film adhesive 20,
Any method that can be applied onto the package 5 may be used.

【0011】[0011]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る半導体
装置によれば、パッケージと、このパッケージの被接着
面に接着される半導体素子とを同等の大きさにて構成し
、その半導体素子上にパッケージをダイボンドするよう
に構成したので、これら間での接着を薄膜接着すること
が容易に行え、これによりこれらパッケージと半導体素
子間での熱抵抗を低減させ、半導体装置としての性能を
充分に発揮させ得るとともに、接着剤の半導体素子上で
の赤外線検出領域等へのはみ出しを極力減少させ、アッ
センブリのダイボンドによる歩留りを向上させ得るもの
で、また容易にしかも精度よく半導体素子とパッケージ
のアライメントで行える等の種々優れた効果がある。
As explained above, according to the semiconductor device according to the present invention, the package and the semiconductor element bonded to the surface to be bonded of the package are configured to have the same size, and the semiconductor element is Since the package is configured to be die-bonded, it is easy to bond them with a thin film, which reduces the thermal resistance between the package and the semiconductor element, and provides sufficient performance as a semiconductor device. In addition, it is possible to reduce as much as possible the protrusion of the adhesive into the infrared detection area, etc. on the semiconductor element, improve the yield of die bonding of the assembly, and also to easily and precisely align the semiconductor element and the package. There are various excellent effects such as:

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明に係る半導体装置の一実施例を示すダイ
ボンド治具上での半導体素子とパッケージとのダイボン
ドを行っている状態を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a semiconductor element and a package are die-bonded on a die-bonding jig, showing an embodiment of a semiconductor device according to the present invention.

【図2】半導体素子の概略構成を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of a semiconductor element.

【図3】パッケージの概略構成を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a schematic configuration of the package.

【図4】図3でのIV−IV線断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3;

【図5】半導体素子をダイボンド治具に装着した状態を
示す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a semiconductor element is mounted on a die bonding jig.

【図6】パッケージの被接着面への薄膜接着剤の塗布方
法を説明するための概略説明図である。
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a method of applying a thin film adhesive to a surface of a package to be adhered.

【図7】従来の半導体装置を例示する概略断面図である
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view illustrating a conventional semiconductor device.

【図8】図7のVIII−VIII線断面図である。FIG. 8 is a sectional view taken along line VIII-VIII in FIG. 7;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1    半導体素子 2    赤外線入射面 3    赤外線検出領域 4    ダイパッド 5    パッケージ 6    パッド 7    リード 8    接着剤塗布面領域(被接着面)12    
ダミー領域 20    薄膜接着剤 40    ダイボンド治具
1 Semiconductor element 2 Infrared incident surface 3 Infrared detection region 4 Die pad 5 Package 6 Pad 7 Lead 8 Adhesive application surface region (adhered surface) 12
Dummy area 20 Thin film adhesive 40 Die bond jig

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  パッケージと、このパッケージの被接
着面に接着される半導体素子とを備えてなり、この半導
体素子を、前記パッケージと同等の大きさにて構成した
ことを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device comprising a package and a semiconductor element bonded to an adhesive surface of the package, the semiconductor element having the same size as the package.
JP3705191A 1991-03-04 1991-03-04 Semiconductor device Expired - Lifetime JP2789827B2 (en)

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