JP2783918B2 - 光起電力装置の製造方法 - Google Patents

光起電力装置の製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、軽量でフレキシブルな
薄膜状光起電力装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フレキシブルな光起電力装置の製造方法
としては、特開昭６１−８５８７２号公報に記載されて
いるように、ガラス基板上に金属層と非晶質シリコン層
・ＩＴＯ層及び集電極を順次形成した後、ガラス基板を
剥離する方法がある。しかしながら前記金属層として、
ステンレス鋼・クロム・銀等が使われており、ステンレ
ス鋼・クロムはガラス基板に対する剥離性が悪いので、
ガラス基板を剥離する時にむらが多くて実用的でない。
銀を使用した場合は剥離性が多少良いが、銀層の上に非
晶質シリコン層を形成する時に、銀が非晶質シリコン内
に移動して光起電力装置としての性能を低下する欠点が
ある。
【０００３】このような欠点を解消するために、特開平
１−１０５５８１には、支持基板上にポリイミド樹脂層
と透明電極・アモルファスシリコン半導体層及び背面電
極を形成した後、これを水中に浸漬することによって前
記ポリイミド樹脂層と支持基板とを剥離する方法が記載
されている。
【０００４】しかしながらこの方法は、剥離剤としてポ
リイミド樹脂層を用いているために、次のような欠点が
ある。即ち、 （１）樹脂の耐熱性は最大摂氏３００度程度であり、そ
の上には、形成温度が摂氏約６００度の酸化スズ（Ｓｎ
Ｏ2）膜をつけることができない。従って、抵抗が小さ
く光透過率の高い酸化スズを透明導電膜として使用する
ことができず、抵抗の大きい他の導電膜を使用しなけれ
ばならない。 （２）支持基板から光起電力装置を剥離する時に、剥離
性にむらがあり、再現性に乏しい。 （３）樹脂層は吸水性が高い為に、光起電力層の形成時
に真空容器内にガスを発生し、このガスが光起電力層内
に侵入して膜質を低下させる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、水中に浸漬
せずとも支持基板から容易に剥離できるフレキシブル性
に富んだ薄膜状の光起電力装置を提供せんとするもので
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、無機系第１保
護膜、第１電極、アモルファスシリコン製光起電力層、
第２電極及び第２保護膜を順次積層した光起電力装置の
製造方法であって、支持基板上に、この支持基板と前記
無機第１保護膜とに剥離性が良い金属層を形成する工程
と、この金属層上に前記無機系第１保護膜、前記第１電
極、前記アモルファスシリコン製光起電力層、前記第２
電極及び前記第２保護膜を順次積層する工程と、この工
程の後、前記支持基板を前記金属層を介して前記無機第
１保護膜から剥離する工程と、からなることを特徴とす
る。
【０００７】
【作用】このようにすることによって、光起電力装置を
剥離するに際して、金属層を介して容易に剥離でき、ま
た無機系第１保護膜によって光起電力装置を保護するこ
とができる。
【０００８】以下実施例を図に基づいて説明すると、１
は青板ガラス等の支持基板で、その上にエレクトロンビ
ーム法によって鉛製の金属層２を形成する。その後、第
１保護膜３となる二酸化硅素、及び酸化スズ等の透明第
１電極４を形成し、更に光起電力層５となるアモルファ
スシリコン膜をｐ層・ｉ層・ｎ層の順で形成した後、第
２電極６を形成し、更に第２保護膜となるラミネートフ
ィルムを貼りつける。
【０００９】その後、支持基板１から光起電力層５を剥
離するのであるが、前記金属層２は鉛製であるために剥
離性が良く、しかも青板ガラス製の支持基板１に対する
剥離性よりも二酸化硅素に対するそれの方が良いので、
光起電力層５を剥離する時に、金属層２と二酸化硅素か
ら成る第１保護膜３との間で剥離が生ずる。而して二酸
化硅素は透明であるため、第１保護膜３を入射光側とし
た光起電力装置を得ることができる。
【００１０】なお、第１保護膜３は基板加熱を行わずに
形成するのが望ましい。基板加熱を行うと、第１保護膜
である二酸化硅素と金属層２との間の結着力が強くなっ
て剥離しにくくなると共に、金属層２を通して二酸化硅
素が支持基板１にも付着して、ますます剥離しにくくな
ってしまうからである。
【００１１】光起電力層５を、ｎ層・ｉ層・ｐ層の順で
形成する場合は、第２電極６と第２保護膜７を透明にす
る。この場合も光起電力層５を支持基板１から剥離する
に際して、金属層２と無機系第１保護膜３との間で剥離
が生ずる。このタイプでは、第２保護膜７側を入射光側
として使用する方が光変換効率が良い。
【００１２】なお、光起電力層５がいずれのタイプであ
っても、剥離性が良好な金属２として、鉛の他に亜鉛や
錫を使用することができる。
【００１３】
【発明の効果】本発明は支持基板上に光起電力層を形成
した後に、これを支持基板から剥離して光起電力装置を
作るので、軽量で薄く、且つフレキシブルな光起電力装
置を簡単に作ることができる。また、剥離剤として鉛等
の金属を使用しているので、透明導電膜や光起電力層を
形成する時に多少の熱が加わってもガスが発生するよう
なことがなく、光起電力層の膜質を低下して変換効率を
下げるようなことはない。更に前記金属層の表面を無機
系第１保護膜で覆っているので、第１電極を形成する際
に前記金属が第１電極に浸透したり、その逆の移動が生
ずることはなく、しかも前記無機系第１保護膜は光起電
力装置の保護膜として働くので、耐久性に富んだ光起電
力装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図面は、本発明に係る光起電力装置の製造方法
の製造途中の断面図である。
【符号の説明】
１ 支持基板 ２ 金属層 ３ 無機系第１保護膜 ４ 第１電極 ５ アモルファスシリコン製光起電力層 ６ 第２電極 ７ 第２保護膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 沢田 謙司 守口市京阪本通２丁目18番地 三洋電機 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−234082（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−107073（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−300571（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 31/04

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 無機系第１保護膜、第１電極、アモルフ
    ァスシリコン製光起電力層、第２電極及び第２保護膜を
    順次積層した光起電力装置の製造方法であって、 支持基板上に、この支持基板と前記無機第１保護膜とに
    剥離性が良い金属層を形成する工程と、 この金属層上に前記無機系第１保護膜、前記第１電極、
    前記アモルファスシリコン製光起電力層、前記第２電極
    及び前記第２保護膜を順次積層する工程と、 この工程の後、前記支持基板を前記金属層を介して前記
    無機第１保護膜から剥離する工程と、 からなることを特徴とする光起電力装置の製造方法。
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