JP2781524B2 - グラス被膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
グラス被膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼板の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は方向性電磁鋼板の製造に
際し、最終仕上げ焼鈍工程において、極めて均一で、優
れた高張力のグラス被膜をコイル全面に亘って形成する
と共に、磁気特性の良好な方向性電磁鋼板を得るための
製造方法に関する。
際し、最終仕上げ焼鈍工程において、極めて均一で、優
れた高張力のグラス被膜をコイル全面に亘って形成する
と共に、磁気特性の良好な方向性電磁鋼板を得るための
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、方向性電磁鋼板はＳｉ２．０〜
４．５％を含有する素材スラブを熱延し、焼鈍と１回又
は中間焼鈍を挟む２回以上の冷延により最終板厚とされ
る。次いで、連続焼鈍炉においてＨ2 或いはＮ2 ＋Ｈ2
雰囲気中でＰ H2 O ／Ｐ H2 を制御して脱炭焼鈍を行
い、脱炭、一次再結晶及びＳｉＯ2 を主成分とする酸化
層形成処理を行う。その後、ＭｇＯを主成分とする焼鈍
分離剤をスラリー状としてコーティングロール等により
鋼板に塗布し、乾燥後、コイルに巻取り最終仕上げ焼鈍
を行い、通常は絶縁被膜剤処理とヒートフラットニング
を行って最終製品とされる。
４．５％を含有する素材スラブを熱延し、焼鈍と１回又
は中間焼鈍を挟む２回以上の冷延により最終板厚とされ
る。次いで、連続焼鈍炉においてＨ2 或いはＮ2 ＋Ｈ2
雰囲気中でＰ H2 O ／Ｐ H2 を制御して脱炭焼鈍を行
い、脱炭、一次再結晶及びＳｉＯ2 を主成分とする酸化
層形成処理を行う。その後、ＭｇＯを主成分とする焼鈍
分離剤をスラリー状としてコーティングロール等により
鋼板に塗布し、乾燥後、コイルに巻取り最終仕上げ焼鈍
を行い、通常は絶縁被膜剤処理とヒートフラットニング
を行って最終製品とされる。
【０００３】この方向性電磁鋼板は〈００１〉軸を持つ
（１１０）〈００１〉結晶が高温の二次再結晶で優先的
に成長し、鋼中にインヒビターとして分散しているＡｌ
Ｎ，ＭｎＳ等によって、その成長を抑えられている他の
結晶を侵食するために、（１１０）〈００１〉結晶が優
先的に成長するものと考えられている。従って、優れた
方向性電磁鋼板を製造するためには、鋼中インヒビター
の分散状態と、これらの分解までの制御が重要である。
特に、最終仕上げ焼鈍においてインヒビターは脱炭焼鈍
で形成した鋼板表面の酸化膜、焼鈍分離剤及び最終仕上
げ焼鈍での熱サイクルや雰囲気ガス条件により影響を受
ける。
（１１０）〈００１〉結晶が高温の二次再結晶で優先的
に成長し、鋼中にインヒビターとして分散しているＡｌ
Ｎ，ＭｎＳ等によって、その成長を抑えられている他の
結晶を侵食するために、（１１０）〈００１〉結晶が優
先的に成長するものと考えられている。従って、優れた
方向性電磁鋼板を製造するためには、鋼中インヒビター
の分散状態と、これらの分解までの制御が重要である。
特に、最終仕上げ焼鈍においてインヒビターは脱炭焼鈍
で形成した鋼板表面の酸化膜、焼鈍分離剤及び最終仕上
げ焼鈍での熱サイクルや雰囲気ガス条件により影響を受
ける。
【０００４】仕上げ焼鈍におけるグラス被膜形成反応
は、焼鈍分離剤のＭｇＯと脱炭焼鈍で形成されたＳｉＯ
2 主体の酸化膜と反応して通常グラス被膜と呼ぶフォル
ステライト被膜を形成する（２ＭｇＯ＋ＳｉＯ2 →Ｍｇ
2 ＳｉＯ4 ）。又、この際、鋼中インヒビターとしてＡ
ｌＮを用いる場合にはフォルステライト被膜直下付近に
Ａｌ2 Ｏ3 とＭｇＯ，ＳｉＯ2 等によるスピネル構造の
化合物を形成する。
は、焼鈍分離剤のＭｇＯと脱炭焼鈍で形成されたＳｉＯ
2 主体の酸化膜と反応して通常グラス被膜と呼ぶフォル
ステライト被膜を形成する（２ＭｇＯ＋ＳｉＯ2 →Ｍｇ
2 ＳｉＯ4 ）。又、この際、鋼中インヒビターとしてＡ
ｌＮを用いる場合にはフォルステライト被膜直下付近に
Ａｌ2 Ｏ3 とＭｇＯ，ＳｉＯ2 等によるスピネル構造の
化合物を形成する。
【０００５】このグラス被膜形成においては、ＭｇＯと
ＳｉＯ2 の反応は純粋系においては１６００℃近い高温
でなければ反応が生じないため、酸化膜の性状（成分、
形成状態）、仕上げ焼鈍条件の制御（ヒートサイクル、
雰囲気ガス）と共に焼鈍分離剤の性状として、主成分の
ＭｇＯの不純物の調整、粒径、粒子形状、表面状態、活
性度等の他、反応促進剤の添加剤を利用して、仕上げ焼
鈍工程において如何に低温から均一なグラス被膜形成を
行わせるかが優れたグラス被膜と良好な磁気特性を得る
ための重要なカギとなる。このように、方向性電磁鋼板
の商品価値を決定する上で重要なグラス被膜と磁気特性
に対して、脱炭酸化膜と焼鈍分離剤用の添加剤及び仕上
げ焼鈍条件の影響が大きいことから、鋼板成分にマッチ
したこれらの工程条件の開発は、方向性電磁鋼板製造技
術上重要な課題となってきている。
ＳｉＯ2 の反応は純粋系においては１６００℃近い高温
でなければ反応が生じないため、酸化膜の性状（成分、
形成状態）、仕上げ焼鈍条件の制御（ヒートサイクル、
雰囲気ガス）と共に焼鈍分離剤の性状として、主成分の
ＭｇＯの不純物の調整、粒径、粒子形状、表面状態、活
性度等の他、反応促進剤の添加剤を利用して、仕上げ焼
鈍工程において如何に低温から均一なグラス被膜形成を
行わせるかが優れたグラス被膜と良好な磁気特性を得る
ための重要なカギとなる。このように、方向性電磁鋼板
の商品価値を決定する上で重要なグラス被膜と磁気特性
に対して、脱炭酸化膜と焼鈍分離剤用の添加剤及び仕上
げ焼鈍条件の影響が大きいことから、鋼板成分にマッチ
したこれらの工程条件の開発は、方向性電磁鋼板製造技
術上重要な課題となってきている。
【０００６】前述のように、グラス被膜形成工程におい
て使用されるＭｇＯは、通常、必要に応じて反応促進剤
として配合する少量の添加剤と共に水に懸濁させてスラ
リー状として鋼板に塗布される。この添加剤は通常、酸
化物、Ｓ化合物、Ｂ化合物等がフォルステライト被膜形
成の反応促進剤として利用されてきた。この際、ＭｇＯ
の製造条件によっては、例えば、高活性の場合、水との
混合撹拌条件によってはＭｇＯ→Ｍｇ（ＯＨ）2 となる
水和反応が生じ、コイル内（板間）に水分を持ち込む結
果、板間露点を高め且つコイル長手方向及び幅方向にお
いて雰囲気状態を不均一にする問題がある。又、添加剤
の種類や量によっては、余剰の酸素や反応促進効果の違
いによって、グラス被膜の質、量に大きい影響を与え
る。このため、仕上げ焼鈍昇温過程において不均一で、
過剰な追加酸化を生じさせ、スケール、ガスマーク、ピ
ンホール、変色等の重度の被膜欠陥を引き起こす。
て使用されるＭｇＯは、通常、必要に応じて反応促進剤
として配合する少量の添加剤と共に水に懸濁させてスラ
リー状として鋼板に塗布される。この添加剤は通常、酸
化物、Ｓ化合物、Ｂ化合物等がフォルステライト被膜形
成の反応促進剤として利用されてきた。この際、ＭｇＯ
の製造条件によっては、例えば、高活性の場合、水との
混合撹拌条件によってはＭｇＯ→Ｍｇ（ＯＨ）2 となる
水和反応が生じ、コイル内（板間）に水分を持ち込む結
果、板間露点を高め且つコイル長手方向及び幅方向にお
いて雰囲気状態を不均一にする問題がある。又、添加剤
の種類や量によっては、余剰の酸素や反応促進効果の違
いによって、グラス被膜の質、量に大きい影響を与え
る。このため、仕上げ焼鈍昇温過程において不均一で、
過剰な追加酸化を生じさせ、スケール、ガスマーク、ピ
ンホール、変色等の重度の被膜欠陥を引き起こす。
【０００７】この高水和による問題点を解決するための
手段としては、一般的には、高温焼成のＭｇＯの使用に
よる方法が採用される。この方法を開示したものとし
て、例えば、特開昭５５−７３８２３号公報がある。こ
のような焼成温度を上げることで得られた低活性ＭｇＯ
では、水和性の低下は得られるが活性（反応性）や付着
性が低下する欠点がある。又、焼鈍分離剤中への添加剤
によるグラス被膜及び磁性の改善技術として、特公平２
−５８２０号公報にはＳｂ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｚｒの塩化物
の１種又は２種以上をＭｇＯ１００重量部に対して０．
０２〜１．５重量部添加する方法が提案されている。
手段としては、一般的には、高温焼成のＭｇＯの使用に
よる方法が採用される。この方法を開示したものとし
て、例えば、特開昭５５−７３８２３号公報がある。こ
のような焼成温度を上げることで得られた低活性ＭｇＯ
では、水和性の低下は得られるが活性（反応性）や付着
性が低下する欠点がある。又、焼鈍分離剤中への添加剤
によるグラス被膜及び磁性の改善技術として、特公平２
−５８２０号公報にはＳｂ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｚｒの塩化物
の１種又は２種以上をＭｇＯ１００重量部に対して０．
０２〜１．５重量部添加する方法が提案されている。
【０００８】これにより添加剤化合物が鋼板表面の酸化
層成分のＳｉＯ2 リッチ化と緻密化をもたらし、仕上げ
焼鈍において追加酸化の抑制と反応促進効果をもたらし
て、優れた鉄損特性とグラス被膜が得られるものであ
る。又、特開平３−１２０３７６号公報には前記のよう
な塩化物の添加技術の改善技術として、Ｍｇ，Ｎａ，Ｋ
及びＣａから選択された金属塩化物をＭｇＯへ添加すれ
ば硫酸アンチモン、メタ珪酸ナトリウムの併用なしに磁
気特性の改善効果が得られることが示されている。この
ように、これらのＭｇＯの性状や反応促進剤の添加剤を
改善することでグラス被膜形成反応が改善され、効果が
得られている。
層成分のＳｉＯ2 リッチ化と緻密化をもたらし、仕上げ
焼鈍において追加酸化の抑制と反応促進効果をもたらし
て、優れた鉄損特性とグラス被膜が得られるものであ
る。又、特開平３−１２０３７６号公報には前記のよう
な塩化物の添加技術の改善技術として、Ｍｇ，Ｎａ，Ｋ
及びＣａから選択された金属塩化物をＭｇＯへ添加すれ
ば硫酸アンチモン、メタ珪酸ナトリウムの併用なしに磁
気特性の改善効果が得られることが示されている。この
ように、これらのＭｇＯの性状や反応促進剤の添加剤を
改善することでグラス被膜形成反応が改善され、効果が
得られている。
【０００９】又、仕上げ焼鈍サイクルを改良して方向性
電磁鋼板の品質を向上させる技術を開示したものとし
て、特開昭４９−７６７１９号公報がある。これは、Ｓ
ｉ；４％以下、Ｃ；０．０６％以下、Ｓｂ；０．００５
〜０．１００％及びＡｌ；０．０１〜０．０５％含有す
る素材を用いて、最終仕上げ焼鈍において８００〜９５
０℃の温度範囲で二次再結晶を十分に発達させることを
目標とするものである。即ち、二次再結晶温度の低いこ
の発明における成分素材を、８５０〜９５０℃の温度域
で保持し、十分に二次再結晶後、引き続き１１８０℃以
上のような高温で純化焼鈍を行うもので、これによる、
磁気特性の向上が得られている。しかし、鋼成分、脱炭
焼鈍条件や最終仕上げ焼鈍条件によってはグラス被膜特
性や磁気特性が不安定になる場合があり、未だ十分な技
術とはいえず、更なる技術改善が望まれているところで
ある。このように、仕上げ焼鈍において安定したグラス
被膜形成技術の開発は方向性電磁鋼板の製造に関わる技
術者の長年の課題である。
電磁鋼板の品質を向上させる技術を開示したものとし
て、特開昭４９−７６７１９号公報がある。これは、Ｓ
ｉ；４％以下、Ｃ；０．０６％以下、Ｓｂ；０．００５
〜０．１００％及びＡｌ；０．０１〜０．０５％含有す
る素材を用いて、最終仕上げ焼鈍において８００〜９５
０℃の温度範囲で二次再結晶を十分に発達させることを
目標とするものである。即ち、二次再結晶温度の低いこ
の発明における成分素材を、８５０〜９５０℃の温度域
で保持し、十分に二次再結晶後、引き続き１１８０℃以
上のような高温で純化焼鈍を行うもので、これによる、
磁気特性の向上が得られている。しかし、鋼成分、脱炭
焼鈍条件や最終仕上げ焼鈍条件によってはグラス被膜特
性や磁気特性が不安定になる場合があり、未だ十分な技
術とはいえず、更なる技術改善が望まれているところで
ある。このように、仕上げ焼鈍において安定したグラス
被膜形成技術の開発は方向性電磁鋼板の製造に関わる技
術者の長年の課題である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、１２８０℃
以下の低温スラブ加熱でＡｌＮ或いは（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ
をインヒビターとして利用する高温二次再結晶プロセス
材のグラス被膜の均一化と高張力化及び磁気特性の向上
を得るための製造方法を提供することを目的としてなさ
れた。
以下の低温スラブ加熱でＡｌＮ或いは（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ
をインヒビターとして利用する高温二次再結晶プロセス
材のグラス被膜の均一化と高張力化及び磁気特性の向上
を得るための製造方法を提供することを目的としてなさ
れた。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋼成分と
して、重量％でＣ；０．０１０〜０．０７５％、Ｓｉ；
２．０〜４．５％、Ｓ；０．０１５％以下、酸可溶Ａ
ｌ；０．０１０〜０．０３５％、Ｎ；０．０１２％以
下、Ｍｎ；０．０５〜０．４５％、残部をＦｅ及び不可
避の不純物からなる電磁鋼スラブを１２８０℃以下の低
温でスラブ加熱を行った後、熱延し、１回又は中間焼鈍
を挟む２回以上の冷延により最終板厚とし、脱炭焼鈍と
窒化焼鈍をし、焼鈍分離剤を塗布後、仕上げ焼鈍し、絶
縁被膜処理することからなる方向性電磁鋼板の製造方法
において、グラス被膜形成反応を向上させるべく、脱炭
焼鈍及び焼鈍分離剤の塗布〜最終仕上げ焼鈍条件につい
て研究を行った。
して、重量％でＣ；０．０１０〜０．０７５％、Ｓｉ；
２．０〜４．５％、Ｓ；０．０１５％以下、酸可溶Ａ
ｌ；０．０１０〜０．０３５％、Ｎ；０．０１２％以
下、Ｍｎ；０．０５〜０．４５％、残部をＦｅ及び不可
避の不純物からなる電磁鋼スラブを１２８０℃以下の低
温でスラブ加熱を行った後、熱延し、１回又は中間焼鈍
を挟む２回以上の冷延により最終板厚とし、脱炭焼鈍と
窒化焼鈍をし、焼鈍分離剤を塗布後、仕上げ焼鈍し、絶
縁被膜処理することからなる方向性電磁鋼板の製造方法
において、グラス被膜形成反応を向上させるべく、脱炭
焼鈍及び焼鈍分離剤の塗布〜最終仕上げ焼鈍条件につい
て研究を行った。
【００１２】その結果、本発明適用素材のように、イン
ヒビターとしてＡｌＮ或いは（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを使用す
る二次再結晶温度の高い素材においては、従来の方向性
電磁鋼板とは特別に異なって、グラス被膜形成と二次再
結晶の機能分離が可能であることを発見した。即ち、グ
ラス被膜形成反応の活発な温度領域で、焼鈍分離剤の添
加剤の反応性向上と熱サイクル効果で十分なグラス被膜
形成を行わせた後、二次再結晶を行なわせ、極めて優れ
たグラス被膜と磁気特性の両立を得られる技術の完成に
至ったのである。
ヒビターとしてＡｌＮ或いは（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを使用す
る二次再結晶温度の高い素材においては、従来の方向性
電磁鋼板とは特別に異なって、グラス被膜形成と二次再
結晶の機能分離が可能であることを発見した。即ち、グ
ラス被膜形成反応の活発な温度領域で、焼鈍分離剤の添
加剤の反応性向上と熱サイクル効果で十分なグラス被膜
形成を行わせた後、二次再結晶を行なわせ、極めて優れ
たグラス被膜と磁気特性の両立を得られる技術の完成に
至ったのである。
【００１３】このための焼鈍分離剤として、脱炭焼鈍に
より、酸化膜成分としてＳｉＯ2 とファイヤライト主成
分の酸化膜を形成した鋼板上にＭｇＯに、ハロゲン化合
物とアルカリ金属或いはアルカリ土類金属を必要に応じ
て添加した焼鈍分離剤を塗布し、最終仕上げ焼鈍の昇温
時８５０〜１１００℃における昇温率を平均１２℃／Hr
以下として焼鈍することによりグラス被膜形成が均一で
優れ、磁気特性が極めて良好な方向性電磁鋼板が得られ
る。
より、酸化膜成分としてＳｉＯ2 とファイヤライト主成
分の酸化膜を形成した鋼板上にＭｇＯに、ハロゲン化合
物とアルカリ金属或いはアルカリ土類金属を必要に応じ
て添加した焼鈍分離剤を塗布し、最終仕上げ焼鈍の昇温
時８５０〜１１００℃における昇温率を平均１２℃／Hr
以下として焼鈍することによりグラス被膜形成が均一で
優れ、磁気特性が極めて良好な方向性電磁鋼板が得られ
る。
【００１４】本発明は、グラス被膜形成と二次再結晶過
程における脱炭焼鈍、焼鈍分離剤、最終仕上げ焼鈍にお
ける従来技術の解決策として以下の構成を要旨とする。 （１）重量％でＣ；０．０１０〜０．０７５％、Ｓｉ；
２．０〜４．５％、Ｓ；０．０１５％以下、酸可溶Ａ
ｌ；０．０１０〜０．０３５％、Ｎ；０．０１２％以
下、Ｍｎ；０．０５〜０．４５％、残部をＦｅ及び不可
避の不純物からなる電磁鋼スラブを１２８０℃以下の低
温でスラブ加熱を行った後、熱延し、１回又は中間焼鈍
を挟む２回以上の冷延により最終板厚とし、脱炭焼鈍と
窒化焼鈍をし、焼鈍分離剤を塗布後、仕上げ焼鈍し、絶
縁被膜処理することからなる方向性電磁鋼板の製造方法
において、焼鈍分離剤としてＭｇＯ１００重量部に対
し、ハロゲン化合物の１種又は２種以上をＦ，Ｃｌ，Ｂ
ｒ，Ｉとして０．０１５〜０．１２０重量部含む焼鈍分
離剤を塗布し、最終仕上げ焼鈍の８５０〜１１００℃の
領域の平均昇温率を１２℃／Hr以下として昇熱後、高温
仕上げ焼鈍することを特徴とする、グラス被膜と磁気特
性の極めて優れる方向性電磁鋼板の製造方法。
程における脱炭焼鈍、焼鈍分離剤、最終仕上げ焼鈍にお
ける従来技術の解決策として以下の構成を要旨とする。 （１）重量％でＣ；０．０１０〜０．０７５％、Ｓｉ；
２．０〜４．５％、Ｓ；０．０１５％以下、酸可溶Ａ
ｌ；０．０１０〜０．０３５％、Ｎ；０．０１２％以
下、Ｍｎ；０．０５〜０．４５％、残部をＦｅ及び不可
避の不純物からなる電磁鋼スラブを１２８０℃以下の低
温でスラブ加熱を行った後、熱延し、１回又は中間焼鈍
を挟む２回以上の冷延により最終板厚とし、脱炭焼鈍と
窒化焼鈍をし、焼鈍分離剤を塗布後、仕上げ焼鈍し、絶
縁被膜処理することからなる方向性電磁鋼板の製造方法
において、焼鈍分離剤としてＭｇＯ１００重量部に対
し、ハロゲン化合物の１種又は２種以上をＦ，Ｃｌ，Ｂ
ｒ，Ｉとして０．０１５〜０．１２０重量部含む焼鈍分
離剤を塗布し、最終仕上げ焼鈍の８５０〜１１００℃の
領域の平均昇温率を１２℃／Hr以下として昇熱後、高温
仕上げ焼鈍することを特徴とする、グラス被膜と磁気特
性の極めて優れる方向性電磁鋼板の製造方法。
【００１５】 （２）（１）に記載の製造方法において、焼鈍分離剤Ｍ
ｇＯに添加するハロゲン物質がＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉとし
て０．０１５〜０．１２０重量部に対し、アルカリ金属
化合物及びアルカリ土類金属化合物の１種又は２種以上
を０．０１０〜０．５０重量部添加することを特徴とす
る、グラス被膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼
板の製造方法。 （３）（１）又は（２）に記載の製造方法において、仕
上げ焼鈍の８５０〜１１００℃における温度領域で５〜
２０Hrの範囲で一定温度に保持することを特徴とする、
グラス被膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼板の
製造方法。これにより、従来技術では実現できなかった
広範囲の製造条件下においてコイル全面、全幅に亘って
グラス被膜が均一で、高張力且つ密着性が優れ、更に高
磁束密度と低鉄損の方向性が得られる。
ｇＯに添加するハロゲン物質がＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉとし
て０．０１５〜０．１２０重量部に対し、アルカリ金属
化合物及びアルカリ土類金属化合物の１種又は２種以上
を０．０１０〜０．５０重量部添加することを特徴とす
る、グラス被膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼
板の製造方法。 （３）（１）又は（２）に記載の製造方法において、仕
上げ焼鈍の８５０〜１１００℃における温度領域で５〜
２０Hrの範囲で一定温度に保持することを特徴とする、
グラス被膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼板の
製造方法。これにより、従来技術では実現できなかった
広範囲の製造条件下においてコイル全面、全幅に亘って
グラス被膜が均一で、高張力且つ密着性が優れ、更に高
磁束密度と低鉄損の方向性が得られる。
【００１６】本発明の適用にあたっては、前記のような
成分スラブを出発材として、このスラブを１２８０℃以
下の低温で加熱し、熱延し、焼鈍し、冷延して最終板厚
とした後、脱炭焼鈍し、表面にＳｉＯ2 をファイヤライ
ト主成分の酸化膜を形成した後、窒化処理を行って調整
される。この鋼板上に焼鈍分離剤として、ＭｇＯ１００
重量部にハロゲン元素化合物の１種又は２種以上をＦ，
Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉとして０．０１０〜０．１２０重量部と
必要に応じてアルカリ金属或いはアルカリ土類金属化合
物や他の酸化物等を含む物質を純水中でスラリー状とし
て均一に分散し、コーティングロール等で一定量に塗布
し、コイルに巻取られる。
成分スラブを出発材として、このスラブを１２８０℃以
下の低温で加熱し、熱延し、焼鈍し、冷延して最終板厚
とした後、脱炭焼鈍し、表面にＳｉＯ2 をファイヤライ
ト主成分の酸化膜を形成した後、窒化処理を行って調整
される。この鋼板上に焼鈍分離剤として、ＭｇＯ１００
重量部にハロゲン元素化合物の１種又は２種以上をＦ，
Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉとして０．０１０〜０．１２０重量部と
必要に応じてアルカリ金属或いはアルカリ土類金属化合
物や他の酸化物等を含む物質を純水中でスラリー状とし
て均一に分散し、コーティングロール等で一定量に塗布
し、コイルに巻取られる。
【００１７】次いで、最終仕上げ焼鈍として、昇温時の
８５０〜１１００℃における温度域を平均昇温率で１２
℃／Hrとなるように徐加熱或いは一定温度で均熱保持し
た後、１１５０〜１２００℃×２０Hrの高温、長時間の
熱処理を行って、グラス被膜形成、二次再結晶及び純化
が行われる。このようにして処理されたグラス被膜形成
後のコイルは、連続ラインにおいて余剰の焼鈍分離剤を
水洗により除去し、軽酸洗の後、絶縁被膜剤を塗布し、
その焼き付けと形状矯正、歪取り焼鈍を兼ねてヒートフ
ラットニングが行われ、最終製品とされる。
８５０〜１１００℃における温度域を平均昇温率で１２
℃／Hrとなるように徐加熱或いは一定温度で均熱保持し
た後、１１５０〜１２００℃×２０Hrの高温、長時間の
熱処理を行って、グラス被膜形成、二次再結晶及び純化
が行われる。このようにして処理されたグラス被膜形成
後のコイルは、連続ラインにおいて余剰の焼鈍分離剤を
水洗により除去し、軽酸洗の後、絶縁被膜剤を塗布し、
その焼き付けと形状矯正、歪取り焼鈍を兼ねてヒートフ
ラットニングが行われ、最終製品とされる。
【００１８】方向性電磁鋼板においては、この際のグラ
ス被膜の形成時期、形成量、形成状態等がインヒビター
ＡｌＮ，ＭｎＳ等の分解速度に影響を与えたり、グラス
被膜の質、張力或いは純化反応等に影響をを及ぼす結
果、製品のグラス被膜特性と磁気特性を左右するもので
ある。この際、方向性電磁鋼板、とりわけ高磁束密度材
においては、被膜張力による鉄損、磁歪等の改善効果が
大きいことから、仕上げ焼鈍で形成したグラス被膜の張
力効果を更に補強するために、絶縁被膜成分として張力
付与型のものが適用される。
ス被膜の形成時期、形成量、形成状態等がインヒビター
ＡｌＮ，ＭｎＳ等の分解速度に影響を与えたり、グラス
被膜の質、張力或いは純化反応等に影響をを及ぼす結
果、製品のグラス被膜特性と磁気特性を左右するもので
ある。この際、方向性電磁鋼板、とりわけ高磁束密度材
においては、被膜張力による鉄損、磁歪等の改善効果が
大きいことから、仕上げ焼鈍で形成したグラス被膜の張
力効果を更に補強するために、絶縁被膜成分として張力
付与型のものが適用される。
【００１９】この張力付与と絶縁用被膜剤としては、固
形分でコロイダルシリカ１００重量部に対し、Ａｌ，Ｍ
ｇ，Ｃａ等の燐酸塩の１種又は２種以上を１３０〜２０
０重量部とクロム酸、クロム酸塩、重クロム酸塩の１種
又は２種以上をＣｒＯ3 として１２〜４０重量部配合し
たものを用いるのが経済的に高張力被膜を得るのに好適
である。この後、更に鉄損を改善しようとする場合に
は、仕上げ焼鈍の前又は後においてレーザー、歯形ロー
ル、エッチング、局部メッキ等により圧延方向とほぼ直
角方向に線状、点状に間隔と深さをコントロールして、
歪、疵、メッキ層等を処理して磁区細分化処理が行われ
る。
形分でコロイダルシリカ１００重量部に対し、Ａｌ，Ｍ
ｇ，Ｃａ等の燐酸塩の１種又は２種以上を１３０〜２０
０重量部とクロム酸、クロム酸塩、重クロム酸塩の１種
又は２種以上をＣｒＯ3 として１２〜４０重量部配合し
たものを用いるのが経済的に高張力被膜を得るのに好適
である。この後、更に鉄損を改善しようとする場合に
は、仕上げ焼鈍の前又は後においてレーザー、歯形ロー
ル、エッチング、局部メッキ等により圧延方向とほぼ直
角方向に線状、点状に間隔と深さをコントロールして、
歪、疵、メッキ層等を処理して磁区細分化処理が行われ
る。
【００２０】次に本発明の限定理由は以下の通りであ
る。Ｃはその含有量が０．０１０％未満では、二次再結
晶が不安定になる。又、二次再結晶した場合でも製品の
磁気特性の変動が大きくなるため制限される。一方、Ｃ
の含有量が０．０７５％超と多くなり過ぎると、脱炭焼
鈍における酸化膜の形成に不利になったり、焼鈍時間が
長くなって生産性を阻害する。Ｓｉはその含有量が２．
０％未満になると低鉄損の製品が得られ難く、一方、
４．５％超では、冷間圧延時に割れ破断が多発し、安定
した冷延作業を困難にする。
る。Ｃはその含有量が０．０１０％未満では、二次再結
晶が不安定になる。又、二次再結晶した場合でも製品の
磁気特性の変動が大きくなるため制限される。一方、Ｃ
の含有量が０．０７５％超と多くなり過ぎると、脱炭焼
鈍における酸化膜の形成に不利になったり、焼鈍時間が
長くなって生産性を阻害する。Ｓｉはその含有量が２．
０％未満になると低鉄損の製品が得られ難く、一方、
４．５％超では、冷間圧延時に割れ破断が多発し、安定
した冷延作業を困難にする。
【００２１】本発明の出発材の成分系における特徴の一
つは、Ｓを０．０１５％以下、好ましくは０．０１０％
にする点にある。従来の公知技術、例えば特公昭４０−
１５６４４号公報或いは特公昭４７−２５２５０号公報
又は米国特許１９６５５５９号公報に開示されている技
術においては、Ｓは二次再結晶を発現させるに必要な析
出物であるＭｎＳの形成元素として必須であった。しか
しながら、インヒビターとして（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを用い
る本発明においては、ＭｎＳは特に必要としない。むし
ろ、ＭｎＳが増加することは磁気特性上好ましくない。
従って本発明では、Ｓの含有量が０．０１５％以下とす
る。
つは、Ｓを０．０１５％以下、好ましくは０．０１０％
にする点にある。従来の公知技術、例えば特公昭４０−
１５６４４号公報或いは特公昭４７−２５２５０号公報
又は米国特許１９６５５５９号公報に開示されている技
術においては、Ｓは二次再結晶を発現させるに必要な析
出物であるＭｎＳの形成元素として必須であった。しか
しながら、インヒビターとして（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを用い
る本発明においては、ＭｎＳは特に必要としない。むし
ろ、ＭｎＳが増加することは磁気特性上好ましくない。
従って本発明では、Ｓの含有量が０．０１５％以下とす
る。
【００２２】ＡｌはＮと結合してＡｌＮを形成するが、
本発明においては後工程、即ち、脱炭焼鈍での一次再結
晶後に鋼板を窒化処理して（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを形成せし
めることを必須としているため、Ａｌが一定量必要であ
る。そのため、酸可溶Ａｌとして０．０１０〜０．０３
５％含有させる。この範囲より低すぎても高すぎても本
発明を満足することはできない。Ｎは０．０１２％超で
はブリスターと呼ぶ鋼板に膨れを生じやすくなる。一
方、少なすぎると脱炭焼鈍時の一次再結晶粒径の調整が
困難になり、その結果、優れた磁気特性が得られなくな
るため、下限は０．００２％程度である。
本発明においては後工程、即ち、脱炭焼鈍での一次再結
晶後に鋼板を窒化処理して（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを形成せし
めることを必須としているため、Ａｌが一定量必要であ
る。そのため、酸可溶Ａｌとして０．０１０〜０．０３
５％含有させる。この範囲より低すぎても高すぎても本
発明を満足することはできない。Ｎは０．０１２％超で
はブリスターと呼ぶ鋼板に膨れを生じやすくなる。一
方、少なすぎると脱炭焼鈍時の一次再結晶粒径の調整が
困難になり、その結果、優れた磁気特性が得られなくな
るため、下限は０．００２％程度である。
【００２３】Ｍｎはその含有量が０．０５０％未満と少
なすぎても、又、０．４５％超と多すぎても本発明を満
足することはできない。好ましい範囲は０．０７０〜
０．２５％である。本発明では、以上の元素の他、二次
再結晶粒の粒径制御や脱炭焼鈍の酸化量の制御等の目的
でＳｎ，Ｓｂ，Ｃｒ等を添加して利用してもよい。
なすぎても、又、０．４５％超と多すぎても本発明を満
足することはできない。好ましい範囲は０．０７０〜
０．２５％である。本発明では、以上の元素の他、二次
再結晶粒の粒径制御や脱炭焼鈍の酸化量の制御等の目的
でＳｎ，Ｓｂ，Ｃｒ等を添加して利用してもよい。
【００２４】次に、本発明のグラス被膜向上の第一の特
徴である焼鈍分離剤としては、ＭｇＯ１００重量部に対
し、ハロゲン元素化合物の１種又は２種以上をＦ，Ｃ
ｌ，Ｂｒ，Ｉに換算して０．０１５〜０．１２０重量部
を含むことである。これらのハロゲン化合物は後述の仕
上げ焼鈍サイクルとマッチして、仕上げ焼鈍昇温時のグ
ラス被膜形成と二次再結晶に重要な役割を有する。ハロ
ゲン化合物はＭｇＯとＳｉＯ2 の反応における融点をド
ラスティックに低下させ、より低温での反応開始と進行
速度を増大する。これらの添加されたハロゲン元素化合
物は、スラリー中ではほとんどの物質が容易に溶解分散
できる。これらが、スラリー調整から塗布乾燥工程で
は、もとのハロゲン化合物、他の添加剤との反応生成
物、ＭｇＯ表面の水和層の置換物質等となってＭｇＯや
他の添加剤の表面或いは鋼板酸化膜上を均一に覆い、被
膜形成促進効果をもたらす。
徴である焼鈍分離剤としては、ＭｇＯ１００重量部に対
し、ハロゲン元素化合物の１種又は２種以上をＦ，Ｃ
ｌ，Ｂｒ，Ｉに換算して０．０１５〜０．１２０重量部
を含むことである。これらのハロゲン化合物は後述の仕
上げ焼鈍サイクルとマッチして、仕上げ焼鈍昇温時のグ
ラス被膜形成と二次再結晶に重要な役割を有する。ハロ
ゲン化合物はＭｇＯとＳｉＯ2 の反応における融点をド
ラスティックに低下させ、より低温での反応開始と進行
速度を増大する。これらの添加されたハロゲン元素化合
物は、スラリー中ではほとんどの物質が容易に溶解分散
できる。これらが、スラリー調整から塗布乾燥工程で
は、もとのハロゲン化合物、他の添加剤との反応生成
物、ＭｇＯ表面の水和層の置換物質等となってＭｇＯや
他の添加剤の表面或いは鋼板酸化膜上を均一に覆い、被
膜形成促進効果をもたらす。
【００２５】ハロゲン元素化合物の添加量がＭｇＯ１０
０重量部に対し、ハロゲン元素のトータル量で０．０１
５重量部未満ではこの促進効果が見られず、被膜特性の
向上が得られない。一方、０．１２重量部超では低融点
化による早期グラス被膜形成現象が見られるが過剰の
Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等により、グラス被膜の厚みが不均
一になったり、極端な場合にはエッチング・分解反応が
生じてグラスレス化状態を呈する場合があるため制限さ
れる。好ましい添加量の範囲は０．０２７〜０．０５０
重量部で、この範囲では他の条件の変動が生じても、極
めて安定して良好なグラス被膜と磁気特性を得ることが
できる。
０重量部に対し、ハロゲン元素のトータル量で０．０１
５重量部未満ではこの促進効果が見られず、被膜特性の
向上が得られない。一方、０．１２重量部超では低融点
化による早期グラス被膜形成現象が見られるが過剰の
Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等により、グラス被膜の厚みが不均
一になったり、極端な場合にはエッチング・分解反応が
生じてグラスレス化状態を呈する場合があるため制限さ
れる。好ましい添加量の範囲は０．０２７〜０．０５０
重量部で、この範囲では他の条件の変動が生じても、極
めて安定して良好なグラス被膜と磁気特性を得ることが
できる。
【００２６】又、ハロゲン元素化合物共にアルカリ金属
或いはアルカリ土類金属元素化合物を添加する場合は、
その１種又は２種以上がＭｇＯ１００重量部に対し、
０．０１〜０．５０重量部が好ましい。前記ハロゲン元
素化合物はスラリー調整−塗布・乾燥−仕上げ焼鈍の過
程でグラス被膜形成時期まで安定に保たなければならな
い。アルカリ金属やアルカリ土類元素化合物は、その溶
解度に応じて塗布・乾燥段階で選択的にハロゲン元素と
結合し、ＭｇＯ粒子、他の添加剤粒子或いは鋼板酸化膜
の表面を均一に覆いグラス被膜形成時まで安定に保たれ
る。この結果、極めて効果的にハロゲン元素化合物によ
るグラス被膜形成反応の向上が得られる。
或いはアルカリ土類金属元素化合物を添加する場合は、
その１種又は２種以上がＭｇＯ１００重量部に対し、
０．０１〜０．５０重量部が好ましい。前記ハロゲン元
素化合物はスラリー調整−塗布・乾燥−仕上げ焼鈍の過
程でグラス被膜形成時期まで安定に保たなければならな
い。アルカリ金属やアルカリ土類元素化合物は、その溶
解度に応じて塗布・乾燥段階で選択的にハロゲン元素と
結合し、ＭｇＯ粒子、他の添加剤粒子或いは鋼板酸化膜
の表面を均一に覆いグラス被膜形成時まで安定に保たれ
る。この結果、極めて効果的にハロゲン元素化合物によ
るグラス被膜形成反応の向上が得られる。
【００２７】アルカリ金属或いはアルカリ土類金属化合
物の添加量が０．０１重量部未満では、十分なハロゲン
化合物の安定化が得られない。一方、０．５０重量部超
では、余剰のアルカリ或いはアルカリ土類金属による高
温域のグラス被膜のエッチング作用が生じてグラス被膜
を劣化させる場合がある。
物の添加量が０．０１重量部未満では、十分なハロゲン
化合物の安定化が得られない。一方、０．５０重量部超
では、余剰のアルカリ或いはアルカリ土類金属による高
温域のグラス被膜のエッチング作用が生じてグラス被膜
を劣化させる場合がある。
【００２８】次に被膜形成過程での第２の重要な要素で
ある仕上げ焼鈍のヒートサイクルは昇温過程８５０〜１
１００℃の平均加熱速度を１２℃／Hr以下とすることで
ある。本発明の成分素材では二次再結晶温度が従来のイ
ンヒビターにＭｎＳを使用する方向性電磁鋼板や、Ａｌ
ＮとＭｎＳを使用する高磁束密度方向性電磁鋼板に比較
してかなり高く、他の工程条件にもよるが、おおよそ１
１００℃以上の高温で生じる。このため、本発明の仕上
げ焼鈍の特徴は二次再結晶前の８５０〜１１００℃の領
域でグラス被膜の形成を十分に発達させるところにあ
る。
ある仕上げ焼鈍のヒートサイクルは昇温過程８５０〜１
１００℃の平均加熱速度を１２℃／Hr以下とすることで
ある。本発明の成分素材では二次再結晶温度が従来のイ
ンヒビターにＭｎＳを使用する方向性電磁鋼板や、Ａｌ
ＮとＭｎＳを使用する高磁束密度方向性電磁鋼板に比較
してかなり高く、他の工程条件にもよるが、おおよそ１
１００℃以上の高温で生じる。このため、本発明の仕上
げ焼鈍の特徴は二次再結晶前の８５０〜１１００℃の領
域でグラス被膜の形成を十分に発達させるところにあ
る。
【００２９】この場合の下限を８５０℃としたのは、８
５０℃未満ではグラス被膜の形成が殆ど進行しないこと
と低温域を低速加熱し、長時間滞留させるとグラス被膜
の形成開始以前に表面の酸化膜の還元が進み、むしろグ
ラス被膜形成に悪影響をもたらすためである。８５０〜
１１００℃における昇温の仕方としては、平均的に１２
℃／Hr以下の徐加熱を行うか、ある一定温度で恒温保持
して行ってもよい。
５０℃未満ではグラス被膜の形成が殆ど進行しないこと
と低温域を低速加熱し、長時間滞留させるとグラス被膜
の形成開始以前に表面の酸化膜の還元が進み、むしろグ
ラス被膜形成に悪影響をもたらすためである。８５０〜
１１００℃における昇温の仕方としては、平均的に１２
℃／Hr以下の徐加熱を行うか、ある一定温度で恒温保持
して行ってもよい。
【００３０】平均加熱速度が１２℃／Hr超ではグラス被
膜の成長のための時間が十分でないため、効果が安定し
て得られ難い。現場製造を考慮すると好ましい条件は８
５０〜１１００℃の領域で５〜２０時間の恒温保持する
方法が大型コイルで均一なグラス被膜を持つ製品を得る
ために好ましい条件である。この場合、グラス被膜が均
一、緻密に形成され、その後にコイル板間から放出され
たり、雰囲気ガスの水分、酸素による追加酸化を極めて
効果的に抑制する。
膜の成長のための時間が十分でないため、効果が安定し
て得られ難い。現場製造を考慮すると好ましい条件は８
５０〜１１００℃の領域で５〜２０時間の恒温保持する
方法が大型コイルで均一なグラス被膜を持つ製品を得る
ために好ましい条件である。この場合、グラス被膜が均
一、緻密に形成され、その後にコイル板間から放出され
たり、雰囲気ガスの水分、酸素による追加酸化を極めて
効果的に抑制する。
【００３１】又、このタイトな被膜層は高温域での雰囲
気ガスからの窒素の侵入や逆に脱インヒビターをも抑制
し、二次再結晶域までインヒビターを安定に保つ結果、
二次再結晶方位をも改善する効果が得られる。この昇温
過程の８５０℃未満と１１００℃超における昇温速度は
特に限定するものではないが、１５〜３０℃／Hrのよう
な条件が生産性とコイルの均熱度を考慮した場合に好ま
しい。
気ガスからの窒素の侵入や逆に脱インヒビターをも抑制
し、二次再結晶域までインヒビターを安定に保つ結果、
二次再結晶方位をも改善する効果が得られる。この昇温
過程の８５０℃未満と１１００℃超における昇温速度は
特に限定するものではないが、１５〜３０℃／Hrのよう
な条件が生産性とコイルの均熱度を考慮した場合に好ま
しい。
【００３２】
〔実施例１〕重量％でＣ；０．０５５％、Ｓｉ；３．３
０％、Ｍｎ；０．１３０％、Ｓｉ；０．００８０％、Ａ
ｌ；０．０２８％、Ｎ；０．０７２％、Ｓｎ；０．０４
％の鋼塊を１１５０℃に加熱し、熱延し、２．３mmの熱
延板とした。この鋼板を１１２０℃で焼鈍し、酸洗、冷
延して最終板厚０．２３mmとした。その後、連続焼鈍ラ
インでＮ2 ２５％＋Ｈ2 ７５％、露点６７℃のウェット
雰囲気中で８４０℃×１１０秒の脱炭焼鈍とＮ2 ２５％
＋Ｈ2 ７５％＋ＮＨ3 のドライ雰囲気中で７５０℃×３
０秒間の鋼中〔Ｎ〕量が２００ppm になるように窒化処
理を行った。次いで、表１に示すように、ＭｇＯ１００
重量部とＴｉＯ2 ５重量部に対し、ハロゲン元素の化合
物を添加した焼鈍分離剤スラリーを乾燥後の重量で６ｇ
／ｍ2 の割合で塗布し、乾燥し、コイルに巻取った。
０％、Ｍｎ；０．１３０％、Ｓｉ；０．００８０％、Ａ
ｌ；０．０２８％、Ｎ；０．０７２％、Ｓｎ；０．０４
％の鋼塊を１１５０℃に加熱し、熱延し、２．３mmの熱
延板とした。この鋼板を１１２０℃で焼鈍し、酸洗、冷
延して最終板厚０．２３mmとした。その後、連続焼鈍ラ
インでＮ2 ２５％＋Ｈ2 ７５％、露点６７℃のウェット
雰囲気中で８４０℃×１１０秒の脱炭焼鈍とＮ2 ２５％
＋Ｈ2 ７５％＋ＮＨ3 のドライ雰囲気中で７５０℃×３
０秒間の鋼中〔Ｎ〕量が２００ppm になるように窒化処
理を行った。次いで、表１に示すように、ＭｇＯ１００
重量部とＴｉＯ2 ５重量部に対し、ハロゲン元素の化合
物を添加した焼鈍分離剤スラリーを乾燥後の重量で６ｇ
／ｍ2 の割合で塗布し、乾燥し、コイルに巻取った。
【００３３】次いで、１２００℃×２０Hrの最終仕上げ
焼鈍を行ったが、この際、図１に示すように、昇温時の
加熱速度を変更して焼鈍を行った。その後、絶縁被膜剤
として３０％コロイダルシリカ７０ml、５０％りん酸ア
ルミニウム５０mlからなるコーティング剤を乾燥、焼き
付け後の重量で５ｇ／ｍ2 になるように塗布し、連続炉
中で８５０℃×３０秒間のヒートフラットニング処理を
行い最終製品とした。この試験におけるグラス被膜形成
状況、絶縁被膜特性、磁気特性の結果を表２に示す。
焼鈍を行ったが、この際、図１に示すように、昇温時の
加熱速度を変更して焼鈍を行った。その後、絶縁被膜剤
として３０％コロイダルシリカ７０ml、５０％りん酸ア
ルミニウム５０mlからなるコーティング剤を乾燥、焼き
付け後の重量で５ｇ／ｍ2 になるように塗布し、連続炉
中で８５０℃×３０秒間のヒートフラットニング処理を
行い最終製品とした。この試験におけるグラス被膜形成
状況、絶縁被膜特性、磁気特性の結果を表２に示す。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【表２】
【００３６】この試験の結果、本発明のように焼鈍分離
剤としてハロゲン元素化合物を添加し、仕上げ焼鈍とし
て図１（Ａ），（Ｂ）による、８５０℃以上の徐加熱を
行った場合には、いずれも均一で光沢のある厚いグラス
被膜が均一に形成され、被膜張力、密着性等の優れたグ
ラス被膜が形成され、磁気特性も非常に良好な結果が得
られた。特に、図１（Ｂ）のサイクルによるものは良好
であった。一方、比較材の焼鈍分離剤にハロゲン化合物
を添加しない場合、特に図１（Ｃ）のサイクルによるも
のはグラス被膜、磁気特性共に本発明に比しかなり劣る
傾向が見られた。
剤としてハロゲン元素化合物を添加し、仕上げ焼鈍とし
て図１（Ａ），（Ｂ）による、８５０℃以上の徐加熱を
行った場合には、いずれも均一で光沢のある厚いグラス
被膜が均一に形成され、被膜張力、密着性等の優れたグ
ラス被膜が形成され、磁気特性も非常に良好な結果が得
られた。特に、図１（Ｂ）のサイクルによるものは良好
であった。一方、比較材の焼鈍分離剤にハロゲン化合物
を添加しない場合、特に図１（Ｃ）のサイクルによるも
のはグラス被膜、磁気特性共に本発明に比しかなり劣る
傾向が見られた。
【００３７】〔実施例２〕 重量％でＣ；０．０５８％、Ｓｉ；３．２５％、Ｍｎ；
０．１４％、Ａｌ；０．０３０％、Ｓ；０．００７５
％、Ｎ；０．００７５％、Ｓｎ；０．０５％からなる方
向性電磁鋼板スラブを実施例１と同様にして処理し、最
終板厚０．２３mmとした後、脱炭焼鈍と窒化焼鈍を行
い、鋼中〔Ｎ〕量を１８０ppm として出発材とした。こ
の鋼板に、焼鈍分離剤としてＭｇＯ１００重量部に対
し、ＴｉＯ2 ５重量部、Ｎａ2 Ｂ4 Ｏ7 ０．３重量部、
および表３に示すようにハロゲン元素化合物を添加した
スラリーを塗布、乾燥し、コイルに巻取った。
０．１４％、Ａｌ；０．０３０％、Ｓ；０．００７５
％、Ｎ；０．００７５％、Ｓｎ；０．０５％からなる方
向性電磁鋼板スラブを実施例１と同様にして処理し、最
終板厚０．２３mmとした後、脱炭焼鈍と窒化焼鈍を行
い、鋼中〔Ｎ〕量を１８０ppm として出発材とした。こ
の鋼板に、焼鈍分離剤としてＭｇＯ１００重量部に対
し、ＴｉＯ2 ５重量部、Ｎａ2 Ｂ4 Ｏ7 ０．３重量部、
および表３に示すようにハロゲン元素化合物を添加した
スラリーを塗布、乾燥し、コイルに巻取った。
【００３８】次いで、図２（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），
（Ｄ）に示すように仕上げ焼鈍の昇温時の保持温度を変
更して焼鈍後、絶縁被膜処理とヒートフラットニング処
理を行って最終製品とした。この試験におけるグラス被
膜と磁気特性の結果を表４に示す。
（Ｄ）に示すように仕上げ焼鈍の昇温時の保持温度を変
更して焼鈍後、絶縁被膜処理とヒートフラットニング処
理を行って最終製品とした。この試験におけるグラス被
膜と磁気特性の結果を表４に示す。
【００３９】
【表３】
【００４０】
【表４】
【００４１】この試験の結果、本発明のように焼鈍分離
剤中にハロゲン元素化合物を添加し、仕上げ焼鈍のヒー
トサイクルが９５０〜１１００℃で一定時間保持したサ
イクル（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）の場合にはいずれもグラ
ス被膜コイル全面に均一で、被膜張力と密着性が優れ、
磁気特性も良好であった。一方、焼鈍分離剤を同じ本発
明のものを用いても仕上げ焼鈍の均熱保持温度が低い比
較例の場合には、本発明に比較してグラス被膜の形成が
不十分で、被膜特性、磁気特性共に劣る結果となった。
又、仕上げ焼鈍の昇温条件が本発明のサイクルでも、添
加剤にハロゲン元素化合物を用いない場合にはいずれも
グラス被膜は厚み、均一度等において本発明より劣り、
磁気特性も不良であった。
剤中にハロゲン元素化合物を添加し、仕上げ焼鈍のヒー
トサイクルが９５０〜１１００℃で一定時間保持したサ
イクル（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）の場合にはいずれもグラ
ス被膜コイル全面に均一で、被膜張力と密着性が優れ、
磁気特性も良好であった。一方、焼鈍分離剤を同じ本発
明のものを用いても仕上げ焼鈍の均熱保持温度が低い比
較例の場合には、本発明に比較してグラス被膜の形成が
不十分で、被膜特性、磁気特性共に劣る結果となった。
又、仕上げ焼鈍の昇温条件が本発明のサイクルでも、添
加剤にハロゲン元素化合物を用いない場合にはいずれも
グラス被膜は厚み、均一度等において本発明より劣り、
磁気特性も不良であった。
【００４２】〔実施例３〕実施例２と同一のスラブを同
様にして処理した窒化処理後の鋼板にＭｇＯ１００重量
部とＴｉＯ2 ５重量部、Ｎａ2 Ｂ4 Ｏ7 ０．３重量部に
対し、表５に示すようなハロゲン化合物の種類を変えて
添加した焼鈍分離剤を塗布し、乾燥後、最終仕上げ焼鈍
として、図１（Ａ）と図２（Ａ）の昇温時のサイクルに
よって熱処理を行った。次いで、実施例１，２と同様に
絶縁被膜剤の処理とヒートフラットニングを行い最終製
品とした。この試験における被膜特性と磁気特性の結果
を表６に示す。
様にして処理した窒化処理後の鋼板にＭｇＯ１００重量
部とＴｉＯ2 ５重量部、Ｎａ2 Ｂ4 Ｏ7 ０．３重量部に
対し、表５に示すようなハロゲン化合物の種類を変えて
添加した焼鈍分離剤を塗布し、乾燥後、最終仕上げ焼鈍
として、図１（Ａ）と図２（Ａ）の昇温時のサイクルに
よって熱処理を行った。次いで、実施例１，２と同様に
絶縁被膜剤の処理とヒートフラットニングを行い最終製
品とした。この試験における被膜特性と磁気特性の結果
を表６に示す。
【００４３】
【表５】
【００４４】
【表６】
【００４５】この試験の結果、焼鈍分離剤にハロゲン元
素化合物を配合し、仕上げ焼鈍を図１（Ａ）及び図２
（Ａ）のサイクルを行った場合はいずれもグラス被膜の
均一性、張力、密着性が良好で、特に一定時間の保持を
行った図２（Ａ）の場合には、極めて良好な結果が得ら
れた。一方、焼鈍分離剤にハロゲン元素化合物を配合し
ない比較例においては、いずれもエッジ部の被膜が不均
一で、部分的に地鉄が透けて見える部分があり、この場
合には、磁気特性も本発明に比してかなり劣る結果とな
った。
素化合物を配合し、仕上げ焼鈍を図１（Ａ）及び図２
（Ａ）のサイクルを行った場合はいずれもグラス被膜の
均一性、張力、密着性が良好で、特に一定時間の保持を
行った図２（Ａ）の場合には、極めて良好な結果が得ら
れた。一方、焼鈍分離剤にハロゲン元素化合物を配合し
ない比較例においては、いずれもエッジ部の被膜が不均
一で、部分的に地鉄が透けて見える部分があり、この場
合には、磁気特性も本発明に比してかなり劣る結果とな
った。
【００４６】
【発明の効果】本発明では、ＡｌＮ，（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ
をインヒビターとして利用する低温スラブ加熱材のグラ
ス被膜形成処理において、焼鈍分離剤中へのハロゲン化
合物の添加と仕上げ焼鈍昇温過程８５０〜１１００℃の
比較的高温域で徐加熱或いは恒温保持した後、昇熱し、
１２００℃の純化焼鈍することにより、グラス被膜形成
反応と二次再結晶を分離して生ぜしめ、グラス被膜と磁
気特性の極めて優れた方向性電磁鋼板を得る。本発明で
は、前述のハロゲン元素化合物のグラス被膜形成の反応
融点低下及び促進効果と仕上げ焼鈍のヒートサイクルに
よる反応促進効果が極めて機能的にマッチして二次再結
晶前に均一、高張力の優れたグラス被膜の発達が行われ
る。
をインヒビターとして利用する低温スラブ加熱材のグラ
ス被膜形成処理において、焼鈍分離剤中へのハロゲン化
合物の添加と仕上げ焼鈍昇温過程８５０〜１１００℃の
比較的高温域で徐加熱或いは恒温保持した後、昇熱し、
１２００℃の純化焼鈍することにより、グラス被膜形成
反応と二次再結晶を分離して生ぜしめ、グラス被膜と磁
気特性の極めて優れた方向性電磁鋼板を得る。本発明で
は、前述のハロゲン元素化合物のグラス被膜形成の反応
融点低下及び促進効果と仕上げ焼鈍のヒートサイクルに
よる反応促進効果が極めて機能的にマッチして二次再結
晶前に均一、高張力の優れたグラス被膜の発達が行われ
る。
【図１】（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は実施例１及び３にお
ける仕上げ焼鈍のヒートサイクルを示す図表である。
ける仕上げ焼鈍のヒートサイクルを示す図表である。
【図２】（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）は実施例２に
おける仕上げ焼鈍のヒートサイクルを示す図表である。
おける仕上げ焼鈍のヒートサイクルを示す図表である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｆ 1/16 Ｈ０１Ｆ 1/16 Ｂ (72)発明者 八ケ代 健一 北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新日本 製鐵株式会社 八幡製鐵所内 (72)発明者 黒木 克郎 北九州市戸畑区大字中原46−59 日鐵プ ラント設計株式会社内 (72)発明者 田中 収 北九州市戸畑区大字中原46−59 日鐵プ ラント設計株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−96770（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−70521（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C21D 8/12 C21D 9/46 501 C23C 22/00
Claims (3)
- 【請求項１】 重量％で Ｃ ；０．０１０〜０．０７５％、 Ｓｉ；２．０〜４．５％、 Ｓ ；０．０１５％以下、 酸可溶Ａｌ；０．０１０〜０．０３５％、 Ｎ ；０．０１２％以下、 Ｍｎ；０．０５〜０．４５％、 残部をＦｅ及び不可避の不純物からなる電磁鋼スラブを
１２８０℃以下の低温でスラブ加熱を行った後、熱延
し、１回又は中間焼鈍を挟む２回以上の冷延により最終
板厚とし、脱炭焼鈍と窒化焼鈍をし、焼鈍分離剤を塗布
後、仕上げ焼鈍し、絶縁被膜処理することからなる方向
性電磁鋼板の製造方法において、焼鈍分離剤としてＭｇ
Ｏ１００重量部に対し、ハロゲン化合物の１種又は２種
以上をＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉとして０．０１５〜０．１２
０重量部含む焼鈍分離剤を塗布し、最終仕上げ焼鈍の８
５０〜１１００℃の平均昇温率を１２℃／Hr以下として
昇熱後、高温仕上げ焼鈍することを特徴とするグラス被
膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼板の製造方
法。 - 【請求項２】 焼鈍分離剤ＭｇＯに添加するハロゲン物
質がＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉとして０．０１５〜０．１２０
重量部に対し、アルカリ金属化合物及びアルカリ土類金
属化合物の１種又は２種以上を０．０１０〜０．５０重
量部添加することを特徴とする請求項１記載のグラス被
膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼板の製造方
法。 - 【請求項３】 仕上げ焼鈍の８５０〜１１００℃におけ
る温度領域で５〜２０Hrの範囲で一定温度に保持するこ
とを特徴とする請求項１又は２記載のグラス被膜と磁気
特性の極めて優れる方向性電磁鋼板の製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6309162A JP2781524B2 (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | グラス被膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼板の製造方法 |
| CN951972014A CN1065004C (zh) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | 具有优良玻璃膜及磁性能的晶粒取向电工钢板的生产工艺 |
| DE69515892T DE69515892T3 (de) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Verfahren zur herstellung eines elektrisch direktionalen bleches mit guter glasbeschichtbarkeit und hervorragenden magnetischen eigenschaften |
| PCT/JP1995/002346 WO1996015291A1 (fr) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Procede de production de tole magnetique directive pouvant facilement etre revetue de verre et presentant d'excellentes proprietes magnetiques |
| EP95938021A EP0789093B2 (en) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Process for producing directional electrical sheet excellent in glass coating and magnetic properties |
| US08/836,593 US5840131A (en) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Process for producing grain-oriented electrical steel sheet having excellent glass film and magnetic properties |
| KR1019970703263A KR100245032B1 (ko) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | 유리 피막과 자기 특성이 뛰어난 방향성 전자기 강판의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6309162A JP2781524B2 (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | グラス被膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08165521A JPH08165521A (ja) | 1996-06-25 |
| JP2781524B2 true JP2781524B2 (ja) | 1998-07-30 |
Family
ID=17989679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6309162A Expired - Lifetime JP2781524B2 (ja) | 1994-11-16 | 1994-12-13 | グラス被膜と磁気特性の極めて優れる方向性電磁鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2781524B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101909218B1 (ko) | 2016-12-21 | 2018-10-17 | 주식회사 포스코 | 방향성 전기강판용 소둔 분리제 조성물, 방향성 전기강판 및 방향성 전기강판의 제조방법 |
| KR101944901B1 (ko) | 2016-12-21 | 2019-02-01 | 주식회사 포스코 | 방향성 전기강판용 소둔 분리제 조성물, 방향성 전기강판 및 방향성 전기강판의 제조방법 |
-
1994
- 1994-12-13 JP JP6309162A patent/JP2781524B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08165521A (ja) | 1996-06-25 |
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