JP2780889B2

JP2780889B2 - Ｅｌ素子およびその製造方法

Info

Publication number: JP2780889B2
Application number: JP4094544A
Authority: JP
Inventors: 豊志飯田; 恒高橋; 毅外村; 雄幸藤井; 健一近藤; 隆浩齋田; 周一田谷; 禎康山川; 俊一大沢
Original assignee: Japan Metals and Chemical Co Ltd; Stanley Electric Co Ltd
Current assignee: Japan Metals and Chemical Co Ltd; Stanley Electric Co Ltd
Priority date: 1992-04-14
Filing date: 1992-04-14
Publication date: 1998-07-30
Anticipated expiration: 2013-07-30
Also published as: JPH05290977A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＥＬ（エレクトロルミ
ネッセンス）素子の製造方法に関し、特に液晶表示装置
（ＬＣＤ）のバックライト等に用いるのに適したＥＬ素
子およびそのの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の電子装置は、軽量、薄型、低電圧
低消費電力（電池駆動）の要求が強く、表示装置として
はＬＣＤ（液晶表示装置）の利用が増加している。とこ
ろで、ＬＣＤ自体は光を発生しないので、視認性を改良
するためＥＬ素子（ランプ）等のバックライトを採用す
るようになってきた。

【０００３】このような光源としては、薄く、軽量に、
低価格でという要求が強い。ＥＬ素子は、たとえば蛍光
灯や白熱電球に比べて薄くすることができ、消費電力の
低い面発光光源である。

【０００４】図５に従来の技術によるＥＬ素子の例を概
略的に示す。アルミニウム箔で形成された背面電極２１
の上に、樹脂絶縁層２２が形成されている。この樹脂絶
縁層２２は、高誘電率有機樹脂（以下バインダとよぶ）
を溶剤に溶き、チタン酸バリウム粉末を分散し、インク
状にして背面電極２１の上に印刷等の方法で塗布し、乾
燥することによって形成できる。

【０００５】この樹脂絶縁層２２の上に、ＥＬ発光層２
３および透明電極２４が形成されている。ＥＬ発光層２
３は、上述同様のバインダに蛍光体粉末を分散し、イン
ク状にして塗布した後、乾燥することによって形成でき
る。

【０００６】また、透明電極２４は、同様のバインダに
ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）粉末を分散し、インク状
にして塗布、乾燥することによって得られる。背面電極
２１および透明電極２４からリード線２５を導出し、本
体部分は防湿性の高いフィルムでパッケージし、ＥＬ素
子が形成される。

【０００７】チタン酸バリウムは、大きな誘電率を有す
る。したがって、電極間にチタン酸バリウムの層を形成
しても、チタン酸バリウムの層によって降下する電圧は
小さい。このため、ＥＬ発光層に十分な電圧を印加する
ことができ、高い輝度を得やすい。

【０００８】しかしながら、アルミニウム層表面にチタ
ン酸バリウム層を形成するためには塗布工程等を行う必
要があり、樹脂絶縁層の厚みの減少には限界がある。ま
た、塗布工程で起こる塗布ムラにより、いわゆる「はじ
き」を生じ、発光ムラが発生する。

【０００９】また、アルミニウム箔表面をアルマイト皮
膜で覆い、このアルマイト皮膜で上述のチタン酸バリウ
ム層を置き換える技術が提案されている。特開昭６４−
１０５９７号公報は、アルミニウム箔を陽極酸化し、片
面にアルマイト処理して電気的絶縁層を形成したアルミ
ニウム箔を背面電極とした電界発光（ＥＬ）灯を開示す
る。

【００１０】特開平１−２０９６９３号公報は、アルミ
ニウム箔表面にアルマイト層と白色コート層を形成した
分散型エレクトロルミネッセンスパネル用アルミニウム
積層体を開示する。

【００１１】特開平１−２２５０９７号公報は、アルミ
ニウム箔表面を陽極酸化し、多孔質酸化皮膜を形成した
分散型ＥＬ素子を開示する。これらの技術は、背面電極
であるアルミニウム箔をアルマイト加工して表面にアル
マイト皮膜を形成し、このアルマイト皮膜を電気的絶縁
層として用いるものである。

【００１２】アルミニウム箔表面のアルマイト皮膜は、
チタン酸バリウムの電気的絶縁層と比べて安価に製作で
き、同等の発光効率と輝度を有するＥＬ素子を得ること
ができる。また、アルマイト皮膜を備えたアルミニウム
箔は密着性に優れる。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、アルミサッシ
やアルミホイール等の表面処理にも古くから用いられる
アルマイト加工は、「アルミニウムハンドブック」軽金
属協会昭和３８年発行、第８２０−８２１頁等にも記
載されているように、硫酸等の酸性水溶液中で陽極酸化
して６μｍ〜数百μｍの多孔質皮膜（デュプレクス型陽
極酸化皮膜）を形成する方法である。デュプレクス型陽
極酸化皮膜は、表面側に多孔質層、内側にバリヤー層を
有するが、バリヤー層の厚みは薄い。

【００１４】このため、アルマイト層は、絶縁耐圧が低
く、電界強度の増加とともに漏れ電流が大きくなる。し
たがって、ＥＬ素子としての耐圧が低く、発光効率が上
げられないと実用上問題があった。

【００１５】また、本発明者らは、中性電解液中での陽
極酸化により形成した陽極酸化皮膜（以下単にバリヤー
型皮膜という）を電気的絶縁層として使用することによ
り、樹脂あるいはアルマイト皮膜により電気的絶縁層を
形成した従来のＥＬ素子よりも電気的特性の改良された
ＥＬ素子を製造し得ることを見出し、このＥＬ素子およ
びその製造方法については既に特許出願を行っている
（特願平２−４１６７８２号）。このＥＬ素子は、電気
的特性に優れるが、なお、その性能の向上、発光ムラの
改善が望まれている。

【００１６】本発明の目的は、電気的特性に優れ、かつ
発光ムラが少ないＥＬ素子を提供することである。ま
た、本発明の他の目的は、電気的特性に優れ、かつ発光
ムラが少ないＥＬ素子を得ることができる、ＥＬ素子の
製造方法を提供することである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明は次の事項を骨子
とするＥＬ素子を提案する。すなわち、アルミニウム箔
と、このアルミニウム箔の表面に形成されたデュプレク
ス型陽極酸化皮膜を含む電気的絶縁層と、この電気的絶
縁層の上に直接形成されたＥＬ発光層と、このＥＬ発光
層上に形成された透明電極とを有するＥＬ素子であっ
て、前記デュプレクス型陽極酸化皮膜は、酸性陽極酸化
後主としてバリヤー層を表面側に成長させることにより
ポア深さを浅く、バリヤー層を厚くした皮膜であり、こ
の皮膜のバリヤー層の厚みが０．１〜０．５μｍ、ポア
径が０．０５μｍ以上、ポア深さが０．１〜０．５μｍ
であるＥＬ素子を提供する。

【００１８】また、このようなＥＬ素子を提供するため
の製造方法として、アルミニウム箔を酸性電解液中で陽
極酸化することにより、前記アルミニウム箔の表面にデ
ュプレクス型陽極酸化皮膜（以下、第１のデュプレクス
型陽極酸化皮膜という）を形成する工程と、前記第１の
デュプレクス型陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム
箔をさらに中性電解液中で陽極酸化することにより、主
として前記第１のデュプレクス型酸化皮膜を構成するバ
リヤー層を表面側に成長させて、ポア深さが浅く、バリ
ヤー層の厚いデュプレクス型陽極酸化皮膜（以下、第２
のデュプレクス型陽極酸化皮膜という）を形成する工程
と、前記第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜上に直接Ｅ
Ｌ発光層、透明電極層を形成する工程とを含むＥＬ素子
の製造方法を提供する。

【００１９】

【作用】本発明の方法において形成される第２のデュプ
レクス型陽極酸化皮膜は、酸性陽極酸化により形成した
第１のデュプレクス型陽極酸化皮膜のバリヤー層を主と
して表面側に成長させたものである。したがって、この
第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜を構成するバリヤー
層の厚みは厚く、かつ、このバリヤー層は緻密な層であ
る。このため、第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜は、
電気的絶縁特性の優れた電気的絶縁層となり得る。

【００２０】また、第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜
を構成する多孔質層のポア深さは、第１のデュプレクス
型陽極酸化皮膜のポア深さよりは浅いが、第２のデュプ
レクス型陽極酸化皮膜には依然としてポアが残ってい
る。したがって、バリヤー型皮膜のみ（ポアなし）で形
成された陽極酸化皮膜と比べて、第２のデュプレクス型
陽極酸化皮膜の表層は起伏に富む。このため、ＥＬ発光
層形成時のバインダの濡れ性等が改善されて、はじきを
防止することができる。ＥＬ発光層形成時のはじきを防
止することにより、ＥＬ素子の発光ムラを減少させるこ
とができる。

【００２１】このように、本発明の方法では電気的絶縁
特性に優れた電気的絶縁層を形成することができるとと
もに、得られるＥＬ素子の発光ムラを減少させることが
できることから、輝度や発光効率等の電気的特性の少な
くとも１つが改良されたＥＬ素子で、かつ発光ムラの少
ないＥＬ素子を製造することができる。

【００２２】要するに、本発明のＥＬ素子の製造方法で
は、デュプレクス型陽極酸化皮膜（酸性陽極酸化処理）
とバリヤー型陽極酸化皮膜（中性陽極酸化処理）との双
方の利点を併せ持つＥＬ素子を製造することができる。

【００２３】特に、第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜
を構成する多孔質層のポア径を０．０５μｍ以上、ポア
深さを０．１〜０．５μｍにすることにより、ＥＬ発光
層の形成時にバインダーをポア内に十分に入り込ませる
ことができる。バインダーがポア内に十分に入り込むと
ポア内の空間が減少して、ＥＬ発光層と第２のデュプレ
クス型陽極酸化皮膜との密着性が改善される。この密着
性の改善により、発光ムラが改善されるとともに、輝度
が向上する。

【００２４】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。ま
ず、粘着剤を塗布した有機フィルムにより片面をマスキ
ングした純度９９．９９％のアルミニウム箔を陽極と
し、カーボン板を陰極とし、純水１リットル中に炭酸ナ
トリウム１５０ｇと燐酸ナトリウム５０ｇとを溶かした
液を電解液として用いて、電流密度１２Ａ／ｄｍ² 、電
解液温度９０℃の条件で２分間電解研磨を行って、片面
が電解研磨されたアルミニウム箔を得た。

【００２５】次いで、電解研磨したアルミニウム箔を陽
極とし、純度９９．９９％のアルミニウム板を陰極と
し、４％燐酸水溶液を酸性電解液として用いて、電流密
度０．８Ａ／ｄｍ² 、電解液温度約２５℃の条件で５分
間定電流電解して、酸性陽極酸化を行った。

【００２６】この酸性陽極酸化により、図１に示すよう
に、アルミニウム箔１の電解研磨された面上には、孔径
０．１μｍ程度のポア２を有する多孔質層３（厚み約
０．５５μｍ程度）とバリヤー層４（厚み約０．０５μ
ｍ程度）とを含む第１のデュプレクス型陽極酸化皮膜５
（厚み約０．６μｍ程度）が形成された。

【００２７】次に、第１のデュプレクス型陽極酸化皮膜
を形成した後のアルミニウム箔を陽極とし、純度９９．
９９％のアルミニウム板を陰極とし、０．０５ｍｏｌ／
リットルのアジピン酸アンモニウム溶液を中性電解液と
して用いて、電流密度０．８Ａ／ｄｍ² 、電解液温度約
６０℃の条件で電圧が２５０Ｖに到達するまで定電流電
解し、その後、電流値が１／１０になるまで定電圧電解
して、中性陽極酸化を行った。

【００２８】この中性陽極酸化により、図２に示すよう
に、孔径０．１μｍ程度でポア深さ約０．３μｍ程度と
前記ポア２に比べてポア深さの浅いポア２ａを有する多
孔質層３ａと、前記バリヤー層４が主として表面側に成
長し、厚みの増したバリヤー層６とを含む第２のデュプ
レクス型陽極酸化皮膜７が形成された。なお、バリヤー
層６は前記バリヤー層４と比べて約０．３μｍ程度まで
厚くなっており、第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜７
全体の厚みは約０．７μｍ程度となっていることから、
アルミニウム素地と酸化皮膜との界面にもバリヤー層が
成長したものと考えられる。なお、図２において図１と
共通する部分については、図１と同じ符号を付してその
説明を省略する。

【００２９】バリヤー層の成長は、以下のような反応に
よるものと考えられる。酸性水溶液中で陽極酸化した
後、さらに中性陽極酸化することにより、図３に示すよ
うに、陽極酸化皮膜５の下地であるアルミニウム箔１側
からＡｌ³⁺イオンのイオン伝導が起こり、電解液側から
はＯ^2-イオンのイオン伝導が起こると考えられる。そし
て、Ａｌ³⁺イオンとＯ^2-イオンとがぶつかったところで
Ａｌ₂ Ｏ₃を形成する。この時、新たな陽極酸化皮膜を
形成すると共に、第１のデュプレクス型陽極酸化皮膜５
の膜質が緻密なものに改善される。なお、図３において
図１と共通する部分については、図１と同じ符号を付し
てある。

【００３０】なお、電解液からはＯ^2-イオンの他の陰イ
オンも膜中に侵入し得るので、厳密には、酸性陽極酸化
で形成した酸化皮膜とその後に中性陽極酸化で形成した
酸化皮膜とは膜質が異なる。例えば、酸性電解液として
燐酸系のものを使用すれば、皮膜中に燐が混入する。

【００３１】この結果、第１のデュプレクス型陽極酸化
皮膜５を構成していたバリヤー層４が主として酸化皮膜
表面側に成長し、バリヤー層の厚みが増した皮膜が形成
される。この状態を図２に示す。なお、図２中の２点鎖
線は、アルミニウム箔を酸性水溶液中で陽極酸化したと
きのアルミニウムと酸化皮膜との境界を示す。図２から
判るように、アルミニウム素地と酸化皮膜との界面でも
酸化皮膜が成長する。

【００３２】このようにして第２のデュプレクス型陽極
酸化皮膜７を形成した後、蛍光体粉末を分散させたシア
ノエチル−４，４，６−トリグルカン（シアノエチルプ
ルラン）等のバインダにＤＭＦ（ジメチルホルムアミ
ド）を加えてインク状にしたＥＬ発光剤を、第２のデュ
プレクス型陽極酸化皮膜７上に直接塗布し、乾燥して、
ＥＬ発光層を形成した。

【００３３】さらに、ＩＴＯを蒸着し、かつリード線を
付けた透明電極フィルムを熱圧着により貼付した。この
後、アルミニウム箔の片面に付けておいたフィルムを外
し、フィルムを外した側のアルミニウム箔表面からリー
ド線を導出して、図４に示すような構造のＥＬ素子を得
た。

【００３４】同図に示すＥＬ素子１０は、背面電極とし
てのアルミニウム箔１と、このアルミニウム箔１の一表
面に形成された第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜７
（電気的絶縁層）と、この第２のデュプレクス型陽極酸
化皮膜７上に形成されたＥＬ発光層１１と、このＥＬ発
光層１１上に形成された透明電極フィルム１２とを備え
ている。そして、透明電極フィルム１２からはリード線
１３ａが、またアルミニウム箔１からはリード線１３ｂ
が導出されている。

【００３５】このようにして製造したＥＬ素子（サンプ
ル１）の性能を、印加電圧１００Ｖ（交流４００Ｈｚ）
の条件で測定した。結果を表１に示す。

【００３６】比較例１まず、サンプル１の場合と同様にしてアルミニウム箔の
一表面に電解研磨を施した。

【００３７】次に、高誘電率有機樹脂を溶剤に溶き、こ
れにチタン酸バリウム粉末を分散させてインク状にした
ものを、アルミニウム箔の電解研磨された面上に印刷法
により塗布し、乾燥させて、厚み約４０μｍの電気的絶
縁層（樹脂絶縁層）を形成した。

【００３８】この後、樹脂絶縁層上に、サンプル１の場
合と同様にしてＥＬ発光層および透明電極を形成し、さ
らにリード線を導出して、ＥＬ素子（サンプル２）を得
た。比較のため、このＥＬ素子の性能をサンプル１の場
合と同様にして測定した。結果を表１に併せて示す。

【００３９】比較例２サンプル１の場合と同様にしてアルミニウム箔の一表面
に電解研磨を施した後、電解研磨後のアルミニウム箔を
陽極とし、純度９９．９９％のアルミニウム板を陰極と
し、０．０５ｍｏｌ／リットルのアジピン酸アンモニウ
ム溶液を中性電解液として用いて、電流密度０．８Ａ／
ｄｍ² 、電解液温度約６０℃の条件で電圧が２５０Ｖに
到達するまで定電流電解した後、電流値が１／１０にな
るまで定電圧電解して、中性陽極酸化を行った。この中
性陽極酸化により、アルミニウム箔の電解研磨された面
上に、サンプル１と同程度の厚みを有するバリヤー型陽
極酸化皮膜を形成した。

【００４０】この後、バリヤー型陽極酸化皮膜上に、サ
ンプル１の場合と同様にしてＥＬ発光層および透明電極
を形成し、さらにリード線を導出して、ＥＬ素子（サン
プル３）を得た。

【００４１】比較のため、このＥＬ素子の性能をサンプ
ル１の場合と同様にして測定した。結果を表１に併せて
示す。

【００４２】

【表１】

【００４３】表１から明らかなように、サンプル１は、
サンプル２およびサンプル３よりも輝度と発光効率が向
上しており、かつ、消費電力は低減していた。また、過
電圧がかかった場合でも電気的絶縁層が破壊されないこ
とが確認でき、さらに、発光ムラが少ないことが確認で
きた。

【００４４】またサンプル１は、サンプル３に比べて静
電容量が高く、かつ等価直列抵抗（ＥＳＲ）が小さいこ
とが確認できた。これらのことから、サンプル１で電気
的絶縁層として用いている第２のデュプレクス型陽極酸
化皮膜は、中性陽極酸化によるバリヤー型陽極酸化皮膜
とは膜質の性状が異なり、かつコンデンサーと考えたと
きの特性に優れているものと考えられる。

【００４５】以上の結果から、酸性陽極酸化後に中性陽
極酸化を行うと、中性陽極酸化のみで得られるバリヤー
型陽極酸化皮膜より更に緻密な陽極酸化皮膜を得ること
ができるものと考えられる。

【００４６】上述の実施例によれば、電気的絶縁層の形
成に塗布工程を用いることなく、かつ同等以上の特性を
有するＥＬ素子を製造することが可能である。本発明の
ＥＬ素子の製造方法は上述の方法に限定されるものでは
なく、種々の変形例および応用例を含む。

【００４７】例えば、第２のデュプレクス型陽極酸化皮
膜中の成長したバリヤー層（図２中の符号６）の厚み
は、上述の実施例では約０．３μｍ程度であったが、
０．１〜０．５μｍ程度の範囲内で適宜変更可能であ
る。０．５μｍを超えると第２のデュプレクス型陽極酸
化皮膜中での電圧降下が大きくなり、得られるＥＬ素子
の輝度が低下しやすい。一方、０．１μｍ未満では得ら
れるＥＬ素子の耐電圧性が低下しやすい。

【００４８】また、第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜
中の多孔質層については、ポア深さは０．１〜０．５μ
ｍ程度が好ましい。ポアの深さが浅すぎると、ＥＬ発光
層との密着性が悪くなって、得られるＥＬ素子の輝度が
低下する他、発光ムラも大きくなる。一方、深すぎる
と、ポア内にバインダーが充填されずに隙間が生じるた
め、得られるＥＬ素子の輝度が低下する。

【００４９】ポア径は０．０５μｍ以上であればよい
が、０．０５〜０．５μｍ程度が好ましい。０．０５μ
ｍ未満では、孔径が小さ過ぎて実質的に効果がない。前
述したバリヤー層の厚みと上述したポア深さとの関係か
ら、第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜の厚み（図２中
の符号７）は、０．２〜１．０μｍの範囲内が好まし
い。

【００５０】このような第２のデュプレクス型陽極酸化
皮膜を得るために先ず行う酸性陽極酸化の電解液として
は、硫酸、クロム酸、蓚酸、燐酸等の無機、または有機
酸の酸性水溶液を用いることができる。いずれの酸性電
解液を用いた場合でも、アルミニウム箔の表面に、多孔
質層とバリヤー層とを含む第１のデュプレクス型陽極酸
化皮膜を形成することができる。

【００５１】酸性陽極酸化時の電流密度は０．１〜３Ａ
／ｄｍ² の範囲内が好ましい。電解浴温度は、常温〜４
０℃が好ましい。ただし、これらの条件は制限的なもの
ではない。

【００５２】酸性電解液の種類や、電流密度、定電圧移
行後の降下電流値、電解浴温度等の条件を適宜選択する
ことにより、第１のデュプレクス型陽極酸化皮膜を構成
する多孔質層のポア径やポア深さ、第１のデュプレクス
型陽極酸化皮膜を構成するバリヤー層の膜厚等を制御す
ることができる。

【００５３】第１のデュプレクス型陽極酸化皮膜を得た
後に、この陽極酸化皮膜中のバリヤー層を成長させるた
めに行う中性陽極酸化の電解液としては、ホウ酸アンモ
ニウム系水溶液、燐酸アンモニウム系水溶液、アジピン
酸アンモニウム系水溶液等、ｐＨ５〜８の無機、または
有機酸またはそれらの塩の中性水溶液を用いることがで
きる。いずれの電解液を用いた場合でも、第１のデュプ
レクス型陽極酸化皮膜中のバリヤー層を成長させて、多
孔質層と成長したバリヤー層とを含む第２のデュプレク
ス型陽極酸化皮膜を形成することができる。

【００５４】中性陽極酸化時の電流密度は０．１〜５Ａ
／ｄｍ² の範囲内が、また定電圧移行後の降下電流値は
０．０１〜５Ａ／ｄｍ² の範囲内がそれぞれ好ましい。
電解浴温度は、常温〜９０℃が好ましい。ただし、これ
らの条件は制限的なものではない。

【００５５】本発明の方法では、上述のようにして形成
した第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜上に直接、ＥＬ
発光層を形成することができる。ＥＬ発光層の形成方法
は特に限定されるものではなく、たとえば、シアノエチ
ル−４，４，６−トリグルカンやシアノエチルポリビニ
ールアルコール等の高誘電率を有するバインダに蛍光体
粉末を分散し、ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）等の溶
剤で溶いてインク状としたものを塗布し、乾燥するとい
った当分野で公知の方法を適用することができる。

【００５６】また、ＥＬ発光層上に透明電極を形成する
際の方法も特に限定されるものではなく、ポリエステル
フィルム表面にＩＴＯを蒸着した透明電極フィルムを熱
圧着する方法の他にも、たとえば、ＩＴＯ粉末をシアノ
エチル−４，４，６−トリグルカン等のバインダと共に
ＤＭＦ等の溶剤で溶いてインク状としたものをＥＬ発光
層上に塗布し、乾燥するといった方法等の当分野で公知
の方法を適用することができる。

【００５７】このようにして透明電極まで形成した構造
に対しては、一般に、電圧を印加する機構を設ける。電
圧を印加する機構は、例えば、背面電極であるアルミニ
ウム箔と透明電極からそれぞれリード線を導出して図４
に示したような構造にすることにより設けることができ
るが、この構造に限定されるものではない。さらに、Ｅ
Ｌ素子本体を防湿フィルムのパッケージに収容する等の
方法により封止することが好ましい。

【００５８】上述のようにして製造されたＥＬ素子で
は、成長したバリヤー層を含む第２のデュプレクス型陽
極酸化皮膜が電気的絶縁層として機能するので、耐電圧
性を改良すると同時に、輝度や発光効率等の電気的特性
を改良することができる。さらに、多孔質層の存在によ
り、ＥＬ発光層形成時のバインダの濡れ性等が改善さ
れ、得られるＥＬ素子の発光ムラも少なくできる。

【００５９】なお、前述した実施例では酸性陽極酸化を
行うのに先立ってアルミニウム箔の表面を電解研磨した
が、表面研磨は行っても行わなくてもよい。表面研磨の
方法としては、電解研磨法の他に化学研磨法、機械研磨
法等の方法を適用することができる。

【００６０】以上、本発明の変型例および応用例につい
て説明したが、その他、アルミニウム箔に代えてアルミ
ニウム板や表面にアルミニウム層を有する部材等、種々
の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自
明であろう。

【００６１】なお本発明の方法は、たとえばＬＣＤ装置
のバックライト用光源の他、種々の用途のＥＬ素子の製
造に適用することができる。

【００６２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
発光ムラの低減されたＥＬ素子を提供することが可能で
ある。

【００６３】さらに、耐電圧性が高く、電気的特性に優
れたＥＬ素子を簡単な工程で製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１のデュプレクス型陽極酸化皮膜の断面スケ
ッチである。

【図２】第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜の断面スケ
ッチである。

【図３】第１のデュプレクス型陽極酸化皮膜を構成する
バリヤー型陽極酸化皮膜が中性陽極酸化により表面側に
成長する原理を説明するための断面図である。

【図４】実施例で得られたＥＬ素子の概略的断面図であ
る。

【図５】従来技術によるＥＬ素子の概略的断面図であ
る。

【符号の説明】

１アルミニウム箔（背面電極）２，２ａポア３，３ａ多孔質陽極酸化皮膜４バリヤー型陽極酸化皮膜（酸性陽極酸化によるも
の）５第１のデュプレクス型陽極酸化皮膜６成長したバリヤー型陽極酸化皮膜７第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜（電気的絶縁
層）１０ＥＬ素子１１ＥＬ発光層１２透明電極フィルム１３ａ，１３ｂリード線

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者高橋恒茨城県つくば市東光台５−９−６日本重化学工業株式会社筑波研究所内 (72)発明者外村毅茨城県つくば市東光台５−９−６日本重化学工業株式会社筑波研究所内 (72)発明者藤井雄幸茨城県つくば市東光台５−９−６日本重化学工業株式会社筑波研究所内 (72)発明者近藤健一東京都世田谷区千歳台２−33−１ (72)発明者齋田隆浩神奈川県横浜市緑区藤が丘１−22−15 シンセリティ藤が丘201 (72)発明者田谷周一神奈川県横浜市緑区荏田南２−17−８志村マンション405号 (72)発明者山川禎康山形県長井市幸町１番１号マルコン電子株式会社内 (72)発明者大沢俊一山形県長井市幸町１番１号マルコン電子株式会社内 (56)参考文献特開昭60−205989（ＪＰ，Ａ) 特開平４−48580（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H05B 33/26 H05B 33/10

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】アルミニウム箔と、このアルミニウム箔
の表面に形成されたデュプレクス型陽極酸化皮膜を含む
電気的絶縁層と、この電気的絶縁層の上に直接形成され
たＥＬ発光層と、このＥＬ発光層上に形成された透明電
極とを有するＥＬ素子であって、前記デュプレクス型陽極酸化皮膜は、酸性陽極酸化後主
としてバリヤー層を表面側に成長させることによりポア
深さを浅く、バリヤー層を厚くした皮膜であり、この皮
膜のバリヤー層の厚みが０．１〜０．５μｍ、ポア径が
０．０５μｍ以上、ポア深さが０．１〜０．５μｍであ
るＥＬ素子。
【請求項２】アルミニウム箔を酸性電解液中で陽極酸
化することにより、前記アルミニウム箔の表面に第１の
デュプレクス型陽極酸化皮膜を形成する工程と、前記第１のデュプレクス型陽極酸化皮膜が形成されたア
ルミニウム箔をさらに中性電解液中で陽極酸化すること
により、主として前記第１のデュプレクス型酸化皮膜を
構成するバリヤー層を表面側に成長させて、ポア深さが
浅く、バリヤー層の厚い第２のデュプレクス型陽極酸化
皮膜を形成する工程と、前記第２のデュプレクス型陽極酸化皮膜上に直接ＥＬ発
光層、透明電極層を形成する工程とを含むＥＬ素子の製
造方法。