JP2770692B2 - Thick film multilayer circuit board - Google Patents

Thick film multilayer circuit board

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、厚膜多層回路基板に関
し、特に厚膜導体層に導体抵抗値の低い材料、例えば純
度の高い銀、を使用しても該厚膜導体層上にさらに銅メ
ッキを行なうことができるようにし、配線抵抗値を大幅
に低下させると共に信頼性を向上した厚膜多層回路基板
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thick-film multilayer circuit board, and more particularly to a thick-film conductor layer formed on a thick-film conductor layer by using a material having a low conductor resistance, for example, high-purity silver. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thick-film multilayer circuit board capable of performing copper plating, greatly reducing wiring resistance and improving reliability.

【0002】[0002]

【従来の技術】厚膜多層回路基板は、セラミックスのよ
うな絶縁基板上に下部導体層を形成し、該下部導体層上
に誘電体層を介して上部導体層を形成することによっ
て、部品の実装密度を高めかつ回路性能を向上させるこ
とができるものである。このような厚膜多層回路基板、
例えばセラミックス厚膜多層回路基板、においては、従
来各導体層は外部からの水分侵入によるマイグレーショ
ンを防止するため、純粋な銀ではなくパラジウムやプラ
チナを銀に加えた導体、すなわち銀パラジウムあるいは
銀白金を使用している。また、このような厚膜導体上に
銅メッキを行なうことにより耐マイグレーション性能向
上をはかると共に導体抵抗値を低下させている。
2. Description of the Related Art A thick-film multilayer circuit board is formed by forming a lower conductor layer on an insulating substrate such as ceramics and forming an upper conductor layer on the lower conductor layer via a dielectric layer. It is possible to increase the mounting density and improve the circuit performance. Such a thick film multilayer circuit board,
For example, in a ceramic thick film multilayer circuit board, conventionally, each conductor layer is made of a conductor obtained by adding palladium or platinum to silver instead of pure silver, that is, silver palladium or silver platinum, in order to prevent migration due to moisture intrusion from the outside. I'm using Further, by performing copper plating on such a thick film conductor, the migration resistance is improved and the conductor resistance value is reduced.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
従来の厚膜多層回路基板においては、厚膜導体上に銅メ
ッキを行なう場合、部分的に多層、すなわちクロスオー
バ、部分があると、該クロスオーバ部分の各導体層の絶
縁に用いられる誘電体層にメッキ液が侵入し、信頼性が
悪化するため、多層構造の場合は銅メッキできないとい
う不都合があった。
However, in such a conventional thick-film multilayer circuit board, when copper plating is performed on a thick-film conductor, if there is a partial multilayer, that is, a crossover, there is a problem. Since the plating solution penetrates into the dielectric layer used for insulating the conductor layers in the crossover portion and the reliability is deteriorated, there is a disadvantage that the copper plating cannot be performed in the case of the multilayer structure.

【0004】また、導体層の材料として銀パラジウムや
銀白金を使用しているため、導体の抵抗値が高くなると
共に、回路基板が高価になるという不都合があった。銀
パラジウムあるいは銀白金のシート抵抗は例えば15〜
20mΩ/平方ミリであり、このため回路損失が大きく
なり、電流容量が小さくなると共に配線の微細化をはか
ることができず、回路基板の実装密度の向上および小型
化の障害となっていた。
Further, since silver palladium or silver platinum is used as the material of the conductor layer, there are disadvantages that the resistance value of the conductor increases and the circuit board becomes expensive. The sheet resistance of silver palladium or silver platinum is, for example, 15 to
This is 20 mΩ / square millimeter, which results in an increase in circuit loss, a reduction in current capacity, and an inability to miniaturize wiring, which has been an obstacle to improving the mounting density and miniaturization of circuit boards.

【0005】本発明の目的は、このような従来の問題点
に鑑み、多層構造でも高い信頼性を保ちながら銅メッキ
ができるようにして配線抵抗値を低下させ、従って配線
の微細化および回路装置の小型化を達成可能とすること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned conventional problems, it is an object of the present invention to reduce the wiring resistance by enabling copper plating while maintaining high reliability even in a multilayer structure. It is possible to achieve the miniaturization of the device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、絶縁基板上に形成された下部導体
層と該下部導体層上に誘電体層を介して形成された上部
導体層とを有する厚膜多層回路基板において、少なくと
も前記下部導体層と前記上部導体層との交差部分上に前
記誘電体層をおおう如く耐メッキ性オーバコート層を形
成し、この耐メッキ性オーバコート層をマスクとして前
記交差部以外の導体層上に銅メッキ層を形成する。
According to the present invention, there is provided a lower conductor layer formed on an insulating substrate and an upper conductor formed on the lower conductor layer via a dielectric layer. A thick film multilayer circuit board having a plating-resistant overcoat layer formed so as to cover the dielectric layer at least at the intersection of the lower conductor layer and the upper conductor layer. Using the layer as a mask, a copper plating layer is formed on the conductor layer other than the intersection.

【0007】また、前記下部導体層および前記上部導体
層は銀を主成分とする材料、すなわち70重量%〜10
0重量%程度の銀を含む材料で形成すると好都合であ
る。
The lower conductor layer and the upper conductor layer are made of a material containing silver as a main component, that is, 70% by weight to 10% by weight.
It is convenient to form it from a material containing about 0% by weight of silver.

【0008】さらに、上述のような厚膜多層回路基板に
おいて、その最上層にはんだ付け用領域を除き有機樹脂
のレジスト層を形成すると好都合である。
Further, in the above-described thick-film multilayer circuit board, it is advantageous to form an organic resin resist layer on the uppermost layer except for a soldering region.

【0009】[0009]

【作用】上記構成に係わる厚膜多層回路基板において
は、前記下部導体層と前記上部導体層との交差部分上
に、前記誘電体層をおおう如く耐メッキ性オーバコート
層が形成され、この耐メッキ性オーバコート層の上から
前記交差部分以外の導体層上に銅メッキが行なわれる。
従って、この銅メッキを行なう場合に、耐メッキ性オー
バコート層が存在するため、メッキ液が前記誘電体層に
侵入することが防止され、誘電体層の損傷がなくなり信
頼性が向上する。従って、各導体層に適確に銅メッキを
行なうことができ、配線抵抗の低い高性能の回路基板が
実現できる。
In the thick-film multilayer circuit board according to the above structure, a plating-resistant overcoat layer is formed on the intersection of the lower conductor layer and the upper conductor layer so as to cover the dielectric layer. Copper plating is performed on the conductive layer other than the crossing portion from the plating overcoat layer.
Therefore, when performing this copper plating, since the plating-resistant overcoat layer is present, the plating solution is prevented from entering the dielectric layer, and the dielectric layer is not damaged and the reliability is improved. Therefore, copper plating can be appropriately performed on each conductor layer, and a high-performance circuit board with low wiring resistance can be realized.

【0010】また、前記下部導体層および上部導体層
を、純度の高い銀、例えば70重量%〜100重量%の
銀を含む材料によって形成することにより、各導体層の
配線抵抗を大幅に低下させることができる。そして、こ
の場合、各導体層に銅メッキを行なうことにより、また
厚膜多層回路基板の最上層にはんだ付け用領域を除き有
機樹脂のレジスト層を形成することにより、外部からの
水分の侵入による銀の耐マイグレーション性を向上させ
ることが可能になる。
Further, the lower conductor layer and the upper conductor layer are formed of a material containing high-purity silver, for example, silver of 70% by weight to 100% by weight, so that the wiring resistance of each conductor layer is greatly reduced. be able to. In this case, copper plating is applied to each conductor layer, and a resist layer of an organic resin is formed on the uppermost layer of the thick-film multilayer circuit board except for a soldering area, so that moisture from the outside can be prevented. It becomes possible to improve the migration resistance of silver.

【0011】[0011]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につき
説明する。図1は、本発明の1実施例に係わる厚膜多層
回路基板の主として交差部分すなわちクロスオーバ部分
を示す。また、図2は図1のX−X線に沿った断面図を
示し、図3は図1のY−Y線に沿った断面図を示す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 mainly shows a crossing portion, that is, a crossover portion, of a thick film multilayer circuit board according to one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a sectional view taken along line XX of FIG. 1, and FIG. 3 is a sectional view taken along line YY of FIG.

【0012】これらの図に示すように、本実施例に係わ
る厚膜多層回路基板は、例えばアルミナセラミックスに
よって形成される絶縁基板1を有し、この絶縁基板1上
に所望の回路パターンを有する下部導体層3が形成され
ている。下部導体3の上には誘電体層5が形成され該誘
電体層5の上に上部導体層7が形成されてクロスオーバ
部分を構成している。
As shown in these figures, the thick-film multilayer circuit board according to the present embodiment has an insulating substrate 1 formed of, for example, alumina ceramics, and a lower portion having a desired circuit pattern on the insulating substrate 1. The conductor layer 3 is formed. A dielectric layer 5 is formed on the lower conductor 3, and an upper conductor layer 7 is formed on the dielectric layer 5 to form a crossover portion.

【0013】誘電体層5は、例えば、ホウケイ酸塩ガラ
ス等の結晶化ガラスによって形成される。また、下部導
体層3および上部導体層7は例えば共に純度の高い銀が
使用される。例えば、70重量%〜100重量%の銀を
含む材料を使用することにより、3〜4mΩ/平方ミリ
の低いシート抵抗が得られる。これに対し、従来の厚膜
多層回路基板に使用されていた銀パラジウムあるいは銀
白金等は15〜20mΩ/平方ミリの比較的高いシート
抵抗を有している。
The dielectric layer 5 is made of, for example, crystallized glass such as borosilicate glass. Further, for the lower conductor layer 3 and the upper conductor layer 7, for example, both high-purity silver is used. For example, by using a material containing 70% by weight to 100% by weight of silver, a low sheet resistance of 3 to 4 mΩ / mm 2 can be obtained. On the other hand, silver palladium or silver platinum used for a conventional thick film multilayer circuit board has a relatively high sheet resistance of 15 to 20 mΩ / mm 2.

【0014】また、これら下部導体3と上部導体7との
交差する部分、すなわちクロスオーバ部分には耐メッキ
性のオーバコートガラス9が設けられている。さらに、
このオーバコートガラス部9以外の導体層3上には銅メ
ッキ層11が形成されている。この銅メッキ層11を形
成する場合に、オーバコートガラス9がマスクとして使
用され、誘電体層5へのメッキ液の侵入を防止し信頼性
を向上させている。なお、メッキ層11には銅以外の金
属も使用できる。
Further, a plating-resistant overcoat glass 9 is provided at a portion where the lower conductor 3 and the upper conductor 7 intersect, that is, at a crossover portion. further,
A copper plating layer 11 is formed on the conductor layer 3 other than the overcoat glass portion 9. When the copper plating layer 11 is formed, the overcoat glass 9 is used as a mask to prevent a plating solution from entering the dielectric layer 5 and improve reliability. In addition, metals other than copper can be used for the plating layer 11.

【0015】さらに、最上層には、有機樹脂レジスト層
13が、はんだレジストとして形成されている。従っ
て、この有機樹脂レジスト層13は、図では示されてい
ないが、はんだ付けする導電層部分には形成されていな
い。
Further, an organic resin resist layer 13 is formed as a solder resist on the uppermost layer. Therefore, this organic resin resist layer 13 is not shown in the drawing, but is not formed on the conductive layer portion to be soldered.

【0016】なお、下部導体層3の上に形成される銅メ
ッキ層11は、図1では、クロスオーバ部分のオーバコ
ートガラス層9の領域を除きその領域の外側の下部導体
層3上に形成されることになる。
In FIG. 1, the copper plating layer 11 formed on the lower conductor layer 3 is formed on the lower conductor layer 3 outside the region except the region of the overcoat glass layer 9 in the crossover portion. Will be done.

【0017】次に、以上のような厚膜多層回路基板を製
作する方法につき、図4を参照して説明する。まず同図
(a)に示すように、例えば96%アルミナのようなセ
ラミックス基板1を準備し、その上に下部導体層3を所
望のパターンに形成する。この下部導体層3の形成は、
アルミナセラミックス基板1上にスクリーン印刷によ
り、銀を主成分とするペーストを印刷しかつ焼成するこ
とにより形成する。
Next, a method of manufacturing the above-described thick film multilayer circuit board will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 1A, a ceramic substrate 1 made of, for example, 96% alumina is prepared, and a lower conductor layer 3 is formed thereon in a desired pattern. This lower conductor layer 3 is formed by
The paste is formed by printing a paste containing silver as a main component on the alumina ceramic substrate 1 by screen printing and firing the paste.

【0018】次に図4の(b)に示すように、配線のク
ロスオーバ部分に結晶化ガラスすなわちクロスガラスを
印刷しかつ焼成することにより誘電体層5を形成する。
さらに、この誘電体層5を乗り越えて下部導体層3と同
様の方法で、銀ペーストを印刷かつ焼成することにより
上部導体7を形成する。
Next, as shown in FIG. 4B, a dielectric layer 5 is formed by printing and firing crystallized glass, ie, cross glass, on the crossover portion of the wiring.
Further, the upper conductor 7 is formed by printing and baking a silver paste in the same manner as the lower conductor layer 3 over the dielectric layer 5.

【0019】次に、図4の(c)に示すように、銅メッ
キを行なう導体層の部分を除いた領域およびクロスオー
バ部分に耐メッキ性のオーバコートガラスを印刷かつ焼
成してオーバコートガラス層9を形成する。また、クロ
スオーバ部分にはオーバコートガラスを再度上塗りして
おくことによりさらに信頼性を高めることができる。
Next, as shown in FIG. 4C, plating-resistant overcoat glass is printed and fired on the region excluding the portion of the conductor layer to be plated with copper and on the crossover portion. The layer 9 is formed. Further, the reliability can be further improved by overcoating the crossover portion again with overcoat glass.

【0020】次に図4の(d)に示すように、オーバコ
ートガラス層9の部分以外の導体露出部分に無電解銅メ
ッキを行ない銅メッキ層11を形成する。
Next, as shown in FIG. 4D, a copper plating layer 11 is formed on the exposed portions of the conductor other than the overcoat glass layer 9 by electroless copper plating.

【0021】最後に図4の(e)に示すように、はんだ
付け部分を除いた配線領域およびクロスオーバ部分上に
はんだレジスト層13を形成する。このはんだレジスト
層は、例えば有機樹脂レジストをコーティングすること
により形成する。
Finally, as shown in FIG. 4E, a solder resist layer 13 is formed on the wiring region except the soldered portion and on the crossover portion. This solder resist layer is formed by, for example, coating an organic resin resist.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、厚膜多
層回路基板において、下部導体と上部導体とのクロスオ
ーバ部分に設けられる誘電体層を耐メッキ性のオーバコ
ートガラスによって保護するから、導体層に銅メッキを
行なってもメッキ液によって誘電体層を劣化させること
がなくなり、多層回路基板でも導体部分を銅メッキし配
線抵抗値を低下させることが可能になる。従って、配線
をさらに微細なものとし回路の実装密度を向上させるこ
とができると共に、回路損失の低下等によってより高性
能の回路基板が実現できる。
As described above, according to the present invention, in a thick-film multilayer circuit board, a dielectric layer provided at a crossover portion between a lower conductor and an upper conductor is protected by a plating-resistant overcoat glass. Therefore, even if copper plating is performed on the conductor layer, the dielectric layer is not deteriorated by the plating solution, and the conductor portion can be copper-plated even on the multilayer circuit board to reduce the wiring resistance. Therefore, the wiring can be made finer, the mounting density of the circuit can be improved, and a circuit board with higher performance can be realized due to a reduction in circuit loss and the like.

【0023】さらに、導体層の上に銅メッキを行なうこ
とにより、耐マイグレーション性が向上し、従って厚膜
導体層として純度の高い銀等を使用でき、配線抵抗値を
さらに低くすることができると共に、従来の銀パラジウ
ムあるいは銀白金を使用する場合よりも低価格の回路基
板が提供できる。なお、多層回路基板の最上層にはんだ
レジストを形成することにより、耐マイグレーション性
をさらに向上させることができる。
Further, by performing copper plating on the conductor layer, the migration resistance is improved, so that high-purity silver or the like can be used as the thick-film conductor layer, and the wiring resistance value can be further reduced. A circuit board can be provided at a lower price than when using conventional silver palladium or silver platinum. By forming a solder resist on the uppermost layer of the multilayer circuit board, the migration resistance can be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の1実施例に係わる厚膜多層回路基板の
クロスオーバ部分の構成を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a crossover portion of a thick film multilayer circuit board according to one embodiment of the present invention.

【図2】図1の厚膜多層回路基板のX−X線に沿った断
面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the thick-film multilayer circuit board of FIG. 1 taken along line XX.

【図3】図1の厚膜多層回路基板のY−Y線に沿った断
面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of the thick-film multilayer circuit board of FIG. 1 taken along line YY.

【図4】図1に示される厚膜多層回路基板を製造する方
法を説明するための工程図である。
FIG. 4 is a process chart for explaining a method of manufacturing the thick film multilayer circuit board shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 セラミックス基板 3 下部導体 5 誘電体層 7 上部導体層 9 オーバコート層 11 銅メッキ層 13 はんだレジスト DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic substrate 3 Lower conductor 5 Dielectric layer 7 Upper conductor layer 9 Overcoat layer 11 Copper plating layer 13 Solder resist

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H05K 3/46 H05K 1/11 H05K 3/40──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H05K 3/46 H05K 1/11 H05K 3/40

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 絶縁基板上に形成された下部導体層と該
下部導体層上に誘電体層を介して形成された上部導体層
とを有する厚膜多層回路基板であって、 少なくとも前記下部導体層と前記上部導体層との交差部
分上に前記誘電体層をおおう如く形成された耐メッキ性
オーバコート層、および前記耐メッキ性オーバコート層
をマスクとして前記交差部分以外の導体層上に形成され
た銅メッキ層、 を具備することを特徴とする厚膜多層回路基板。
1. A thick-film multilayer circuit board having a lower conductor layer formed on an insulating substrate and an upper conductor layer formed on the lower conductor layer via a dielectric layer, wherein at least the lower conductor A plating-resistant overcoat layer formed so as to cover the dielectric layer on the intersection of a layer and the upper conductor layer, and formed on a conductor layer other than the intersection using the plating-resistant overcoat layer as a mask. A thick film multilayer circuit board, comprising: a plated copper layer.
【請求項2】 前記下部導体層および前記上部導体層は
70重量%から100重量%の銀を含む材料で形成され
ていることを特徴とする請求項1に記載の厚膜多層回路
基板。
2. The thick film multilayer circuit board according to claim 1, wherein the lower conductor layer and the upper conductor layer are formed of a material containing 70% by weight to 100% by weight of silver.
【請求項3】 最上層にはんだ付け用領域を除き有機樹
脂のレジスト層を形成したことを特徴とする請求項1ま
たは2に記載の厚膜多層回路基板。
3. The thick-film multilayer circuit board according to claim 1, wherein an organic resin resist layer is formed on the uppermost layer except for a soldering area.
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