JP2753465B2 - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- JP2753465B2 JP2753465B2 JP7281305A JP28130595A JP2753465B2 JP 2753465 B2 JP2753465 B2 JP 2753465B2 JP 7281305 A JP7281305 A JP 7281305A JP 28130595 A JP28130595 A JP 28130595A JP 2753465 B2 JP2753465 B2 JP 2753465B2
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- JP
- Japan
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- liquid crystal
- metal film
- film
- crystal display
- light
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の利用分野】本発明は液晶表示素子に係り、特に
有効表示部における不要な光もれを防ぐために基板に形
成する遮光膜の構造に関する。 【０００２】 【発明の背景】例えば、力メラのファインダー内表示用
などに用いる液晶表示素子は、上基板または下基板に遮
光膜を形成し、有効表示部における不要な光もれを防止
している（特開昭59−154424号）。また前記遮光膜は、
表示品質を高めるために、一般に無光沢面となつてい
る。 【０００３】従来、前記遮光膜は、つや消し（無光沢）
黒色インクを印刷して形成している。しかし、この方法
は、微細パターンを形成することができなく、また電極
パターンとの位置精度という点でも問題があり、力メラ
用などの小型液晶表示に適用するには、パターン上の制
約があつた。 【０００４】 【発明の目的】本発明の目的は、微細パターンを形成す
ることができると共に、電極パターンとの位置精度の向
上が図れる遮光膜を有する液晶表示素子を提供すること
にある。 【０００５】本発明の他の目的は、不要な光もれを防ぐ
と共に、無光沢面に形成することができる遮光膜を有す
る液晶表示素子を提供することにある。 【０００６】 【発明の概要】本発明の一実施例によれば、遮光膜を遮
光性を有する金属膜と無光沢性を有する金属膜との多層
金属膜とによつて形成してなる。これにより、上記目的
が達成される。 【０００７】 【発明の実施例】以下、本発明の一実施例を図１及び図
２により説明する。図１に示すように、電極パターンが
形成された上下基板１、２は、周辺部をシール材３でシ
ールし、内部に液晶４が封入されている。前記上基板１
の外側面には、Cr2Ｏ3などのように無光沢性を有する金
属膜５と、Crなどのように遮光性を有する金属膜６と、
Cr2Ｏ3などのように無光沢性を有する金属膜７とからな
る３層金属膜が形成されている。また前記金属膜７の外
側面及び前記下基板２の外側面にはそれぞれ偏光板８、
９が設けられている。前記金属膜６は、遮光性という面
からl000Å程度、前記金属膜５、７は、無光沢性という
面から500Å程度の厚さに形成する。これら３層金属膜
５、６、７の形成は、蒸着あるいはスパツタ方法などに
より形成し、図２に示すように有効表示部10a、シンボ
ルパターン10bなどを有する金属膜パターン10に形成す
る。 【０００８】このように、遮光性を有する金属膜６を形
成してなるので、表示部の不要な光もれを防止できる。
また金属膜６の上下面には無光沢面を有する金属膜５、
７を形成してなるので、金属膜６の両面は無光沢面とな
る。また３層金属膜５、６、７よりなるので、金属膜パ
ターン10はエッチング方法によつて数10μｍという微細
パターンに形成することができると共に、位置精度も向
上する。 【０００９】なお、上記実施例においては、金属膜５、
６、７を上基板１の外側面に形成したが、下基板２の外
側面に形成してもよい。また遮光性の金属膜６の上下面
に金属膜５、７を形成し、両側無光沢面としたが、一方
の面のみに金属膜５または７を形成して２層金属膜と
し、片側無光沢面にしてもよい。 【００１０】 【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、遮光膜を遮光性の金属膜と無光沢性の金属膜
との多層金属膜によつて形成したので、遮光性及び無光
沢性の両方を満足できる。また微細パターンを形成する
ことができると共に、位置精度も向上する。これらのこ
とにより、特殊分野、例えばカメラのファインダー内表
示用液晶表示素子に適用した場合に優れた効果が得られ
る。
有効表示部における不要な光もれを防ぐために基板に形
成する遮光膜の構造に関する。 【０００２】 【発明の背景】例えば、力メラのファインダー内表示用
などに用いる液晶表示素子は、上基板または下基板に遮
光膜を形成し、有効表示部における不要な光もれを防止
している（特開昭59−154424号）。また前記遮光膜は、
表示品質を高めるために、一般に無光沢面となつてい
る。 【０００３】従来、前記遮光膜は、つや消し（無光沢）
黒色インクを印刷して形成している。しかし、この方法
は、微細パターンを形成することができなく、また電極
パターンとの位置精度という点でも問題があり、力メラ
用などの小型液晶表示に適用するには、パターン上の制
約があつた。 【０００４】 【発明の目的】本発明の目的は、微細パターンを形成す
ることができると共に、電極パターンとの位置精度の向
上が図れる遮光膜を有する液晶表示素子を提供すること
にある。 【０００５】本発明の他の目的は、不要な光もれを防ぐ
と共に、無光沢面に形成することができる遮光膜を有す
る液晶表示素子を提供することにある。 【０００６】 【発明の概要】本発明の一実施例によれば、遮光膜を遮
光性を有する金属膜と無光沢性を有する金属膜との多層
金属膜とによつて形成してなる。これにより、上記目的
が達成される。 【０００７】 【発明の実施例】以下、本発明の一実施例を図１及び図
２により説明する。図１に示すように、電極パターンが
形成された上下基板１、２は、周辺部をシール材３でシ
ールし、内部に液晶４が封入されている。前記上基板１
の外側面には、Cr2Ｏ3などのように無光沢性を有する金
属膜５と、Crなどのように遮光性を有する金属膜６と、
Cr2Ｏ3などのように無光沢性を有する金属膜７とからな
る３層金属膜が形成されている。また前記金属膜７の外
側面及び前記下基板２の外側面にはそれぞれ偏光板８、
９が設けられている。前記金属膜６は、遮光性という面
からl000Å程度、前記金属膜５、７は、無光沢性という
面から500Å程度の厚さに形成する。これら３層金属膜
５、６、７の形成は、蒸着あるいはスパツタ方法などに
より形成し、図２に示すように有効表示部10a、シンボ
ルパターン10bなどを有する金属膜パターン10に形成す
る。 【０００８】このように、遮光性を有する金属膜６を形
成してなるので、表示部の不要な光もれを防止できる。
また金属膜６の上下面には無光沢面を有する金属膜５、
７を形成してなるので、金属膜６の両面は無光沢面とな
る。また３層金属膜５、６、７よりなるので、金属膜パ
ターン10はエッチング方法によつて数10μｍという微細
パターンに形成することができると共に、位置精度も向
上する。 【０００９】なお、上記実施例においては、金属膜５、
６、７を上基板１の外側面に形成したが、下基板２の外
側面に形成してもよい。また遮光性の金属膜６の上下面
に金属膜５、７を形成し、両側無光沢面としたが、一方
の面のみに金属膜５または７を形成して２層金属膜と
し、片側無光沢面にしてもよい。 【００１０】 【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、遮光膜を遮光性の金属膜と無光沢性の金属膜
との多層金属膜によつて形成したので、遮光性及び無光
沢性の両方を満足できる。また微細パターンを形成する
ことができると共に、位置精度も向上する。これらのこ
とにより、特殊分野、例えばカメラのファインダー内表
示用液晶表示素子に適用した場合に優れた効果が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明になる液晶表示素子の一実施例を示す
断面図。 【図２】 図１の金属膜パターンの正面図である。 【符号の説明】 １…上基板、２…下基板、３…シール材、４…液晶、５
…無光沢性の金属膜、６…遮光性の金属膜、７…無光沢
性の金属膜、10…金属膜パターン。
断面図。 【図２】 図１の金属膜パターンの正面図である。 【符号の説明】 １…上基板、２…下基板、３…シール材、４…液晶、５
…無光沢性の金属膜、６…遮光性の金属膜、７…無光沢
性の金属膜、10…金属膜パターン。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．対向面に電極パターンが形成された2枚の上下基板
の周辺をシール材でシールし、内部に液晶を封入し、か
つ前記上下基板のいずれか一方のシンボルパターンを囲
む領域に遮光膜を有し、前記遮光膜を遮光性の金属膜と
無光沢性の膜との多層膜によつて形成した液晶表示素子
の製造方法であって、前記無光沢性の膜と前記金属膜 をエッチング方法によっ
てシンボルパターンを囲む同一の形状に形成することを
特徴とする液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7281305A JP2753465B2 (ja) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7281305A JP2753465B2 (ja) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | 液晶表示素子の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60076356A Division JPH0658473B2 (ja) | 1985-04-12 | 1985-04-12 | 液晶表示素子とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08211382A JPH08211382A (ja) | 1996-08-20 |
| JP2753465B2 true JP2753465B2 (ja) | 1998-05-20 |
Family
ID=17637234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7281305A Expired - Lifetime JP2753465B2 (ja) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2753465B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55151641A (en) * | 1979-05-15 | 1980-11-26 | Fujitsu Ltd | Manufacture of low reflection chromium mask |
| JPS59154424A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-03 | Asahi Glass Co Ltd | 液晶表示装置 |
-
1995
- 1995-10-30 JP JP7281305A patent/JP2753465B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08211382A (ja) | 1996-08-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |