JP2749080B2 - 情報記録用部材 - Google Patents
情報記録用部材Info
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- JP2749080B2 JP2749080B2 JP63281239A JP28123988A JP2749080B2 JP 2749080 B2 JP2749080 B2 JP 2749080B2 JP 63281239 A JP63281239 A JP 63281239A JP 28123988 A JP28123988 A JP 28123988A JP 2749080 B2 JP2749080 B2 JP 2749080B2
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Description
本発明はレーザ光などの記録用エネルギービームによ
って、たとえば映像や音声などのアナログ信号をFM変調
したものや、電子計算機のデータや、ファクシミリ信号
やディジタルオーディオ信号などのディジタル情報を、
リアルタイムで記録することが可能な情報の記録用薄膜
に関する。
って、たとえば映像や音声などのアナログ信号をFM変調
したものや、電子計算機のデータや、ファクシミリ信号
やディジタルオーディオ信号などのディジタル情報を、
リアルタイムで記録することが可能な情報の記録用薄膜
に関する。
レーザ光によって薄膜に記録を行う記録原理は種々あ
るが、膜材料の相転移（相変化とも呼ばれる）、フォト
ダークニングなどの原子配列変化による記録や、磁性体
薄膜の磁化方向反転を利用する光磁気記録は、膜の形状
変化をほとんど伴わない。従って、それら２枚のディス
クを樹脂により直接貼りあわせ、両面ディスクとするこ
とが出来るという長所を持っている。 なお、この種の記録に関連する従来技術としては、例
えば特願昭60−241470号、特開昭61−217944号が挙げら
れる。
るが、膜材料の相転移（相変化とも呼ばれる）、フォト
ダークニングなどの原子配列変化による記録や、磁性体
薄膜の磁化方向反転を利用する光磁気記録は、膜の形状
変化をほとんど伴わない。従って、それら２枚のディス
クを樹脂により直接貼りあわせ、両面ディスクとするこ
とが出来るという長所を持っている。 なお、この種の記録に関連する従来技術としては、例
えば特願昭60−241470号、特開昭61−217944号が挙げら
れる。
上記従来技術のうち、相変化による記録は記録用ビー
ムの照射による熱（約300℃以上）によって膜形状変化
をほとんど伴わない原子配列変化を生じさせるものであ
る。 このような記録媒体においては、記録膜中に発生した
熱を記録膜に近接した保護層に速やかに逃してやらなけ
ればならない。すなわち、記録パルスの幅や密度によっ
ては、記録とトラック上の各部の冷却速度が異なるた
め、記録する信号に忠実な相変化が起こらず、再生波形
歪みが大きくなる。 従って、本発明の目的は、記録信号に忠実な再生波形
が得られ、上記の記録または再生用ビームのレーザ光が
表面の形状の変化により散乱されない、また、記録感度
が低下しにくい記録用部材を提供することにある。
ムの照射による熱（約300℃以上）によって膜形状変化
をほとんど伴わない原子配列変化を生じさせるものであ
る。 このような記録媒体においては、記録膜中に発生した
熱を記録膜に近接した保護層に速やかに逃してやらなけ
ればならない。すなわち、記録パルスの幅や密度によっ
ては、記録とトラック上の各部の冷却速度が異なるた
め、記録する信号に忠実な相変化が起こらず、再生波形
歪みが大きくなる。 従って、本発明の目的は、記録信号に忠実な再生波形
が得られ、上記の記録または再生用ビームのレーザ光が
表面の形状の変化により散乱されない、また、記録感度
が低下しにくい記録用部材を提供することにある。
上記目的は、基板上に形成された記録用ビームの照射
を受けて変化を生ずる情報記録用薄膜を有する情報記録
用部材において、上記の記録用薄膜に近接して適当な金
属元素を主成分とする薄膜を設けることにより達成され
る。これによって、記録時の熱で上記の樹脂が変形した
り、読み出しを行なう際にノイズが増加することを防ぐ
ことができる。 金属元素を主成分とする上記薄膜は、その熱伝導率が
高過ぎると記録感度が大幅に低下するため、適当な熱伝
導率をもち、かつ上記の変形を防止する効果の高い金属
が望ましい。 記録用薄膜と上記の金属元素を主成分とする薄膜との
間に、中間層を設け、この膜厚を調節することによって
上記の金属元素を主成分とする薄膜への熱伝導をある程
度調節できる。しかし、光の干渉効果を利用して大きな
再生信号を得ために膜厚は制約を受け、実際には調節が
難しい。 上記の金属元素を主成分とする薄膜には、Al,Cu,Agお
よびAuより成る群（Ａ群）より選ばれた少なくとも一者
と、Mg,Si,Ca,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Zn,Zr,Nb,Mo,Rh,Z
r,Pd,,Sn,Sb,Te,Ta,W,Ir,Pt,Pb,BiおよびＣより成る群
（Ｂ群）より選ばれた少なくとも一者とを組合せた合金
を用いる。より好ましくは、金−ニッケル合金（例えば
Au:95％,Ni:5％，で表される合金）、ホワイトゴールド
（例えばAu:75％,Cu:2％,Ni:17％,Zn:6％で表される合
金）で表される合金を用いる。 Ａ群金属の含有量は原子％で５％以上95％以下が好ま
しく20％以上80％以下がより好ましい。また特に、熱伝
導率が230W/m/K以上420W/m/K以下の範囲より成る金属元
素を主成分とするＡ群より選ばれた少なくとも一者と、
熱伝導率が15W/m/K以上170W/m/K以下より成る元素を主
成分するＢ群より選ばれた少なくとも一者を主成分とす
る層を有することが好ましく、Ａ群元素の含有量は原子
％で30％以上98％以下、Ｂ群元素の含有量は原子％で２
％以上70％以下であることが望ましい。さらに、Ａ群元
素およびＢ群元素より成る層の膜厚が10nm以上1000nm以
下であることが望ましい。
を受けて変化を生ずる情報記録用薄膜を有する情報記録
用部材において、上記の記録用薄膜に近接して適当な金
属元素を主成分とする薄膜を設けることにより達成され
る。これによって、記録時の熱で上記の樹脂が変形した
り、読み出しを行なう際にノイズが増加することを防ぐ
ことができる。 金属元素を主成分とする上記薄膜は、その熱伝導率が
高過ぎると記録感度が大幅に低下するため、適当な熱伝
導率をもち、かつ上記の変形を防止する効果の高い金属
が望ましい。 記録用薄膜と上記の金属元素を主成分とする薄膜との
間に、中間層を設け、この膜厚を調節することによって
上記の金属元素を主成分とする薄膜への熱伝導をある程
度調節できる。しかし、光の干渉効果を利用して大きな
再生信号を得ために膜厚は制約を受け、実際には調節が
難しい。 上記の金属元素を主成分とする薄膜には、Al,Cu,Agお
よびAuより成る群（Ａ群）より選ばれた少なくとも一者
と、Mg,Si,Ca,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Zn,Zr,Nb,Mo,Rh,Z
r,Pd,,Sn,Sb,Te,Ta,W,Ir,Pt,Pb,BiおよびＣより成る群
（Ｂ群）より選ばれた少なくとも一者とを組合せた合金
を用いる。より好ましくは、金−ニッケル合金（例えば
Au:95％,Ni:5％，で表される合金）、ホワイトゴールド
（例えばAu:75％,Cu:2％,Ni:17％,Zn:6％で表される合
金）で表される合金を用いる。 Ａ群金属の含有量は原子％で５％以上95％以下が好ま
しく20％以上80％以下がより好ましい。また特に、熱伝
導率が230W/m/K以上420W/m/K以下の範囲より成る金属元
素を主成分とするＡ群より選ばれた少なくとも一者と、
熱伝導率が15W/m/K以上170W/m/K以下より成る元素を主
成分するＢ群より選ばれた少なくとも一者を主成分とす
る層を有することが好ましく、Ａ群元素の含有量は原子
％で30％以上98％以下、Ｂ群元素の含有量は原子％で２
％以上70％以下であることが望ましい。さらに、Ａ群元
素およびＢ群元素より成る層の膜厚が10nm以上1000nm以
下であることが望ましい。
上記の金属元素を主成分とする薄膜は、熱伝導率を調
節した合金薄膜であり、上記の記録用ビームの照射によ
って生じる熱を吸収あるいは拡散させるが記録感度の低
下は少ない。また、外力、特に引っ張り力に対して強
い。それによって、再生波形歪みを小さくできるととも
に、上記の樹脂に上記の記録用ビームの照射によって生
ずる変質あるいは変形を防止することができる。 金属元素を主成分とする薄膜は、熱伝導率が500W/m/K
以下の範囲が好ましく、膜厚は50nm以上5000nm以下の範
囲が好ましい。特に、熱伝導率が100W/m/K以上300W/m/K
以下、膜厚が約110nm以上、500nm以下の金属元素を主成
分とする薄膜を用いると、記録感度がほとんど低下せず
に上記の記録用ビームの照射によって生ずる変質あるい
は変形を防止する効果が顕著である。また、合金とした
ことによって熱伝導率を最適化でき、記録感度を大幅に
下げずに膜厚を厚くして変形防止効果を得ることができ
る。熱拡散係数は23m2/sec以上69m2/sec以下が好まし
い。記録膜の膜厚は20nm以上250nm以下の範囲が記録感
度、S/N比などの点で好ましく、中間層の膜厚と合せて
調整することが好ましい。 中間層の膜厚は50nm以上500nm以下の範囲が好まし
い。この層の膜厚は、光の干渉効果を利用して大きな再
生信号を得るために上記記録膜の膜厚と合せて調整する
ことが好ましい。 一般に薄膜に光を照射すると、その反射光は薄膜表面
からの反射光と薄膜裏面からの反射光との重ねあわせに
なるため干渉をおこす。反射率で信号を読み取る場合に
は、上記のそれぞれの膜の膜厚を調整して反射率の値が
小さい条件を満たすことが好ましい。これは、信号読み
だし時のコントラスト比が大きくなり、記録感度も高く
なるからである。 中間層の特に好ましい膜厚範囲は80nm以上200nm以下
の範囲である。記録膜の屈折率と間厚の積は200nm以
上、600nm以下、中間層の屈折率と膜厚の積は150nm以
上、400nm以下の範囲が特に好ましい。ただし、記録膜
については、記録膜の少なくとも一部分の屈折率と膜厚
の積が上記の範囲内にあればよい。これらの屈折率と膜
厚の積の好ましい範囲は、本発明に含まれない低熱伝導
率金属あるいは高熱伝導率金属を主成分とする層を設け
る場合にも有効である。 中間層に使用できる物質は、酸化物、低酸化物、硫化
物、窒化物などであって、たとえば主成分がCeO2,La
2O3,SiO,SiO2,In2O3,Al2O3,GeO,GeO2,PbO,SnO,SnO2,Bi2
O3,TeO2,WO2,WO3,Ta2O5,Sc2O3,Y2O3,TiO2,ZrO2,CdS,Zn
S,CdSe,ZnSe,In2S3,In2Se3,Sb2S3,Sb2Se3,Ga2S3,Ga2S
e3,MgF2,CeF2,CaF2,GeS,GeSe,GeSe2,SnS,SnSe,PbS,PbS
e,Bi2S3,Bi2Se3,TaN,Si3N4,AlN,Si,Ti,B4C,SiC,Bおよび
Ｃのうちの少なくとも一者に近い組成であるものが好ま
しい。 中間層は使用するレーザ光の消衰係数ｋが0.03以上1.
0以下であると、記録感度が高く好ましい。中間層とは
反対側（光入射側）の保護層にも中間層に用いるものに
近い組成の物質を使用できるが、消衰係数は0.1以下が
好ましいので、例えば酸化物の場合、酸素欠陥を少なく
する方がよい。本発明の金属元素を主成分とする薄膜に
近接してさらに上記の中間層に使用可能な材料の層や金
属層を設ければさらに強度が増す。 本発明の金属元素を主成分とする薄膜は、記録膜と基
板との間に形成してもよいし、記録膜の基板とは反対の
側に設けてもよい。 本発明はディスク状記録媒体ばかりでなく、テープ
状、カード状などの記録媒体にも有効である。
節した合金薄膜であり、上記の記録用ビームの照射によ
って生じる熱を吸収あるいは拡散させるが記録感度の低
下は少ない。また、外力、特に引っ張り力に対して強
い。それによって、再生波形歪みを小さくできるととも
に、上記の樹脂に上記の記録用ビームの照射によって生
ずる変質あるいは変形を防止することができる。 金属元素を主成分とする薄膜は、熱伝導率が500W/m/K
以下の範囲が好ましく、膜厚は50nm以上5000nm以下の範
囲が好ましい。特に、熱伝導率が100W/m/K以上300W/m/K
以下、膜厚が約110nm以上、500nm以下の金属元素を主成
分とする薄膜を用いると、記録感度がほとんど低下せず
に上記の記録用ビームの照射によって生ずる変質あるい
は変形を防止する効果が顕著である。また、合金とした
ことによって熱伝導率を最適化でき、記録感度を大幅に
下げずに膜厚を厚くして変形防止効果を得ることができ
る。熱拡散係数は23m2/sec以上69m2/sec以下が好まし
い。記録膜の膜厚は20nm以上250nm以下の範囲が記録感
度、S/N比などの点で好ましく、中間層の膜厚と合せて
調整することが好ましい。 中間層の膜厚は50nm以上500nm以下の範囲が好まし
い。この層の膜厚は、光の干渉効果を利用して大きな再
生信号を得るために上記記録膜の膜厚と合せて調整する
ことが好ましい。 一般に薄膜に光を照射すると、その反射光は薄膜表面
からの反射光と薄膜裏面からの反射光との重ねあわせに
なるため干渉をおこす。反射率で信号を読み取る場合に
は、上記のそれぞれの膜の膜厚を調整して反射率の値が
小さい条件を満たすことが好ましい。これは、信号読み
だし時のコントラスト比が大きくなり、記録感度も高く
なるからである。 中間層の特に好ましい膜厚範囲は80nm以上200nm以下
の範囲である。記録膜の屈折率と間厚の積は200nm以
上、600nm以下、中間層の屈折率と膜厚の積は150nm以
上、400nm以下の範囲が特に好ましい。ただし、記録膜
については、記録膜の少なくとも一部分の屈折率と膜厚
の積が上記の範囲内にあればよい。これらの屈折率と膜
厚の積の好ましい範囲は、本発明に含まれない低熱伝導
率金属あるいは高熱伝導率金属を主成分とする層を設け
る場合にも有効である。 中間層に使用できる物質は、酸化物、低酸化物、硫化
物、窒化物などであって、たとえば主成分がCeO2,La
2O3,SiO,SiO2,In2O3,Al2O3,GeO,GeO2,PbO,SnO,SnO2,Bi2
O3,TeO2,WO2,WO3,Ta2O5,Sc2O3,Y2O3,TiO2,ZrO2,CdS,Zn
S,CdSe,ZnSe,In2S3,In2Se3,Sb2S3,Sb2Se3,Ga2S3,Ga2S
e3,MgF2,CeF2,CaF2,GeS,GeSe,GeSe2,SnS,SnSe,PbS,PbS
e,Bi2S3,Bi2Se3,TaN,Si3N4,AlN,Si,Ti,B4C,SiC,Bおよび
Ｃのうちの少なくとも一者に近い組成であるものが好ま
しい。 中間層は使用するレーザ光の消衰係数ｋが0.03以上1.
0以下であると、記録感度が高く好ましい。中間層とは
反対側（光入射側）の保護層にも中間層に用いるものに
近い組成の物質を使用できるが、消衰係数は0.1以下が
好ましいので、例えば酸化物の場合、酸素欠陥を少なく
する方がよい。本発明の金属元素を主成分とする薄膜に
近接してさらに上記の中間層に使用可能な材料の層や金
属層を設ければさらに強度が増す。 本発明の金属元素を主成分とする薄膜は、記録膜と基
板との間に形成してもよいし、記録膜の基板とは反対の
側に設けてもよい。 本発明はディスク状記録媒体ばかりでなく、テープ
状、カード状などの記録媒体にも有効である。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。 まず、案内溝を有する基板１（ポリカーボネート、直
径130mm、厚さ1.2mm）に、光入射側保護層２（SiO2,厚
さ約200nm）を介して、記録用ビームの照射を受けてほ
とんど変形を伴わないで原子配列変化を生ずるSn−Sb−
Se系情報記録用薄膜３（厚さ約80nm）を形成する。上記
記録用薄膜３に、酸素欠陥を持ったSiO2に近い組成の酸
化物よりなる中間層４（厚さ約100nm）を積層し、さら
に本発明の熱伝導率を調節した金属元素を主成分とする
薄膜５として金合金（Au:95％,Ni:5％で表される合金）
の薄膜（約100nm）を積層した。 その後、紫外線の照射により硬化する樹脂６を用い
て、真空中（約10Pa）で紫外線に約２分間露光し、前記
金属元素を主成分とする薄膜５と保護板７（直径130m
m、厚さ1.2mm）を貼りあわせた。次に、上記の情報記録
用薄膜３に基板１側（紙面上で下方）より記録用レーザ
ビームを照射し、情報の記録を行った。 次に、上記の情報記録用薄膜３に情報を記録した部分
の上記の樹脂６を上記保護板７側（紙面上で上方）より
顕微鏡（×400倍）で観察し変質および変形が生じてい
ないことを確認した。 本実施例の金合金膜の膜厚を変化させたとき、記録に
必要なレーザパワーと100回記録書き換え後の雑音レベ
ルは第１表のように変化した。 上記の上部保護層４をSiO2以外のCeO2,La2O3,SiO,In2
O3,Al2O3,GeO,GeO2,Ta2O5,PbO,SnO,SnO2,Bi2O3,TeO2,WO
2,WO3,Sc2O3,Y2O3,TiO2,ZrO2,CdS,ZnS,CdSe,ZnSe,In
2S3,In2Se3,Sb2S3,Sb2Se3,Ga2S3,Ga2Se3,MgF2,CeF2,CaF
2,GeS,GeSe,GeSe2,SnS,SnSe,PbS,PbSe,Bi2S3,Bi2Se3,Ta
N,Si3N4,AlN,Si,Ti,B4C,SiC,BおよびＣのうちの少なく
とも一者を主成分とするもので置き換えても同様の効果
が得られた。 また、上記の金属元素を主成分とする薄膜５のAuおよ
びNiの少なくとも一方の少なくとも一部を金合金以外の
Al,CuおよびAgより成る群（Ａ群）より選ばれた少なく
とも一者と、Mg,Si,Ca,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Zn,Zr,Nb,
Mo,Rh,Zr,Pd,,Sn,Sb,Te,Ta,W,Ir,Pt,Pb,BiおよびＣより
成る群（Ｂ群）より選ばれた少なくとも一者とを組合せ
た合金で置き換えても同様の特性が得られる。 例えば、Al合金（Al:92％,Mg:8％の合金）、またはCu
合金（Cu:30％,Ni:70％の合金）、あるいはAg合金（Ag:
70％,Pt:30％の合金、Ag:92.5％,Cu:7.5％の合金）で置
き換えても同様の結果が得られた。 本実施例の金合金膜の熱伝導率は約200W/m/Kであっ
た。熱伝導率の異なる材質を用いた場合、記録レーザパ
ワーと再生波形歪みを表わす第二次高調波は第２表のよ
うに変化した。 また、記録膜の非晶質に近い状態の部分の屈折率と膜
厚の積が200nm以上、550nm以下、中間層の屈折率と膜厚
の積が150nm以上、300nm以下の範囲で再生信号CN比46dB
以上が得られた。記録膜の結晶状態の部分の屈折率と膜
厚の積が上記の範囲内に有るようにしても差し支えな
い。中間層を形成しない場合は、記録感度が約20％低下
するが、他の特性に大きな変化は無く、使用可能であっ
た。 第２図に示したように、ガラス基板９上に形成した紫
外線硬化樹脂層８の表面に案内溝を形成し、その上に第
１図のディスクと同様な記録層を順序を逆に（金合金層
から）構成し、保護板と貼り合せずに使用しても、ほぼ
同様な効果が得られた。ただし、この場合はレーザ光は
基板とは反対の側から入射させた。 第３図に示すように、従来は情報の書き換えによって
雑音レベル（図中Ｂ）が10％程度増加するが、本発明の
金属元素を主成分とする薄膜を導入することによって雑
音レベル（図中Ａ）はほとんど変化しないことがわかっ
た。 よって雑音レベル（図中Ｂ）が10％程度増加するが、
本発明の金属元素を主成分とする薄膜を導入することに
よって雑音レベル（図中Ａ）はほとんど変化しないこと
がわかった。
径130mm、厚さ1.2mm）に、光入射側保護層２（SiO2,厚
さ約200nm）を介して、記録用ビームの照射を受けてほ
とんど変形を伴わないで原子配列変化を生ずるSn−Sb−
Se系情報記録用薄膜３（厚さ約80nm）を形成する。上記
記録用薄膜３に、酸素欠陥を持ったSiO2に近い組成の酸
化物よりなる中間層４（厚さ約100nm）を積層し、さら
に本発明の熱伝導率を調節した金属元素を主成分とする
薄膜５として金合金（Au:95％,Ni:5％で表される合金）
の薄膜（約100nm）を積層した。 その後、紫外線の照射により硬化する樹脂６を用い
て、真空中（約10Pa）で紫外線に約２分間露光し、前記
金属元素を主成分とする薄膜５と保護板７（直径130m
m、厚さ1.2mm）を貼りあわせた。次に、上記の情報記録
用薄膜３に基板１側（紙面上で下方）より記録用レーザ
ビームを照射し、情報の記録を行った。 次に、上記の情報記録用薄膜３に情報を記録した部分
の上記の樹脂６を上記保護板７側（紙面上で上方）より
顕微鏡（×400倍）で観察し変質および変形が生じてい
ないことを確認した。 本実施例の金合金膜の膜厚を変化させたとき、記録に
必要なレーザパワーと100回記録書き換え後の雑音レベ
ルは第１表のように変化した。 上記の上部保護層４をSiO2以外のCeO2,La2O3,SiO,In2
O3,Al2O3,GeO,GeO2,Ta2O5,PbO,SnO,SnO2,Bi2O3,TeO2,WO
2,WO3,Sc2O3,Y2O3,TiO2,ZrO2,CdS,ZnS,CdSe,ZnSe,In
2S3,In2Se3,Sb2S3,Sb2Se3,Ga2S3,Ga2Se3,MgF2,CeF2,CaF
2,GeS,GeSe,GeSe2,SnS,SnSe,PbS,PbSe,Bi2S3,Bi2Se3,Ta
N,Si3N4,AlN,Si,Ti,B4C,SiC,BおよびＣのうちの少なく
とも一者を主成分とするもので置き換えても同様の効果
が得られた。 また、上記の金属元素を主成分とする薄膜５のAuおよ
びNiの少なくとも一方の少なくとも一部を金合金以外の
Al,CuおよびAgより成る群（Ａ群）より選ばれた少なく
とも一者と、Mg,Si,Ca,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Zn,Zr,Nb,
Mo,Rh,Zr,Pd,,Sn,Sb,Te,Ta,W,Ir,Pt,Pb,BiおよびＣより
成る群（Ｂ群）より選ばれた少なくとも一者とを組合せ
た合金で置き換えても同様の特性が得られる。 例えば、Al合金（Al:92％,Mg:8％の合金）、またはCu
合金（Cu:30％,Ni:70％の合金）、あるいはAg合金（Ag:
70％,Pt:30％の合金、Ag:92.5％,Cu:7.5％の合金）で置
き換えても同様の結果が得られた。 本実施例の金合金膜の熱伝導率は約200W/m/Kであっ
た。熱伝導率の異なる材質を用いた場合、記録レーザパ
ワーと再生波形歪みを表わす第二次高調波は第２表のよ
うに変化した。 また、記録膜の非晶質に近い状態の部分の屈折率と膜
厚の積が200nm以上、550nm以下、中間層の屈折率と膜厚
の積が150nm以上、300nm以下の範囲で再生信号CN比46dB
以上が得られた。記録膜の結晶状態の部分の屈折率と膜
厚の積が上記の範囲内に有るようにしても差し支えな
い。中間層を形成しない場合は、記録感度が約20％低下
するが、他の特性に大きな変化は無く、使用可能であっ
た。 第２図に示したように、ガラス基板９上に形成した紫
外線硬化樹脂層８の表面に案内溝を形成し、その上に第
１図のディスクと同様な記録層を順序を逆に（金合金層
から）構成し、保護板と貼り合せずに使用しても、ほぼ
同様な効果が得られた。ただし、この場合はレーザ光は
基板とは反対の側から入射させた。 第３図に示すように、従来は情報の書き換えによって
雑音レベル（図中Ｂ）が10％程度増加するが、本発明の
金属元素を主成分とする薄膜を導入することによって雑
音レベル（図中Ａ）はほとんど変化しないことがわかっ
た。 よって雑音レベル（図中Ｂ）が10％程度増加するが、
本発明の金属元素を主成分とする薄膜を導入することに
よって雑音レベル（図中Ａ）はほとんど変化しないこと
がわかった。
【発明の効果】 本発明によれば、レーザ光などの記録用ビームを記録
用薄膜に照射して情報を記録しても、上記記録用ビーム
の照射によって生ずる熱は、上記金属元素を主成分とす
る薄膜によって吸収され、拡散されるため、再生波形歪
みが生じにくいと同時に上記ディスクの貼りあわせに用
いる樹脂に熱が伝播することが少ない。また、金属元素
を主成分とする薄膜が外力（特に張力）に対して強く、
一方、上記保護層は圧力に対して強いので樹脂が変質あ
るいは変形することがない。 本発明は、光磁気記録膜などの他の記録膜を用いた記
録媒体にも適用可能である。
用薄膜に照射して情報を記録しても、上記記録用ビーム
の照射によって生ずる熱は、上記金属元素を主成分とす
る薄膜によって吸収され、拡散されるため、再生波形歪
みが生じにくいと同時に上記ディスクの貼りあわせに用
いる樹脂に熱が伝播することが少ない。また、金属元素
を主成分とする薄膜が外力（特に張力）に対して強く、
一方、上記保護層は圧力に対して強いので樹脂が変質あ
るいは変形することがない。 本発明は、光磁気記録膜などの他の記録膜を用いた記
録媒体にも適用可能である。
第１図は案内溝を有する、基板を用いて本発明の記録用
部材の一実施例の構成を示す断面図、第２図は案内溝を
有する樹脂を設けた基板を用いて本発明の記録用部材の
一実施例の構成を示す断面図、第３図は本発明の記録用
部材による情報の書換え回数に対する雑音レベルの変化
を示す図である。 符号の説明 １……案内溝を有する基板、２……下部保護層、３……
情報記録用薄膜、４……上部保護層、５……金属元素を
主成分とする薄膜、６……樹脂、７……保護板、８……
案内溝を有する樹脂 Ａ……本発明の雑音レベル、Ｂ……従来の雑音レベル
部材の一実施例の構成を示す断面図、第２図は案内溝を
有する樹脂を設けた基板を用いて本発明の記録用部材の
一実施例の構成を示す断面図、第３図は本発明の記録用
部材による情報の書換え回数に対する雑音レベルの変化
を示す図である。 符号の説明 １……案内溝を有する基板、２……下部保護層、３……
情報記録用薄膜、４……上部保護層、５……金属元素を
主成分とする薄膜、６……樹脂、７……保護板、８……
案内溝を有する樹脂 Ａ……本発明の雑音レベル、Ｂ……従来の雑音レベル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西田 哲也 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 宮内 靖 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 田村 礼仁 大阪府茨木市丑寅１丁目１番88号 日立 マクセル株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−187435（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−244423（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−181137（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−214938（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】記録用ビームの照射を受けて変化を生ずる
情報記録用薄膜を有する記録媒体において、上記情報記
録用薄膜に近接して、もしくは上記の情報記録用薄膜に
隣接して形成した無機物および有機物のうち少なくとも
一者からなる保護層に接して、Al,Cu,AgおよびAuより成
るＡ群より選ばれた少なくとも一者と、Ti,V,Fe,Co,Ni,
Zn,Zr,Nb,Mo,Rh,Pd,Sn,Sb,Te,Ta,W,Ir,Pt,Pb,Biおよび
Ｃより成るＢ群より選ばれた少なくとも一者を含有する
層を有することを特徴とする情報記録用部材。 - 【請求項２】熱伝導率が230W/m/K以上420W/m/K以下の範
囲である金属元素を主成分とするＡ群より選ばれた少な
くとも一者と、熱伝導率が15W/m/K以上170W/m/K以下で
ある元素を主成分とするＢ群より選ばれた少なくとも一
者を主成分とする層を有することを特徴とする特許請求
の範囲第１項に記載の情報記録用部材。 - 【請求項３】Ａ群元素の含有量は原子％で30％以上98％
以下、Ｂ群元素の含有量は原子％で２％以上70％以下で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２
項に記載の情報記録用部材。 - 【請求項４】上記の少なくともＡ群元素およびＢ群元素
より成る層の膜厚が10nm以上1000nm以下であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項、第２項または第３項に
記載の記録用部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63281239A JP2749080B2 (ja) | 1988-11-09 | 1988-11-09 | 情報記録用部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63281239A JP2749080B2 (ja) | 1988-11-09 | 1988-11-09 | 情報記録用部材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02128332A JPH02128332A (ja) | 1990-05-16 |
| JP2749080B2 true JP2749080B2 (ja) | 1998-05-13 |
Family
ID=17636300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63281239A Expired - Lifetime JP2749080B2 (ja) | 1988-11-09 | 1988-11-09 | 情報記録用部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2749080B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7027382B2 (en) | 2001-06-26 | 2006-04-11 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium having relation between reflection layer and pit lengths |
| US7245580B2 (en) | 2002-03-07 | 2007-07-17 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium having protective and/or adhesive layers, and method of manufacture |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2670846B2 (ja) * | 1989-04-07 | 1997-10-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 光記録媒体 |
| IT1298758B1 (it) * | 1998-03-19 | 2000-02-02 | Angelini Ricerche Spa | Soluzione umettante e lubrificante per uso oftalmico |
| JP4500945B2 (ja) * | 2003-12-10 | 2010-07-14 | 田中貴金属工業株式会社 | 反射率維持特性に優れた銀合金 |
-
1988
- 1988-11-09 JP JP63281239A patent/JP2749080B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7027382B2 (en) | 2001-06-26 | 2006-04-11 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium having relation between reflection layer and pit lengths |
| US7352680B2 (en) | 2001-06-26 | 2008-04-01 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium having relation between reflection layer and pit length |
| US7245580B2 (en) | 2002-03-07 | 2007-07-17 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium having protective and/or adhesive layers, and method of manufacture |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02128332A (ja) | 1990-05-16 |
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