JP2744131B2 - 波面センサ - Google Patents

波面センサ

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JP2744131B2 JP3503693A JP50369391A JP2744131B2 JP 2744131 B2 JP2744131 B2 JP 2744131B2 JP 3503693 A JP3503693 A JP 3503693A JP 50369391 A JP50369391 A JP 50369391A JP 2744131 B2 JP2744131 B2 JP 2744131B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は波面センサに関する。
公知の波面センサは干渉またはホログラフィーによっ
て作動する。この波面センサは温度変化のような環境因
子に対して敏感である。
例えばドイツ連邦共和国特許出願公開第3318293 A1号
明細書によって知られているハルトマン(Hartmann)の
対物レンズ検査は、一つまたは複数の光線でアパーチャ
を走査する。この光線は1個または複数のピンホールを
有する可動のピンホール絞りによって遮られる。対物レ
ンズ検査は位置に敏感な検出器、特に焦点面の前または
後ろに設けた写真フィルムを使用する。多くのピンホー
ルの場合には(ドイツ連邦共和国特許出願公開第331829
3A1号明細書)、個々のピンホールに関して信号が分離
および受け取られるように、検出器が配置および形成さ
れている。
1978年ワイリー ニューヨークのD.MalacaraのOptica
l Shop Testingの第10章I.GhozeilのHartmann and Othe
r Screen Tests 323頁以降には、変形されたハルトマン
試験と評価理論が記載してある。
アダマール(Hadamard)の符号マトリックスを有する
光学式多重方法は、分光系と画像解析装置について、19
79年アカデミック プレス ニューヨークのM.Hewitt,
N.J.A.SloaneのHadamard Transform Opticsに記載され
ている。それによって、大幅なノイズ抑制が達成可能で
ある。
本発明の課題は、効率的で丈夫でノイズの少ない波面
センサを提供することである。このセンサにより、波面
の振幅と位相が測定可能である。更に、波の遠方界を測
定することができる。
この課題は、波面センサが集束する光学系と、符号化
されて配置され、同時に光線路内にある多数のピンホー
ルを有するピンホール絞りと、ピンホール絞りを歩進さ
せるための装置とを備え、この装置により、符号化され
て配置された多数の異なるピンホールが順々に光線路内
に位置し、光線路の横断面全体が、符号化されて配置さ
れた異なるピンホールによって何度も走査され、更に、
波面センサが光学系の焦点面の近くに設けられた位置を
解明する光検出器を備え、この光検出器が光点のその都
度の位置と強さを測定し、この光点がピンホールから出
る多数の光線束の重なりによって生じ、それによって多
重作用が発生し、更に、波面センサが記憶および計算ユ
ニットを備え、このユニットが、ピンホールの配置の符
号を用いて、光検出器によって測定された位置と強さの
値を、波面の位相と振幅に変換することによって解決さ
れる。
有利な発展形と変形は請求の範囲第2〜13項の対象で
ある。
図面を用いて本発明を説明する。
第1図は波面センサの全体構造を概略的に示す図、 第2図はテレセントリック光学系とピンホール絞りの
支持体としての回転するディスクを備えた変形例を示す
図、 第3図は半径方向にピンホールを配置した循環的なア
ダマール−コードによるピンホール絞りを有するディス
クを示す図、 第4図は符号化された長方形の範囲を形成するピンホ
ールを有するディスクを示す図である。
第1図に示した波面センサは、簡単な収束レンズとし
て示した高度補正式の集束する光学系1と、ピンホール
絞り2と、焦点面4(レンズ主面から間隔f)に設けら
れた位置を高度に解明する光検出器41を含んでいる。こ
のピンホール絞りは波面31に対応する平行な光線路3内
に、符号化して配置された多数のピンホール21を備えて
いる。
ピンホール21を通過する光線束32は波面31の擾乱に依
存して、仮想焦点からずれた位置に、その実焦点を有す
る。しかし、光線束は検出器41で重なって光点33を生じ
る。検出器41は、ピンホール絞り2を取り除いたときに
生じる光点全体を完全に検出できるような大きさに選定
されている。それによって、多重作用とそれに関連する
ノイズ抑制作用が生じる。適切な検出器41は4×4mm2
の検出器面を有し、光点33の強さ中心のためのナノメー
タ範囲の位置分解能を有するSiTEK 2L4タイプの横検出
器(lateral detector)である。
ピンホール絞り2は歩進のための装置22に連結されて
いる。この装置は光線路3内へのピンホール21のいろい
ろな符号化した配置を行う。
これは、光線路3の全横断面積のすべてのスクリーン
点が異なる他のスクリーン点と何度も組合わせられて走
査されるように繰り返される。
光検出器41と装置22は記憶および計算ユニット5に接
続されている。この記憶および計算ユニットはピンホー
ル21の配置の符号を使用して、光検出器41によって測定
された位置と強さの値を、波面の位相と振幅に変換す
る。
符号としては特に周期的なアダマール(Hadamard)符
号が適している。
位置と強さの値を波面の位相と振幅に変換すること、
例えば前記のM.Hewitt,N.J.A.Sloaneによって知られて
いるアルゴリズムによって、多重分解ステップを行うこ
とにより達成可能である。この多重分解ステップは、ピ
ンホール絞りの各々のスクリーン要素のために、個々に
生じる、位置と強さの個々の光点を決定する。それによ
って、前記のD.Malacara,I.Ghozeilによって知られてい
る理論に従って、波面に関する位相と振幅の分布が決ま
る。
第2図は変形を示している。例えば100mmの大きな直
径の波面を測定するために、集束する光学系1はテレセ
ントリックレンズ系12を含んでいる。このレンズ系は、
ピンホール絞り2を収束レンズ11の手前に配置すること
により、光線路3を、横断面34が縮小した平行な光線束
に変換する。ピンホール絞り2はディスク20に設けられ
ている。このディスクはステップモータ221によって回
転させられる。縮小した横断面34は例えば8mmの直径を
有し、スクリーン寸法1mmに直径0.8mmのピンホール21を
有する8×8のスクリーンによって横断面が走査され
る。
波面31の相対的なひずみを測定するために、センサ41
の位置とピンホール絞りの安定性を特別良好に知る必要
はない。なぜなら、これらが求められるからである。従
って、回転するディスクはレンズ系に対して振動を緩衝
するよう懸吊可能であるので、光検出器41の位置分解能
が、ディスク駆動装置22,221の振動によって悪影響を受
けることがない。装置は温度や圧力の変化に対しても敏
感でない。
第3a)図は第3b)図によるディスクの部分詳細図であ
る。このディスクは8個の符号列でピンホール21を半径
方向に配置した、周期的なアダマール符号によるピンホ
ール絞り2と、半径方向に配置されが符号隙間の8個の
ステップ周期202を備えている。ステップモータ221はデ
ィスク20を駆動し、ピンホール絞り2と同じステップ角
度1.44度を有する。
測定のためにその都度このような角度ステップだけ回
転が続けられる。
第4図は代替ディスク20を示している。このディスク
のピンホール絞り2はピンホール21によって符号化され
た長方形の範囲203を形成している。この範囲は接線方
向に配置され、光線路3内に順々に回転させられる。こ
の場合、走査点の対称的な分配が波面31にわたって達成
可能である。
上記のような波面センサにより、数秒の測定時間内
で、波長の個々の%に個々のミリワットの光出力を有す
る、100mmまでの丸い波面31を正確に測定可能である。
光学系1による波の不可避の擾乱は、その影響を測定
することによって補正可能である。そのために、同じ出
願人の同日特許出願(A2332)の“光学系または要素を
検査する方法および装置”が適している。
ピンホール絞り2は収束する光線路内に、例えばレン
ズ11と検出器41の間に配置してもよい。
ピンホール絞り2が例えばLCD技術の電気光学的なシ
ャッターマトリックスとして形成されているときには、
機械的に動く部品を省略することができる。
本発明の変形は特に、請求の範囲の個々の請求項の特
徴をいろいろ組み合わせることによって可能である。

Claims (13)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】集束する光学系(1)と、 符号化されて配置され、同時に光線路(3)内にある多
    数のピンホール(21)を有するピンホール絞り(2)
    と、 ピンホール絞り(2)を歩進させるための装置(22)と
    を備え、この装置により、符号化されて配置された多数
    の異なるピンホール(21)が順々に光線路(3)内に位
    置し、光線路(3)の横断面全体が、符号化されて配置
    された異なるピンホール(21)によって何度も走査さ
    れ、 更に、光学系(1)の焦点面(4)の近くに設けられた
    位置を解明する光検出器(41)を備え、この光検出器が
    光点(33)のその都度の位置と強さを測定し、この光点
    がピンホール(21)から出る多数の光線束(32)の重な
    りによって生じ、 更に、記憶および計算ユニット(5)を備え、このユニ
    ットが、ピンホール(21)の配置の符号を用いて、光検
    出器(41)によって測定された位置と強さの値を、波面
    の位相と振幅に変換することを特徴とする波面センサ。
  2. 【請求項2】ピンホール絞り(2)の符号がアダマール
    符号であることを特徴とする請求の範囲第1項記載の波
    面センサ。
  3. 【請求項3】ピンホール絞り(2)の符号が周期的なア
    ダマール符号であることを特徴とする請求の範囲第2項
    記載の波面センサ。
  4. 【請求項4】ピンホール絞り(2)がディスク(20)に
    取付けられ、ディスク(20)の回転によって歩進的に進
    むことを特徴とする請求の範囲第1項記載の波面セン
    サ。
  5. 【請求項5】ピンホール絞り(2)がディスク(20)に
    取付けられ、ディスク(20)の回転によって歩進的に進
    むこと、及び、ピンホール(21)が半径方向に符号化さ
    れて設けられ、回転駆動がステップモータ(21)によっ
    て行われることを特徴とする請求の範囲第3項記載の波
    面センサ。
  6. 【請求項6】ピンホール絞り(2)がディスク(20)に
    取付けられ、ディスク(20)の回転によって歩進的に進
    むこと、及び、ピンホール(21)が符号化された長方形
    の範囲(203)に設けられ、この範囲がピンホール絞り
    (2)の光線路(3)の直径を有し、多数のこのような
    範囲(203)が、ディスク(20)上に接線方向に配置さ
    れ、範囲(203)が順々に光線路(3)内に入ることを
    特徴とする請求の範囲第2項記載の波面センサ。
  7. 【請求項7】光検出器(41)が焦点面(4)内に配置さ
    れていることを特徴とする請求の範囲第1項記載の波面
    センサ。
  8. 【請求項8】光検出器(41)がナノメータ範囲の位置分
    解能を有する横検出器であることを特徴とする請求の範
    囲第1項記載の波面センサ。
  9. 【請求項9】ピンホール絞り(2)が平行な光線路内に
    配置されていることを特徴とする請求の範囲第1項記載
    の波面センサ。
  10. 【請求項10】ピンホール絞り(2)が収束する光線路
    内に配置されていることを特徴とする請求の範囲第1項
    記載の波面センサ。
  11. 【請求項11】ピンホール絞り(2)が集束光学系
    (1)の手前に取付けられていることを特徴とする請求
    の範囲第1項記載の波面センサ。
  12. 【請求項12】集束光学系(1)がテレセントリックレ
    ンズ系(12)を含み、このテレセントリックレンズ系が
    波面の横断面積を小さくし、ピンホール絞り(2)が集
    束光学系(1)内で、横断面(34)を縮小した平行な光
    線路内に配置されていることを特徴とする請求の範囲第
    1項記載の波面センサ。
  13. 【請求項13】ピンホール絞り(2)が電気光学的なシ
    ャッターマトリックスとして形成され、歩進が電子的な
    制御によって行われることを特徴とする請求の範囲第1
    項記載の波面センサ。
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Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19516017C1 (de) * 1995-05-02 1996-09-19 Leica Ag Verfahren zur Kompensation von Wellenfrontdeformationen
JPH0915057A (ja) * 1995-06-26 1997-01-17 Mitsubishi Electric Corp 波面センサ並びに波面計測方法
US7006132B2 (en) * 1998-02-25 2006-02-28 California Institute Of Technology Aperture coded camera for three dimensional imaging
US7612870B2 (en) 1998-02-25 2009-11-03 California Institute Of Technology Single-lens aperture-coded camera for three dimensional imaging in small volumes
DE19813558C2 (de) * 1998-03-27 2000-10-26 Inst Physikalische Hochtech Ev Anordnung zur Ortsauflösungserhöhung von Strahlungsdetektoren
JP3431828B2 (ja) * 1998-04-09 2003-07-28 三菱電機株式会社 波面センサー
DE19861105A1 (de) * 1998-05-12 2000-03-09 Inst Physikalische Hochtech Ev Mikrospaltzeile, insbesondere für Spektrometer
US6819414B1 (en) 1998-05-19 2004-11-16 Nikon Corporation Aberration measuring apparatus, aberration measuring method, projection exposure apparatus having the same measuring apparatus, device manufacturing method using the same measuring method, and exposure method
SE517120C2 (sv) * 1999-01-05 2002-04-16 Fredrik Bergholm Plenoptisk anordning för fokusering i strålgång, samt metod och användning av densamma
DE19919020C1 (de) * 1999-04-27 2001-01-25 Karsten Buse Verfahren und Vorrichtung zur Analyse und Aufzeichnung von Lichtwellen
US6184974B1 (en) * 1999-07-01 2001-02-06 Wavefront Sciences, Inc. Apparatus and method for evaluating a target larger than a measuring aperture of a sensor
DE10014334C2 (de) 2000-03-24 2002-03-21 Zeiss Carl Vorrichtung und Verfahren zur ortsaufgelösten Brechkraft-Bestimmung
US6548797B1 (en) 2000-10-20 2003-04-15 Nikon Corporation Apparatus and method for measuring a wavefront using a screen with apertures adjacent to a multi-lens array
DE10128529A1 (de) * 2001-06-13 2002-12-19 Laser Lab Goettingen Ev Verfahren zur gleichzeitigen Messung der Intensitäts-, Wellenfront- und Richtungsverteilungen von paraxialen optischen Strahlungsfeldern
US7556378B1 (en) 2003-04-10 2009-07-07 Tsontcho Ianchulev Intraoperative estimation of intraocular lens power
JP4972546B2 (ja) 2004-04-20 2012-07-11 ウェーブテック・ビジョン・システムズ・インコーポレイテッド 一体化した手術用顕微鏡および波面センサ
GB0510470D0 (en) 2005-05-23 2005-06-29 Qinetiq Ltd Coded aperture imaging system
GB0602380D0 (en) 2006-02-06 2006-03-15 Qinetiq Ltd Imaging system
GB2434936A (en) * 2006-02-06 2007-08-08 Qinetiq Ltd Imaging system having plural distinct coded aperture arrays at different mask locations
GB2434935A (en) 2006-02-06 2007-08-08 Qinetiq Ltd Coded aperture imager using reference object to form decoding pattern
GB2434877A (en) 2006-02-06 2007-08-08 Qinetiq Ltd MOEMS optical modulator
GB2434937A (en) * 2006-02-06 2007-08-08 Qinetiq Ltd Coded aperture imaging apparatus performing image enhancement
GB2434934A (en) 2006-02-06 2007-08-08 Qinetiq Ltd Processing coded aperture image data by applying weightings to aperture functions and data frames
DE102007003681B4 (de) 2006-02-10 2017-11-30 Hochschule Bremen Verfahren und Vorrichtung zur Analyse einer optischen Einrichtung
GB0615040D0 (en) * 2006-07-28 2006-09-06 Qinetiq Ltd Processing method for coded apperture sensor
DE102007029923A1 (de) * 2007-06-28 2009-01-02 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zur Wellenfrontvermessung von Laserstrahlung
DE102007043390B4 (de) 2007-09-12 2018-08-30 Uvex Arbeitsschutz Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Schutzbrillen mit einer optisch nicht korrigierenden Sichtscheibe und danach hergestellte Schutzbrille
US7594729B2 (en) 2007-10-31 2009-09-29 Wf Systems, Llc Wavefront sensor
US8550624B2 (en) 2008-11-06 2013-10-08 Wavetec Vision Systems, Inc. Optical angular measurement system for ophthalmic applications and method for positioning of a toric intraocular lens with increased accuracy
GB0822281D0 (en) * 2008-12-06 2009-01-14 Qinetiq Ltd Optically diverse coded aperture imaging
US8876290B2 (en) * 2009-07-06 2014-11-04 Wavetec Vision Systems, Inc. Objective quality metric for ocular wavefront measurements
ES2653970T3 (es) * 2009-07-14 2018-02-09 Wavetec Vision Systems, Inc. Determinación de la posición efectiva de la lente de una lente intraocular utilizando potencia refractiva afáquica
CN102497833B (zh) 2009-07-14 2014-12-03 波技术视觉系统公司 眼科手术测量系统
CN101726366B (zh) * 2009-12-02 2011-11-23 山东师范大学 一种基于多针孔板的波前测量方法和装置
US9072462B2 (en) 2012-09-27 2015-07-07 Wavetec Vision Systems, Inc. Geometric optical power measurement device
DE102013209461B3 (de) * 2013-05-22 2014-06-05 BIAS - Bremer Institut für angewandte Strahltechnik GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Vermessung eines optischen Wellenfelds
DE102014010667B4 (de) 2014-07-18 2017-07-13 Berliner Glas Kgaa Herbert Kubatz Gmbh & Co Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Form einer Wellenfront eines optischen Strahlungsfeldes
CN104501972B (zh) * 2015-01-15 2017-09-12 中国科学院光电技术研究所 一种复合型夏克‑哈特曼波前传感器
WO2016141333A1 (en) 2015-03-05 2016-09-09 Eyenetra, Inc. Methods and apparatus for small aperture lensometer
CN112629680B (zh) * 2020-12-07 2022-04-08 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于夏克-哈特曼波前传感的航空相机检焦装置及方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4141652A (en) * 1977-11-25 1979-02-27 Adaptive Optics Associates, Inc. Sensor system for detecting wavefront distortion in a return beam of light
US4490039A (en) * 1980-12-12 1984-12-25 United Technologies Corporation Wave front sensor
US4441019A (en) * 1982-01-28 1984-04-03 Itek Corporation Wavefront sensor with astigmatic optics
US4438330A (en) * 1982-03-01 1984-03-20 Itek Corporation Wavefront sensor employing a modulation reticle
JPS58205834A (ja) * 1982-05-25 1983-11-30 Canon Inc 収差測定方法
US4547662A (en) * 1983-03-16 1985-10-15 United Technologies Corporation Noninterference optical error sensing system
US4725138A (en) * 1985-05-22 1988-02-16 Adaptive Optics Associates Incorporated Optical wavefront sensing system
DE3706271A1 (de) * 1987-02-26 1988-09-08 Erwin Strigl Vorrichtung zum messen des intensitaetsprofils eines laserstrahls
US4824243A (en) * 1987-05-26 1989-04-25 Hughes Aircraft Company Compact continuous wave wavefront sensor
USH615H (en) * 1988-01-22 1989-04-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force High speed/low light wavefront sensor system

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