JP2724079B2 - 半導体素子収納用パッケージ - Google Patents

半導体素子収納用パッケージ

Info

Publication number
JP2724079B2
JP2724079B2 JP4267295A JP26729592A JP2724079B2 JP 2724079 B2 JP2724079 B2 JP 2724079B2 JP 4267295 A JP4267295 A JP 4267295A JP 26729592 A JP26729592 A JP 26729592A JP 2724079 B2 JP2724079 B2 JP 2724079B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
resin
semiconductor element
epoxy resin
insulating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP4267295A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06120362A (ja
Inventor
信康 合田
修一 新地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP4267295A priority Critical patent/JP2724079B2/ja
Publication of JPH06120362A publication Critical patent/JPH06120362A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2724079B2 publication Critical patent/JP2724079B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71

Landscapes

  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子を収容する
ための半導体素子収納用パッケージの改良に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体素子を収容するための半導
体素子収納用パッケージは、アルミナセラミックス等の
電気絶縁材料から成り、その上面略中央部に半導体素子
が搭載される搭載部を有する絶縁基体と、同じく電気絶
縁材料から成り、前記絶縁基体の半導体素子搭載部を囲
繞するように中央部に開口を有する絶縁枠体と、内部に
収容する半導体素子を外部電気回路に電気的に接続する
ための複数個の外部リード端子とから構成されており、
絶縁基体の上面外周部及び絶縁枠体の下面外周部に、ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂にアミン系硬化剤と
溶剤を添加した樹脂ペーストをスクリーン印刷法を用い
て印刷塗布するとともにこれを約80℃の温度に加熱しペ
ースト中の溶剤を気散させて絶縁基体及び絶縁枠体に樹
脂製接着剤を予め被着させ、次に前記絶縁基体の樹脂製
接着剤上に外部リード端子を載置するとともにこれを約
150℃の温度に加熱し、外部リード端子を樹脂製接着
剤を介して絶縁基体の上面に固定させ、しかる後、前記
外部リード端子が固定された絶縁基体の上面に絶縁枠体
を該絶縁枠体に予め被着させた樹脂製接着剤が外部リー
ド端子側となるようにして載置させるとともに絶縁枠体
の下面に被着させた樹脂製接着剤を約150℃の温度で
熱硬化させ、外部リード端子が固定されている絶縁基体
と絶縁枠体とを接着固定することによって製作されてい
る。
【0003】かかる従来の半導体素子収納用パッケージ
は絶縁枠体の開口内に位置する絶縁基体の半導体素子搭
載部に半導体素子を固定するとともに該半導体素子の各
電極をボンディングワイヤを介して外部リード端子に接
続させ、しかる後、絶縁枠体の開口内にエポキシ樹脂等
の充填材を充填し、半導体素子を気密に封止することに
よって最終製品としての半導体装置となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の半導体素子収納用パッケージにおいては、絶縁基体
の上面外周部及び絶縁枠体の下面外周部に予め被着させ
ておく樹脂製接着剤がクレゾールノボラック型エポキシ
樹脂にアミン系硬化剤を含有させたものから成り、該ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂にアミン系硬化剤を
含有させたものは粘性が高くそのままでは絶縁基体の上
面及び絶縁枠体の下面にスクリーン印刷法により印刷塗
布することができないことから、絶縁基体の上面及び絶
縁枠体の下面に樹脂性接着剤を被着させる際にはまずク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂にメチルエチルケト
ンやトルエン等から成る溶剤を添加し、樹脂の粘性を下
げ、次にこれをスクリーン印刷法により絶縁基体の上面
及び絶縁枠体の下面にスクリーン印刷法により印刷塗布
し、最後に前記樹脂を約80℃の温度で約8時間程度乾
燥し、樹脂より溶剤を完全に気散させることによって行
わなければならず絶縁基体及び絶縁枠体に樹脂製接着剤
を被着させるのに長時間を要し、生産性が極めて悪く、
製品としての半導体素子収納用パッケージを高価とする
欠点を有していた。
【0005】
【目的】本発明は上記欠点に鑑み案出されたもので、そ
の目的は絶縁基体及び絶縁枠体に樹脂性接着剤を短時間
で被着させるのを可能とし、生産性が良く、安価な半導
体素子収納用パッケージを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は半導体素子が搭
載される搭載部を有する絶縁基体と、前記搭載部を囲繞
し、内部に半導体素子を収容する空所を形成する絶縁枠
体とを、その間に外部リード端子を挟んで樹脂製接着剤
を介し接着して成る半導体素子収納用パッケージであっ
て、前記樹脂製接着剤をビスフェノールA型エポキシ樹
脂60乃至80重量%とノボラック型エポキシ樹脂20乃至40
重量%から成るエポキシ樹脂100 重量%に対し、粒径1
乃至50μm のシリカ粉末を200 乃至400 重量%、粒径0.
5 μm 以下のシリカ粉末を1.5 乃至15重量%、イミダゾ
ール系硬化剤を10乃至40重量%添加したもので形成した
ことを特徴とするものである。
【0007】
【実施例】次に本発明を添付図面に基づき詳細に説明す
る。図1は、本発明の半導体素子収納用パッケージの一
実施例を示し、1は酸化アルミニウム質焼結体、窒化ア
ルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、炭化珪素質焼
結体、ガラスセラミックス焼結体等の電気絶縁材料から
成る絶縁基体、2は同じく電気絶縁材料から成る絶縁枠
体である。
【0008】前記絶縁基体1 はその上面略中央部に半導
体素子3 を搭載するための搭載部1aを有しており、該搭
載部1aには半導体素子3 が樹脂等から成る接着剤を介し
て接着固定される。
【0009】前記絶縁基体1は、例えば窒化アルミニウ
ム質セラミックスから成る場合、窒化アルミニウム粉
末、イットリア粉末等の原料粉末を絶縁基体1に対応し
た形状を有するプレス型内に充填するとともに一定圧力
を印加して成形し、しかる後、前記成形体を約1800℃の
温度で焼成することによって製作される。
【0010】また、前記絶縁基体1の上面には外部リー
ド端子4 を間に挟んで絶縁枠体2 が樹脂性接着剤5 を介
し接着固定されている。
【0011】前記絶縁枠体2 はその上面中央部に開口A
が形成されており、絶縁基体1の半導体素子が固定され
る搭載部1aを囲繞するような枠状となっている。この絶
縁枠体2 はその中央部の開口Aと絶縁基体1上面とで半
導体素子3 を内部に収容するための空所を形成する。
【0012】前記絶縁枠体2 は酸化アルミニウム質焼結
体、窒化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、炭
化珪素質焼結体、ガラスセラミックス焼結体等の電気絶
縁材料から成り、前述の絶縁基体1 と同様の方法、具体
的には窒化アルミニウム粉末、イットリア粉末等の原料
粉末を絶縁枠体2 に対応した形状を有するプレス型内に
充填するとともに一定圧力を印加して成形し、しかる
後、前記成形体を約1800℃の温度で焼成することによっ
て製作される。
【0013】前記絶縁基体1 と絶縁枠体2 との間にはま
た外部リード端子4 が挟持されており、該外部リード端
子4 の一端には半導体素子3 の各電極がボンディングワ
イヤ6 を介して電気的に接続され、また他端側には外部
電気回路に電気的に接続される。
【0014】前記外部リード端子4 はコバール金属( 鉄
ーニッケルーコバルト合金) 、42アロイ( 鉄ーニッケル
合金) 等の鉄合金や銅、ニッケル、硅素、亜鉛等から成
る銅合金から成り、例えばコバール金属のインゴット(
塊) を圧延加工法や打ち抜き加工法等、従来周知の金属
加工法を採用することによって所定の板状に形成され
る。
【0015】尚、前記外部リード端子4 はその表面に
銀、アルミニウム等がメッキや蒸着、クラッド法により
0.5 乃至20.0μm の厚みに被着されており、外部リード
端子4に対するボンディングワイヤ5 の接合が強固なも
のとなるようになっている。
【0016】また前記外部リード端子4 は絶縁基体1 及
び絶縁枠体2 に樹脂性接着剤5 を介して接着固定されて
おり、該樹脂製接着剤5 はビスフェノールA型エポキシ
樹脂60乃至80重量%とノボラック型エポキシ樹脂20乃至
40重量%から成るエポキシ樹脂100 重量%に対し、粒径
1 乃至50μm のシリカ粉末を200 乃至400 重量%、粒径
0.5 μm 以下のシリカ粉末を1.5 乃至15重量%、イミダ
ゾール系硬化剤を10乃至40重量%添加したもので形成さ
れている。
【0017】前記樹脂製接着剤5 介して絶縁基体1 と絶
縁枠体2 との間に外部リード端子4を接着させるには、
まず、絶縁基体1 の上面外周部にビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂60乃至80重量%とノボラック型エポキシ樹脂
20乃至40重量%から成るエポキシ樹脂100 重量%に対
し、粒径1 乃至50μm のシリカ粉末を200 乃至400 重量
%、粒径0.5 μm 以下のシリカ粉末を1.5 乃至15重量
%、イミダゾール系硬化剤を10乃至40重量%添加した樹
脂ペーストをスクリーン印刷法を用いて印刷塗布し、次
に前記絶縁基体1 の上面に外部リード端子4 を載置させ
るとともにこれを約150 ℃の温度に加熱し、樹脂ペース
トを熱硬化させることによって絶縁基体1 の上面に外部
リード端子4 を固定し、次に絶縁枠体2 の下面に同じ
く、ビスフェノールA型エポキシ樹脂60乃至80重量%と
ノボラック型エポキシ樹脂20乃至40重量%から成るエポ
キシ樹脂100 重量%に対し、粒径1 乃至50μm のシリカ
粉末を200 乃至400 重量%、粒径0.5 μm 以下のシリカ
粉末を1.5 乃至15重量%、イミダゾール系硬化剤を10乃
至40重量%添加した樹脂ペーストをスクリーン印刷法を
用いて印刷塗布するとともにこれを前記外部リード端子
4 が固定された絶縁基体1の上面に載置し、しかる後、
絶縁枠体2 の下面に塗布した樹脂ペーストを約150℃の
温度で熱硬化させることによって行われる。この場合、
絶縁基体1 の下面及び絶縁枠体2 の下面に被着される樹
脂製接着剤5 はその内部に粘度を下げるための溶剤が添
加されていないため絶縁基体1 の下面及び絶縁枠体2 の
上面にスクリーン印刷を用いて印刷塗布した後、溶剤を
気散させるために約80℃の温度で長時間乾燥する必要は
一切なく、短時間で絶縁基体1 及び絶縁枠体2 に被着さ
せることができる。
【0018】尚、前記樹脂製接着剤5 はビスフェノール
A型エポキシ樹脂及びノボラック型エポキシ樹脂が主成
分を構成し、ビスフェノールA型エポキシ樹脂の量が80
重量%を越え、ノボラック型エポキシ樹脂の量が20重量
%未満であると樹脂製接着剤5 の粘度が低くなり過ぎ、
絶縁基体1 及び絶縁枠体2 にスクリーン印刷法を採用す
ることによって被着させる際、樹脂製接着剤が流れて所
定厚みに被着させることが困難となり、またビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂の量が60重量%未満、ノボラック
型エポキシ樹脂の量が40重量%を越えると樹脂製接着剤
5 の粘性が高くなり、樹脂製接着剤5 を絶縁基体1 及び
絶縁枠体2 にスクリーン印刷法により被着させるのが困
難となる。従って、樹脂製接着剤5 は主成分としてのビ
スフェノールA型エポキシ樹脂が60乃至80重量%に、ま
たノボラック型エポキシ樹脂は20乃至40重量%の範囲に
特定される。
【0019】また前記樹脂製接着剤5 の主成分であるビ
スフェノールA型エポキシ樹脂及びノボラック型エポキ
シ樹脂から成るエポキシ樹脂には、樹脂100 重量%に対
し、粒径1 乃至5 μm のシリカ粉末が200 乃至400 重量
%、粒径0.5 μm 以下のシリカ粉末が1.5 乃至15重量%
添加されている。
【0020】前記粒径1 乃至5 μm のシリカ粉末は主成
分としてのエポキシ樹脂の熱膨張係数を制御するととも
に耐湿性を改善する成分であり、その添加量が200 重量
%未満であると前記性質は付与されず、また400 重量%
を越えると樹脂製接着剤5 の粘性が高くなり、絶縁基体
1 及び絶縁枠体2 にスクリーン印刷法により被着させる
のが困難となる。従って、前記粒径1 乃至5 μm のシリ
カ粉末の添加量は主成分としてのエポキシ樹脂に対し20
0 乃至400 重量%の範囲に特定される。
【0021】また前記粒径0.5 μm 以下のシリカ粉末は
主成分としてのエポキシ樹脂の耐湿性を改善するととも
に樹脂製接着剤5 のチキソトロピーを高める作用を為
し、その添加量が1.5 重量%未満であれば前記性質は付
与されず、また15重量%を越えると樹脂製接着剤5 の粘
性が高くなり、絶縁基体1 及び絶縁枠体2 にスクリーン
印刷法により被着させるのが困難となる。従って、前記
粒径0.5 μm のシリカ粉末の添加量は主成分としてのエ
ポキシ樹脂に対し1.5 乃至15重量%の範囲に特定され
る。
【0022】更に前記樹脂製接着剤5 にはイミダゾール
系の硬化剤が添加されており、該イミダゾール系硬化剤
はビスフェノールA型エポキシ樹脂及びノボラック型エ
ポキシ樹脂から成るエポキシ樹脂を短時間で硬化させる
作用を為し、その添加量が10重量%未満であれば前記性
質は付与されず、また40重量%を越えると樹脂製接着剤
5 の硬化が進み過ぎ、樹脂製接着剤5 の機械的強度が大
きく劣化してしまう。
【0023】従って、前記イミダゾール系硬化剤の添加
量はビスフェノールA型エポキシ樹脂及びノボラック型
エポキシ樹脂から成るエポキシ樹脂に対し、10乃至40重
量%の範囲に特定される。
【0024】かくして、本発明の半導体素子収納用パッ
ケージによれば、絶縁基体1 の半導体素子搭載部1aに半
導体素子3 を接着剤を介して固定するとともに該半導体
素子3 の各電極をボンディングワイヤ6 を介して外部リ
ード端子4 に接続し、最後に絶縁枠体2 の開口A内に樹
脂充填剤7 を充填させ、半導体素子3 を気密に封止する
ことによって最終製品としての半導体装置となる。
【0025】前記半導体素子3 を気密に封止するための
樹脂充填剤7 は例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド、フ
ェノール樹脂、シリコーン等の樹脂が使用され、絶縁枠
体2の開口A内にエポキシ樹脂等の樹脂ペーストを充填
させるとともにこれを約150℃の温度で熱硬化させる
ことによって絶縁枠体2の開口A内に半導体素子3 を気
密封止するようにして配される。
【0026】また前記樹脂充填剤7 はその内部に粒径
0.1〜10.0μmの酸化硅素、酸化アルミニウム、
窒化アルミニウム、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム
等の絶縁物粉末から成るフィラーを樹脂100重量部に
対して50〜400重量部分散させておくと樹脂充填剤
7 の透湿性を向上させ、内部に収容する半導体素子を外
部環境からより強固に守ることができる。従って前記樹
脂充填剤7 には粒径0.1〜10.0μmの酸化硅素、
酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、炭酸カルシウ
ム、酸化マグネシウム等酸化硅素等の絶縁物粉末から成
るフィラーを樹脂100重量に対して50〜400重量
部分散させておくことが好ましい。
【0027】更に必要であれば、樹脂充填剤7 にカーボ
ンブラック等の着色剤を含有させ、樹脂充填剤7 を着色
しておいてもよい。
【0028】尚、本発明は上述の実施例に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種
々の変更は可能である。
【0029】
【発明の効果】本発明の半導体素子収納用パッケージに
よれば絶縁基体と絶縁枠体との間外部リード端子を挟ん
で接着固定する樹脂製接着剤をビスフェノールA型エポ
キシ樹脂60乃至80重量%とノボラック型エポキシ樹脂20
乃至40重量%から成るエポキシ樹脂100 重量%に対し、
粒径1 乃至50μm のシリカ粉末を200 乃至400 重量%、
粒径0.5 μm 以下のシリカ粉末を1.5 乃至15重量%、イ
ミダゾール系硬化剤を10乃至40重量%添加したもので形
成したことから、樹脂製接着剤を絶縁基体の上面及び絶
縁枠体の下面にスクリーン印刷法により簡単に所定厚み
に被着させることができ、絶縁基体及び絶縁枠体への樹
脂製接着剤の被着が短時間で簡単に行え、その結果、製
品としての半導体素子収納用パッケージの生産性が大き
く向上し、安価となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体素子収納用パッケージの一実施
例を示す断面図である。
【符号の説明】
1・・・・・・・絶縁基体 1a・・・・・・半導体素子搭載部 2・・・・・・・絶縁枠体 3・・・・・・・半導体素子 4・・・・・・・外部リード端子 5・・・・・・・樹脂製接着剤

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体素子が搭載される搭載部を有する絶
    縁基体と、前記搭載部を囲繞し、内部に半導体素子を収
    容する空所を形成する絶縁枠体とを、その間に外部リー
    ド端子を挟んで樹脂製接着剤を介し接着して成る半導体
    素子収納用パッケージであって、前記樹脂製接着剤をビ
    スフェノールA型エポキシ樹脂60乃至80重量%とノボラ
    ック型エポキシ樹脂20乃至40重量%から成るエポキシ樹
    脂100 重量%に対し、粒径1 乃至50μm のシリカ粉末を
    200 乃至400 重量%、粒径0.5 μm以下のシリカ粉末を
    1.5 乃至15重量%、イミダゾール系硬化剤を10乃至40重
    量%添加したもので形成したことを特徴とする半導体素
    子収納用パッケージ。
JP4267295A 1992-10-06 1992-10-06 半導体素子収納用パッケージ Expired - Fee Related JP2724079B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4267295A JP2724079B2 (ja) 1992-10-06 1992-10-06 半導体素子収納用パッケージ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4267295A JP2724079B2 (ja) 1992-10-06 1992-10-06 半導体素子収納用パッケージ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06120362A JPH06120362A (ja) 1994-04-28
JP2724079B2 true JP2724079B2 (ja) 1998-03-09

Family

ID=17442848

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4267295A Expired - Fee Related JP2724079B2 (ja) 1992-10-06 1992-10-06 半導体素子収納用パッケージ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2724079B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0837252A (ja) * 1994-07-22 1996-02-06 Nec Corp 半導体装置
JP3646349B2 (ja) * 1995-05-17 2005-05-11 株式会社デンソー 半導体装置の製造方法
JP2009016715A (ja) * 2007-07-09 2009-01-22 Tatsuta System Electronics Kk シールド及び放熱性を有する高周波モジュール及びその製造方法
JP2012015548A (ja) * 2011-10-04 2012-01-19 Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd シールド及び放熱性を有する高周波モジュール及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06120362A (ja) 1994-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5550408A (en) Semiconductor device
US3999285A (en) Semiconductor device package
JP2724079B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JPH06132425A (ja) 半導体装置
JP2828553B2 (ja) 半導体装置
JP2792638B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JP2792637B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JP3443522B2 (ja) 光半導体素子収納用パッケージ
JPH11238838A (ja) 混成集積回路装置
JP2746826B2 (ja) 電子部品収納用パッケージ
JPH08148599A (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JP2002151613A (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JP2831219B2 (ja) 半導体装置
JPH08148598A (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JPH08316358A (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JP2003347449A (ja) 半導体素子収納用パッケージおよび半導体装置
JP2685083B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージの製造方法
JP3659305B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JP2518721Y2 (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JP3138186B2 (ja) 半導体装置
JP2002314004A (ja) 樹脂封止型半導体装置用金属ベース絶縁基板とそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP3207118B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JPH06188324A (ja) 半導体装置
JP2002134638A (ja) 光半導体素子収納用パッケージ
CA1304172C (en) Metal electronic package

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees