JP2723591B2 - 7―/D(―)アルフア―アミノ―アルフア―(p―ヒドロキシフエニル)アセトアミド/―3―メチル―3―セフエム―4―カルボン酸―水化物の製造方法 - Google Patents
7―/D(―)アルフア―アミノ―アルフア―(p―ヒドロキシフエニル)アセトアミド/―3―メチル―3―セフエム―4―カルボン酸―水化物の製造方法Info
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- JP2723591B2 JP2723591B2 JP1041988A JP4198889A JP2723591B2 JP 2723591 B2 JP2723591 B2 JP 2723591B2 JP 1041988 A JP1041988 A JP 1041988A JP 4198889 A JP4198889 A JP 4198889A JP 2723591 B2 JP2723591 B2 JP 2723591B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は7−/D(−)アルファ−アミノ−アルファ−
(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド−3−メチル
−3−セフェム−4−カルボン酸一水化物(monohydrat
e)の製造方法に関する。
(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド−3−メチル
−3−セフェム−4−カルボン酸一水化物(monohydrat
e)の製造方法に関する。
本発明を要約すれば、7−/D(−)アルファ−アミノ
−アルファ−(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド
/−3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸一水化
物の製造において、7−/D(−)アルファ−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ−アルファ−(p−ヒドロキシフ
ェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セフェム−4−
カルボン酸を可溶化し、こうして得られた溶液を適当な
溶剤中で水素添加分解し、及び水で沈殿させることによ
り所望の生成物を単離することによって製造することで
ある。
−アルファ−(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド
/−3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸一水化
物の製造において、7−/D(−)アルファ−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ−アルファ−(p−ヒドロキシフ
ェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セフェム−4−
カルボン酸を可溶化し、こうして得られた溶液を適当な
溶剤中で水素添加分解し、及び水で沈殿させることによ
り所望の生成物を単離することによって製造することで
ある。
7−/D(−)アルファ−アミノ−アルファ−(p−ヒ
ドロキシフェニル)アセトアミド/−3−メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸は国際共通名称(Internatio
nal Common Name−DCI)では“セファドロキシル(ce
phadroxil)”として知られている、経口的に活性な半
合成的なセファロスポリンであり、本物質は本明細書及
び特許請求の範囲において上記の名称で示される。ベル
ギー特許第853,974号は、以後本明細書において“セフ
ァドロキシル一水化物”として示される7−/D(−)ア
ルファ−アミノ−アルファ−(p−ヒドロキシフェニ
ル)アセトアミド/−3−メチル−3−セフェム−4−
カルボン酸一水化物は、下記式 によって表されることを記載している。
ドロキシフェニル)アセトアミド/−3−メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸は国際共通名称(Internatio
nal Common Name−DCI)では“セファドロキシル(ce
phadroxil)”として知られている、経口的に活性な半
合成的なセファロスポリンであり、本物質は本明細書及
び特許請求の範囲において上記の名称で示される。ベル
ギー特許第853,974号は、以後本明細書において“セフ
ァドロキシル一水化物”として示される7−/D(−)ア
ルファ−アミノ−アルファ−(p−ヒドロキシフェニ
ル)アセトアミド/−3−メチル−3−セフェム−4−
カルボン酸一水化物は、下記式 によって表されることを記載している。
セファドロキシル一水化物は製薬学的な形態として特
に有用な、安定な形態のセファドロキシルであるという
利点を有している。上に挙げたベルギー特許によれば、
セファドロキシル一水化物は a)7−アミノ−3−デスアセトキシセファロスポラン
酸を充分に無水である中性溶剤中でシリル化し; b)かくして得られたシリル化された7−アミノ−3−
デスアセトキシセファロスポラン酸を充分に無水である
中性溶剤中でD(−)−アルファ−アミノ−アルファ−
(p−ヒドロキシフェニル)アセチルクロリド塩酸塩で
酸受容体の存在下にアシル化し; c)工程(b)のアシル化生成物の加水分解又はアルコ
リシスによってシリル基を除去し;及び d)−溶液のpH値を高い値とし、ジメチルホルムアミド
で溶媒化物を形成し、その後それからセファドロキシル
一水化物を単離するか; −又は溶液のpHを上げて水で処理することにより生成物
を単離するか のいずれかの方法で所望の一水化物を形成することから
成る方法によって製造されている。
に有用な、安定な形態のセファドロキシルであるという
利点を有している。上に挙げたベルギー特許によれば、
セファドロキシル一水化物は a)7−アミノ−3−デスアセトキシセファロスポラン
酸を充分に無水である中性溶剤中でシリル化し; b)かくして得られたシリル化された7−アミノ−3−
デスアセトキシセファロスポラン酸を充分に無水である
中性溶剤中でD(−)−アルファ−アミノ−アルファ−
(p−ヒドロキシフェニル)アセチルクロリド塩酸塩で
酸受容体の存在下にアシル化し; c)工程(b)のアシル化生成物の加水分解又はアルコ
リシスによってシリル基を除去し;及び d)−溶液のpH値を高い値とし、ジメチルホルムアミド
で溶媒化物を形成し、その後それからセファドロキシル
一水化物を単離するか; −又は溶液のpHを上げて水で処理することにより生成物
を単離するか のいずれかの方法で所望の一水化物を形成することから
成る方法によって製造されている。
予め適当な溶剤中に溶解した7−/D(−)アルファー
ベンジルオキシカルボニルアミノ−アルファ−(p−ヒ
ドロキシフェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(米国特許第3,489,752号中に開
示された)を水素添加分解し、そして触媒を除去した
後、ある程度酸性化した水で沈殿させることによって所
望の生成物を単離することにより、何等中間的な溶媒化
物を製造することなく又は溶液のpHを上げるよりも下げ
ることで、直接にセファドロキシル一水化物を得ること
が可能であることが新規に見出だされた。
ベンジルオキシカルボニルアミノ−アルファ−(p−ヒ
ドロキシフェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(米国特許第3,489,752号中に開
示された)を水素添加分解し、そして触媒を除去した
後、ある程度酸性化した水で沈殿させることによって所
望の生成物を単離することにより、何等中間的な溶媒化
物を製造することなく又は溶液のpHを上げるよりも下げ
ることで、直接にセファドロキシル一水化物を得ること
が可能であることが新規に見出だされた。
更にこの方法により、セファドロキシル一水化物は特
別な精製操作を必要とすることなく、優れた収率で得ら
れることが見出だされた。
別な精製操作を必要とすることなく、優れた収率で得ら
れることが見出だされた。
従って本発明は: (a)下記式 の7−/D(−)アルファ−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−アルファ−(p−ヒドロキシフェニル)アセトア
ミド/3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸を、シ
リル化(sililation)又は有機塩基で塩化(salificati
on)することにより、セファドロキシルと溶媒化物(so
lvate)を形成することのない、有機溶剤中で可溶化
し、 (b)かくして得られた溶液を接触的水素添加分解処理
し、及び触媒を除去後、 (c)約pH4の水で沈殿させ且つ濾過することによりセ
ファドロキシル一水化物を単離する ことを特徴とする式Iのセファドロキシル一水化物の製
造方法に関する。
ミノ−アルファ−(p−ヒドロキシフェニル)アセトア
ミド/3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸を、シ
リル化(sililation)又は有機塩基で塩化(salificati
on)することにより、セファドロキシルと溶媒化物(so
lvate)を形成することのない、有機溶剤中で可溶化
し、 (b)かくして得られた溶液を接触的水素添加分解処理
し、及び触媒を除去後、 (c)約pH4の水で沈殿させ且つ濾過することによりセ
ファドロキシル一水化物を単離する ことを特徴とする式Iのセファドロキシル一水化物の製
造方法に関する。
工程(a)における化合物IIの可溶化は、10℃ないし
50℃、好適には30ないし35℃の温度で10分ないし4時
間、好適には約1時間にわたってシリル化することによ
り行うことができる。
50℃、好適には30ないし35℃の温度で10分ないし4時
間、好適には約1時間にわたってシリル化することによ
り行うことができる。
特に好適なシリル化剤はモノトリメチルシリルアセト
アミド(MSA)、ビス−トリメチルシリルアセトアミド
(BSA)、ビス−トリメチルシリル尿素(BSU)及びヘキ
サメチルジシラザン(HMDS)である。
アミド(MSA)、ビス−トリメチルシリルアセトアミド
(BSA)、ビス−トリメチルシリル尿素(BSU)及びヘキ
サメチルジシラザン(HMDS)である。
シリル化剤は計算量に対し最高約15%過剰な量で使用
される。
される。
工程(a)における化合物IIの可溶化は又有機塩基、
例えばトリメチルアミン又はトリエチルアミンで塩化す
ることにより行うことができる。
例えばトリメチルアミン又はトリエチルアミンで塩化す
ることにより行うことができる。
使用される溶剤は極性又は非極性のいずれかであり、
及び水と混和性であることが好ましい。
及び水と混和性であることが好ましい。
適当な溶剤は例えばジメトキシエタン、イソブチルメ
チルケトン及びアセトンであるが、好適な溶剤はジオキ
サンである。
チルケトン及びアセトンであるが、好適な溶剤はジオキ
サンである。
一般に有機溶剤は、メタノール及びジメチルホルムア
ミドの場合に溶媒化物が生じるように、セファドロキシ
ルと溶媒化物を形成するものでなければ、任意の有機溶
剤を使用することができる。
ミドの場合に溶媒化物が生じるように、セファドロキシ
ルと溶媒化物を形成するものでなければ、任意の有機溶
剤を使用することができる。
工程(b)の水素添加分解は、工程(a)において得
られた透明な溶液について、適当な基材上に、より好適
には炭酸カルシウム上に、5ないし10%、好適には10%
の濃度に担持された水素添加触媒、好適にはパラジウム
の存在において、好適には室温で水素を用いて行なわれ
る。
られた透明な溶液について、適当な基材上に、より好適
には炭酸カルシウム上に、5ないし10%、好適には10%
の濃度に担持された水素添加触媒、好適にはパラジウム
の存在において、好適には室温で水素を用いて行なわれ
る。
好適な一具体化例によれば、水素添加分解は水素添加
触媒、好適には適当な基材上に、より好適には炭素を担
体とした5ないし10%、好適には5%の濃度のパラジウ
ムの存在において、水素供与体としてシクロヘキセン又
はシクロヘキサジエンを用いて実施することができる。
一般に2ないし4時間後に水素添加分解は完結する。単
純な濾過により触媒を除去した後、セファドロキシル一
水化物は、工程(c)において、反応混合物に水を添加
し、得られた沈殿を濾過することにより単離される。
触媒、好適には適当な基材上に、より好適には炭素を担
体とした5ないし10%、好適には5%の濃度のパラジウ
ムの存在において、水素供与体としてシクロヘキセン又
はシクロヘキサジエンを用いて実施することができる。
一般に2ないし4時間後に水素添加分解は完結する。単
純な濾過により触媒を除去した後、セファドロキシル一
水化物は、工程(c)において、反応混合物に水を添加
し、得られた沈殿を濾過することにより単離される。
化合物IIの可溶化が工程(a)においてシリル化によ
り行なわれた時には、工程(c)は前記のように、単に
水を加えることによって行なわれるが、これは水素添加
分解の末期における溶液のpHが事実上pH約4であって、
セファドロキシル一水化物の等電点にあるからである。
り行なわれた時には、工程(c)は前記のように、単に
水を加えることによって行なわれるが、これは水素添加
分解の末期における溶液のpHが事実上pH約4であって、
セファドロキシル一水化物の等電点にあるからである。
これと対照的に、化合物IIの可溶化が工程(a)にお
いて塩化によって行なわれる時には、水素添加分解の末
期に得られる溶液のpHを約7から4まで下げることが推
奨される。後者の場合には、工程(b)の水素添加分解
から得られる透明な溶液は適当な溶剤、好適にはアセト
ンに添加され、その際pHを約4に保持するために、塩酸
で酸性化された水が同時に、例えば10:1の比率で添加さ
れる。こうした工程は特に工業用として適している。操
作は好適には10ないし15℃の温度で行なわれる。
いて塩化によって行なわれる時には、水素添加分解の末
期に得られる溶液のpHを約7から4まで下げることが推
奨される。後者の場合には、工程(b)の水素添加分解
から得られる透明な溶液は適当な溶剤、好適にはアセト
ンに添加され、その際pHを約4に保持するために、塩酸
で酸性化された水が同時に、例えば10:1の比率で添加さ
れる。こうした工程は特に工業用として適している。操
作は好適には10ないし15℃の温度で行なわれる。
下記の実施例は本発明を説明するものであって、本発
明を限定するものではない。
明を限定するものではない。
製造方法 80mlの塩化メチレン中に懸濁した0.075モルの7−ア
ミノ−3−デスアセトキシセファロスポラン酸の懸濁物
に、0.225モルのヘキサメチルジシラザンを添加する。
ミノ−3−デスアセトキシセファロスポラン酸の懸濁物
に、0.225モルのヘキサメチルジシラザンを添加する。
加熱して5時間還流した後、反応混合物を−20℃に冷
却し、次いで0.15モルのN,N−ジメチルアニリンを添加
し、及び引き続き0.1モルのD(−)−アルファ−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−アルファ−(p−ヒドロ
キシフェニル)酢酸の塩化物を添加する。
却し、次いで0.15モルのN,N−ジメチルアニリンを添加
し、及び引き続き0.1モルのD(−)−アルファ−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−アルファ−(p−ヒドロ
キシフェニル)酢酸の塩化物を添加する。
混合物を−20℃ないし−25℃で2時間撹拌し、次いで
温度を約2時間以上かけて+20℃とし、この温度に更に
2時間保持する。
温度を約2時間以上かけて+20℃とし、この温度に更に
2時間保持する。
反応混合物を40mlの水で処理すると有機相が分離し、
そして炭酸水素ナトリウムの8%水溶液(w/v)で抽出
する。
そして炭酸水素ナトリウムの8%水溶液(w/v)で抽出
する。
pH3に希釈した塩酸で酸性とした水相から、結晶性の
生成物が得られ、これを濾過し、水洗し、35℃で且つ減
圧下で乾燥する。こうして7−/D(−)アルファ−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−アルファ−(p−ヒドロ
キシフェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セフェム
−4−カルボン酸が理論量の86%の収率で得られる; 融点118−121℃(分解) 赤外(KBr中)及び1H−NMR(DMSO−d6)スペクトルは
前掲の化合物と一致している。
生成物が得られ、これを濾過し、水洗し、35℃で且つ減
圧下で乾燥する。こうして7−/D(−)アルファ−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−アルファ−(p−ヒドロ
キシフェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セフェム
−4−カルボン酸が理論量の86%の収率で得られる; 融点118−121℃(分解) 赤外(KBr中)及び1H−NMR(DMSO−d6)スペクトルは
前掲の化合物と一致している。
実施例 1 (a)55mlのジオキサンに懸濁させた、上記製造の部で
得られた化合物0.028モルの懸濁物に0.070モルのビス−
トリメチルシリルアセトアミドを添加する;50℃で15分
間撹拌した後に透明な溶液が得られる。
得られた化合物0.028モルの懸濁物に0.070モルのビス−
トリメチルシリルアセトアミドを添加する;50℃で15分
間撹拌した後に透明な溶液が得られる。
(b)こうして得られた溶液に炭酸カルシウムを担体と
する10%パラジウム0.8gを添加し、混合物を35ないし40
℃で3.5barにおいて3時間水素添加し;次いで水素の吸
収の終了後、触媒を濾過する。
する10%パラジウム0.8gを添加し、混合物を35ないし40
℃で3.5barにおいて3時間水素添加し;次いで水素の吸
収の終了後、触媒を濾過する。
(c)透明な溶液に24mlの水を添加し、溶液を5℃に15
時間放置する。結晶性生成物を濾過し、35mlの冷水及び
最後にアセトンで洗浄する。30℃及び減圧下で乾燥した
後、標準試料と同一なセファドロキシル一水化物が89%
の収率で得られる。
時間放置する。結晶性生成物を濾過し、35mlの冷水及び
最後にアセトンで洗浄する。30℃及び減圧下で乾燥した
後、標準試料と同一なセファドロキシル一水化物が89%
の収率で得られる。
実施例 2 (a)80mlのメチル−イソブチル−ケトン中に溶かし
た、製造の部で得られた0.03モルの化合物の溶液に、0.
033モルのトリエチルアミンを撹拌しながら添加する。
た、製造の部で得られた0.03モルの化合物の溶液に、0.
033モルのトリエチルアミンを撹拌しながら添加する。
(b)こうして得られた溶液に炭酸カルシウムを担体と
する10%パラジウム0.2gを添加し、混合物を室温で加圧
下に水素添加する。
する10%パラジウム0.2gを添加し、混合物を室温で加圧
下に水素添加する。
2時間後水素の吸収が終了し、そして触媒を濾過す
る。
る。
(c)透明な溶液を1時間にわたって10ないし15℃で23
5mlのアセトン中に滴加し、同時にアセトン溶液に10%
の塩化水素を含む水を添加し、水−アセトン溶液のpH値
を約4に保持する。
5mlのアセトン中に滴加し、同時にアセトン溶液に10%
の塩化水素を含む水を添加し、水−アセトン溶液のpH値
を約4に保持する。
混合物を2時間撹拌し、必要に応じて塩酸(1:10)を
添加してpHを4に調節する。
添加してpHを4に調節する。
結晶性生成物を集め、アセトンで洗浄し、減圧下で30
℃で乾燥する。
℃で乾燥する。
こうしてセファドロキシル一水化物は理論量に対し90
%の収率で得られる。
%の収率で得られる。
実施例 3 (a)55mlのジメトキシエタンに懸濁させた、製造の部
で得られた0.028モルの生成物の懸濁物に、0.07モルの
ヘキサメチルジシラザンを添加する;15分間撹拌後、透
明な溶液が得られる。
で得られた0.028モルの生成物の懸濁物に、0.07モルの
ヘキサメチルジシラザンを添加する;15分間撹拌後、透
明な溶液が得られる。
(b)こうして得られた溶液に80mlのシクロヘキセンを
添加し、そして窒素気流下で撹拌しながら炭素を担体と
した5%パラジウム0.9gを添加する。3時間撹拌した後
に触媒を濾過して除去する。
添加し、そして窒素気流下で撹拌しながら炭素を担体と
した5%パラジウム0.9gを添加する。3時間撹拌した後
に触媒を濾過して除去する。
(c)こうして得られた透明な溶液に30mlの水を添加す
る。実施例1(c)と同様に操作することにより、理論
値の92%の収率でセファドロキシル一水化物が得られ
る。
る。実施例1(c)と同様に操作することにより、理論
値の92%の収率でセファドロキシル一水化物が得られ
る。
本発明の主なる特徴及び態様は下記の通りである。
1.下記式: を有するセファドロキシル一水化物の製造方法におい
て、 (a)下記式: を有する7−/D(−)アルファ−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−アルファ−(p−ヒドロキシフェニル)ア
セトアミド/3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸
をシリル化又は有機塩基で塩化することによりセファド
ロキシルと溶媒化物を形成しない有機溶剤中に可溶化
し; (b)こうして得られた溶液を接触水素添加処理し、及
び触媒を除去後、 (c)約4のpHの水で沈殿させ、及び濾過することによ
ってセファドロキシル一水化物を単離する工程を特徴と
する方法。
て、 (a)下記式: を有する7−/D(−)アルファ−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−アルファ−(p−ヒドロキシフェニル)ア
セトアミド/3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸
をシリル化又は有機塩基で塩化することによりセファド
ロキシルと溶媒化物を形成しない有機溶剤中に可溶化
し; (b)こうして得られた溶液を接触水素添加処理し、及
び触媒を除去後、 (c)約4のpHの水で沈殿させ、及び濾過することによ
ってセファドロキシル一水化物を単離する工程を特徴と
する方法。
2.工程(a)の可溶化がモノトリメチルシリルアセトア
ミド、ビス−トリメチルシリルアセトアミド、ビス−ト
リメチルシリル尿素及びヘキサメチルジシラザンの中か
ら選択されたシリル化剤でシリル化することによって行
なわれる上記1に記載の方法。
ミド、ビス−トリメチルシリルアセトアミド、ビス−ト
リメチルシリル尿素及びヘキサメチルジシラザンの中か
ら選択されたシリル化剤でシリル化することによって行
なわれる上記1に記載の方法。
3.工程(a)の可溶化がトリメチルアミン又はトリエチ
ルアミンで塩化(salification)することにより行なわ
れる上記1に記載の方法。
ルアミンで塩化(salification)することにより行なわ
れる上記1に記載の方法。
4.7−/D(−)アルファ−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ/−アルファ−(p−ヒドロキシフェニル)アセト
アミド3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸の可
溶化がジオキサン、ジメトキシエタン、アセトン、及び
メチルイソブチルケトンの中から選択された溶剤中で行
なわれる上記1ないし3に記載の方法。
ミノ/−アルファ−(p−ヒドロキシフェニル)アセト
アミド3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸の可
溶化がジオキサン、ジメトキシエタン、アセトン、及び
メチルイソブチルケトンの中から選択された溶剤中で行
なわれる上記1ないし3に記載の方法。
5.工程(b)において接触水素添加分解が工程(a)か
ら生じる反応溶液について直接に接触水素添加により行
なわれる上記1ないし4のいずれかに記載の方法。
ら生じる反応溶液について直接に接触水素添加により行
なわれる上記1ないし4のいずれかに記載の方法。
6.炭酸カルシウム上のパラジウムが触媒として使用され
る上記5に記載の方法。
る上記5に記載の方法。
7.炭酸カルシウム上のパラジウムの濃度が10%である上
記5に記載の方法。
記5に記載の方法。
8.接触水素添加が水素供与体としてシクロヘキセン又は
シクロヘキサジエンを用いることにより行なわれる上記
1ないし3に記載の方法。
シクロヘキサジエンを用いることにより行なわれる上記
1ないし3に記載の方法。
9.炭素上のパラジウムが触媒として使用される上記8に
記載の方法。
記載の方法。
10.炭素上のパラジウムの濃度が5%である上記9に記
載の方法。
載の方法。
Claims (1)
- 【請求項1】下記式: を有するセファドロキシル一水化物の製造方法におい
て、 (a)下記式: を有する7−/D(−)アルファ−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−アルファ−(p−ヒドロキシフェニル)ア
セトアミド/3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸
をシリル化又は有機塩基で塩化することにより、セファ
ドロキシルと溶媒化物を形成しない有機溶剤中に可溶化
し; (b)こうして得られた溶液を接触水素添加処理し、次
いで触媒を除去後、 (c)約4のpHの水で沈殿させて及び濾過することによ
ってセファドロキシル一水化物を単離する工程を特徴と
する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT19512A/88 | 1988-02-24 | ||
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