JP2715507B2 - 電子ビームを用いた基板検査装置 - Google Patents
電子ビームを用いた基板検査装置Info
- Publication number
- JP2715507B2 JP2715507B2 JP1005156A JP515689A JP2715507B2 JP 2715507 B2 JP2715507 B2 JP 2715507B2 JP 1005156 A JP1005156 A JP 1005156A JP 515689 A JP515689 A JP 515689A JP 2715507 B2 JP2715507 B2 JP 2715507B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron
- substrate
- optical column
- inspected
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子ビームを用いた基板検査装置、特に、絶
縁物の内部および表面に形成した導体の配線パターンの
電気的特性を非接触測定する、電子ビームを用いた基板
検査装置に関する。
縁物の内部および表面に形成した導体の配線パターンの
電気的特性を非接触測定する、電子ビームを用いた基板
検査装置に関する。
〔従来の技術〕 従来の技術としては、例えば、特開昭61−170669号公
報に示されているような、検査技術がある。
報に示されているような、検査技術がある。
次に従来の電子ビームを用いた基板検査装置について
図面を参照して詳細に説明する。
図面を参照して詳細に説明する。
第２図は従来の電子ビームを用いた基板検査装置の一
例を示す模式図である。
例を示す模式図である。
第２図に示す電子ビームを用いた基板検査装置は、 （Ａ）被検査基板10を収容する真空槽１、 （Ｂ）被検査基板10を照射する電子ビームを発生する電
子光学鏡筒２、 （Ｃ）電子光学鏡筒２に接続しており、ビームオン・オ
フ回路と、Ｘ方向の走査回路と、集束制御回路とを有す
る制御部23、 （Ｄ）２次電子検出器25、 （Ｅ）２次電子検出器25の検出信号を処理する信号処理
部26、 （Ｆ）被検査基板10を搭載し、X,Y,Z方向に移動するテ
ーブル27、 （Ｇ）制御部23と、信号処理部26と、テーブル27とを制
御する中央制御部30、 とを含んで構成される。
子光学鏡筒２、 （Ｃ）電子光学鏡筒２に接続しており、ビームオン・オ
フ回路と、Ｘ方向の走査回路と、集束制御回路とを有す
る制御部23、 （Ｄ）２次電子検出器25、 （Ｅ）２次電子検出器25の検出信号を処理する信号処理
部26、 （Ｆ）被検査基板10を搭載し、X,Y,Z方向に移動するテ
ーブル27、 （Ｇ）制御部23と、信号処理部26と、テーブル27とを制
御する中央制御部30、 とを含んで構成される。
被検査基板10に電子光学鏡筒２から照射したビーム
は、被検査基板10上の導電体に当った際に、２次電子を
放出させる。
は、被検査基板10上の導電体に当った際に、２次電子を
放出させる。
この２次電子は被検査基板10の上部であって真空槽１
の側面に取り付けられた２次電子検出器25によって検知
される。
の側面に取り付けられた２次電子検出器25によって検知
される。
電子ビームを当る位置は、電子光学鏡筒２の制御部23
によって、Ｘ−Ｙ方向に偏向して決めるが、被検査基板
10の寸法が大きい場合には、テーブル27を動かすことに
よって、電子ビームを当てる位置を定める。
によって、Ｘ−Ｙ方向に偏向して決めるが、被検査基板
10の寸法が大きい場合には、テーブル27を動かすことに
よって、電子ビームを当てる位置を定める。
上述した従来の電子ビームを用いた基板検査装置は、
電子ビームを当てる位置と２次電子検出器との位置関係
が一定とならず、とくに電子ビームが被検査基板に照射
する角度によって、２次電子の放出方向が異なる２次電
子を検出することは困難であり、検査精度が悪いという
欠点があった。
電子ビームを当てる位置と２次電子検出器との位置関係
が一定とならず、とくに電子ビームが被検査基板に照射
する角度によって、２次電子の放出方向が異なる２次電
子を検出することは困難であり、検査精度が悪いという
欠点があった。
本発明の電子ビームを用いた基板検査装置は、 （Ａ）被検査基板を収容する真空槽、 （Ｂ）前記被検査基板に照射する電子ビームを発生する
電子光学鏡筒、 （Ｃ）前記電子光学鏡筒に接続しており、ビームオン・
オフ回路と、Ｘ方向の走査回路と、集束制御回路とを有
する制御部、 （Ｄ）前記被検査基板と前記電子光学鏡筒との間に位置
し、前記電子光学鏡筒からのＸ方向に走査した電子ビー
ムを照射する部分にスリットを設けたコントロールグリ
ッド、 （Ｅ）前記電子光学鏡筒と前記コントロールグリッドと
の間にあって、前記スリットを挟んだ両側に位置し、前
記Ｘ方向に複数個整列した２次電子検出器、 （Ｆ）前記２次電子検出器の検出信号を処理する信号処
理部、 （Ｇ）前記被検査基板を搭載し、前記電子光学鏡筒から
発生するＸ方向に走査した前記電子ビームに対して直交
するＹ方向に移動するテーブル、 （Ｈ）前記制御部と、前記信号処理部と、前記テーブル
とを制御する中央制御部、 とを含んで構成される。
電子光学鏡筒、 （Ｃ）前記電子光学鏡筒に接続しており、ビームオン・
オフ回路と、Ｘ方向の走査回路と、集束制御回路とを有
する制御部、 （Ｄ）前記被検査基板と前記電子光学鏡筒との間に位置
し、前記電子光学鏡筒からのＸ方向に走査した電子ビー
ムを照射する部分にスリットを設けたコントロールグリ
ッド、 （Ｅ）前記電子光学鏡筒と前記コントロールグリッドと
の間にあって、前記スリットを挟んだ両側に位置し、前
記Ｘ方向に複数個整列した２次電子検出器、 （Ｆ）前記２次電子検出器の検出信号を処理する信号処
理部、 （Ｇ）前記被検査基板を搭載し、前記電子光学鏡筒から
発生するＸ方向に走査した前記電子ビームに対して直交
するＹ方向に移動するテーブル、 （Ｈ）前記制御部と、前記信号処理部と、前記テーブル
とを制御する中央制御部、 とを含んで構成される。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示す模式図である。
第１図に示す電子ビームを用いた基板検査装置は、 （Ａ）被検査基板10を収容する真空槽１、 （Ｂ）被検査基板10に照射する電子ビームを発生する電
子光学鏡筒２、 （Ｃ）電子光学鏡筒２に接続しており、ビームオン・オ
フ回路と、Ｘ方向の走査回路と、集束制御回路とを有す
る制御部３、 （Ｄ）被検査基板10と電子光学鏡筒２との間に位置し、
電子光学鏡筒２からのＸ方向に走査した電子ビームを照
射する部分にスリット５を設けたコントロールグリッド
６、 （Ｅ）電子光学鏡筒２とコントロールグリッド６との間
にあって、スリット５を挟んだ両側に位置し、前記Ｘ方
向に複数個整列した２次電子検出器7a〜7n、 （Ｆ）２次電子検出器7a〜7nの検出信号を処理する信号
処理部８、 （Ｇ）被検査基板10を搭載し、電子光学鏡筒２から発生
するＸ方向に走査した前記電子ビームに対して直交する
Ｙ方向に移動するテーブル９、 （Ｈ）制御部３と、信号処理部８と、テーブル９とを制
御する中央制御部11、 とを含んで構成される。
子光学鏡筒２、 （Ｃ）電子光学鏡筒２に接続しており、ビームオン・オ
フ回路と、Ｘ方向の走査回路と、集束制御回路とを有す
る制御部３、 （Ｄ）被検査基板10と電子光学鏡筒２との間に位置し、
電子光学鏡筒２からのＸ方向に走査した電子ビームを照
射する部分にスリット５を設けたコントロールグリッド
６、 （Ｅ）電子光学鏡筒２とコントロールグリッド６との間
にあって、スリット５を挟んだ両側に位置し、前記Ｘ方
向に複数個整列した２次電子検出器7a〜7n、 （Ｆ）２次電子検出器7a〜7nの検出信号を処理する信号
処理部８、 （Ｇ）被検査基板10を搭載し、電子光学鏡筒２から発生
するＸ方向に走査した前記電子ビームに対して直交する
Ｙ方向に移動するテーブル９、 （Ｈ）制御部３と、信号処理部８と、テーブル９とを制
御する中央制御部11、 とを含んで構成される。
Ｘ方向に走査する電子ビームは、コントロールグリッ
ド６のスリット５を通過して被検査基板10に照射され
る。
ド６のスリット５を通過して被検査基板10に照射され
る。
電子ビームが被検査基板10の導体に当ると、２次電子
を放出する。
を放出する。
この２次電子は、コントロールグリッド６を通過し、
２次電子検出器7a〜7nによって検出される。
２次電子検出器7a〜7nによって検出される。
コントロールグリッド６は、前述の２次電子が再び被
検査基板10へ付着することを防ぐものである。
検査基板10へ付着することを防ぐものである。
Ｘ方向に走査した電子ビームに対して、直交する方向
に移動するテーブル９によって、被検査基板10を全面に
渡って検査する。
に移動するテーブル９によって、被検査基板10を全面に
渡って検査する。
〔発明の効果〕 本発明の電子ビームを用いた基板検査装置は、真空槽
の側面に２次電子検出器を設ける代りに、被検査基板の
上部にＸ方向に走査する電子ビームが通過するスリット
を有するコントロールグリッドと、コントロールグリッ
ドと電子光学鏡筒との間であって、スリットを挟んだ両
側にＸ方向に複数個整列した２次電子検出器と、Ｙ方向
に被検査基板を動かすテーブルとを設けることにより、
電子ビームを当る位置と２次電子検出器との位置関係が
一定となるため、検査位置によって２次電子検出率が異
なることを無くすることができるので、検査精度を良く
できるという効果がある。
の側面に２次電子検出器を設ける代りに、被検査基板の
上部にＸ方向に走査する電子ビームが通過するスリット
を有するコントロールグリッドと、コントロールグリッ
ドと電子光学鏡筒との間であって、スリットを挟んだ両
側にＸ方向に複数個整列した２次電子検出器と、Ｙ方向
に被検査基板を動かすテーブルとを設けることにより、
電子ビームを当る位置と２次電子検出器との位置関係が
一定となるため、検査位置によって２次電子検出率が異
なることを無くすることができるので、検査精度を良く
できるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す模式図、第２図は従来
の一例を示す模式図である。 １……真空槽、２……電子光学鏡筒、３……制御部、５
……スリット、６……コントロールグリッド、７……２
次電子検出器、８……信号処理部、９……テーブル、10
……被検査基板、11……中央処理部。
の一例を示す模式図である。 １……真空槽、２……電子光学鏡筒、３……制御部、５
……スリット、６……コントロールグリッド、７……２
次電子検出器、８……信号処理部、９……テーブル、10
……被検査基板、11……中央処理部。
Claims (1)
- 【請求項１】（Ａ）被検査基板を収容する真空槽、 （Ｂ）前記被検査基板に照射する電子ビームを発生する
電子光学鏡筒、 （Ｃ）前記電子光学鏡筒に接続しており、ビームオン・
オフ回路と、Ｘ方向の走査回路と、集束制御回路とを有
する制御部、 （Ｄ）前記被検査基板と前記電子光学鏡筒との間に位置
し、前記電子光学鏡筒からのＸ方向に走査した電子ビー
ムを照射する部分にスリットを設けたコントロールグリ
ッド、 （Ｅ）前記電子光学鏡筒と前記コントロールグリッドと
の間にあって、前記スリットを挟んだ両側に位置し、前
記Ｘ方向に複数個整列した２次電子検出器、 （Ｆ）前記２次電子検出器の検出信号を処理する信号処
理部、 （Ｇ）前記被検査基板を搭載し、前記電子光学鏡筒から
発生するＸ方向に走査した前記電子ビームに対して直交
するＹ方向に移動するテーブル、 （Ｈ）前記制御部と、前記信号処理部と、前記テーブル
とを制御する中央制御部、 とを含むことを特徴とする電子ビームを用いた基板検査
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1005156A JP2715507B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | 電子ビームを用いた基板検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1005156A JP2715507B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | 電子ビームを用いた基板検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02184748A JPH02184748A (ja) | 1990-07-19 |
| JP2715507B2 true JP2715507B2 (ja) | 1998-02-18 |
Family
ID=11603400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1005156A Expired - Fee Related JP2715507B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | 電子ビームを用いた基板検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2715507B2 (ja) |
-
1989
- 1989-01-11 JP JP1005156A patent/JP2715507B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02184748A (ja) | 1990-07-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6804288B2 (en) | Electron beam exposure apparatus and electron beam deflection apparatus | |
| JPH0349042B2 (ja) | ||
| JPH0562700B2 (ja) | ||
| US4558225A (en) | Target body position measuring method for charged particle beam fine pattern exposure system | |
| US6124140A (en) | Method for measuring features of a semiconductor device | |
| JP2715507B2 (ja) | 電子ビームを用いた基板検査装置 | |
| US4916315A (en) | Scanning electron microscope for observing and measuring minute pattern of sample | |
| EP0386666B1 (en) | Method and apparatus for detecting alignment mark of semiconductor device | |
| JPS63166228A (ja) | 位置検出装置 | |
| US4983864A (en) | Electronic beam drawing apparatus | |
| JPH06124671A (ja) | 電子走査型ｘ線管 | |
| GB2149130A (en) | Testing electronic circuits | |
| JPH0291507A (ja) | 微細パターンの測定装置 | |
| JP2716790B2 (ja) | ビーム進行方向測定装置 | |
| JPH11260302A (ja) | パターン検査装置 | |
| JPS6320376B2 (ja) | ||
| JP2773702B2 (ja) | マーク位置検出方法及びマーク位置検出装置 | |
| JPH07286842A (ja) | 寸法検査方法及びその装置 | |
| JPH03194916A (ja) | アライメントマーク位置検出方法及び装置 | |
| JPH01241745A (ja) | 荷電ビーム検出器 | |
| JPH0627050A (ja) | 物品の構造検出装置及び回路基板の構造検出装置 | |
| JPH06349719A (ja) | 電子ビーム露光方法及びその装置 | |
| JPH0479252A (ja) | 集積回路試験装置 | |
| JPS6197509A (ja) | 検査装置 | |
| JPH0773039B2 (ja) | 電子ビーム加工装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |