JP2714002B2 - Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device - Google Patents

Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device

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JP2714002B2
JP2714002B2 JP63154623A JP15462388A JP2714002B2 JP 2714002 B2 JP2714002 B2 JP 2714002B2 JP 63154623 A JP63154623 A JP 63154623A JP 15462388 A JP15462388 A JP 15462388A JP 2714002 B2 JP2714002 B2 JP 2714002B2
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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] 本発明は、リードフレームにマウントした半導体素子
を含めて行う樹脂封止工程により発生するバリを防止す
る技術に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] The present invention relates to a technique for preventing burrs generated in a resin sealing step including a semiconductor element mounted on a lead frame.

(従来の技術) 半導体基板に回路やデバイスを造込んだ半導体素子の
組立工程には、通常リードフレームを利用して組立て、
更に封止工程により形成された封止樹脂によって外部雰
囲気から保護している。ところで、DIP,SIP及び両者の
混合型のリードフレームが知られており、製造方法とし
て食刻工程とプレス工程のうち、現在では専ら後者が利
用されており、集積回路等のように集積度の大きい多ピ
ン構造素子では、アウターリード間のピッチを小さくせ
ざるを得ないのが実情である。
(Prior art) In the process of assembling a semiconductor device in which a circuit or a device is built on a semiconductor substrate, a semiconductor device is usually assembled using a lead frame.
Further, it is protected from an external atmosphere by a sealing resin formed in a sealing step. By the way, DIP, SIP and a mixed type of lead frame are known, and as a manufacturing method, of the etching process and the pressing process, the latter is currently exclusively used. In a large multi-pin structure element, it is a fact that the pitch between the outer leads must be reduced.

このような集積度の大きい半導体素子のマウントに主
として利用するDIP用並びに混合型リードフレームの概
要を説明すると、周囲を金属製枠体で構成する複数の単
位体を連続して形成し、この数により長尺物か短尺物に
区別する。一方、金属製枠体には、ここを起点とするリ
ードを単位体の中心方向に向けて形成し、その中心付近
の一対のリード間にはベッド部を接続して、半導体素子
を造込んだ半導体基板をマウントできるようにする。
The outline of a DIP and mixed type lead frame mainly used for mounting such a highly integrated semiconductor element will be described. A plurality of units composed of a metal frame around the periphery are continuously formed. To distinguish between long and short objects. On the other hand, in the metal frame, a lead starting from this point was formed toward the center of the unit body, and a bed was connected between a pair of leads near the center to build a semiconductor element. A semiconductor substrate can be mounted.

この半導体基板に近い場所のリード端はフリー状態と
して、更に金属製枠体には、透孔を単位体毎に形成して
搬送に役立たせると共に自動化に対応させている。
The lead end near the semiconductor substrate is in a free state, and a through hole is formed in the metal frame body for each unit, which is useful for transportation and is compatible with automation.

このようにベッド部とリード端子を備えたリードフレ
ームには、両部品の機械的強度を増すと共に樹脂封止工
程の土手として機能する連結細条すなわちダムを形成す
るが、その位置は枠体に比較的近くでかつリードに交差
する方向に延長して形成する。
As described above, the connecting frame or dam that forms the bank of the resin sealing step and increases the mechanical strength of both parts is formed on the lead frame provided with the bed portion and the lead terminal. It is formed to be relatively close and extend in a direction crossing the lead.

そして半導体素子に形成した電極とリード間の電気的
接続を図る金属細線による熱圧着工程と、樹脂封止工程
に続いてダム付近を切断してマウント部分とそれ以外に
切離す。
Then, following the thermocompression bonding step using a thin metal wire for electrical connection between the electrode formed on the semiconductor element and the lead, and the resin sealing step, the vicinity of the dam is cut off to separate the mounting portion from the rest.

この結果、ほぼ直方体に形成した封止樹脂層の厚さ方
向すなわち側部から導出したアウターリードを、所定の
形状に成形して集積回路が形成される。なおリードフレ
ームに形成するリードは、封止樹脂層を境にしてアウタ
ーリードに呼名が変更される。
As a result, the outer leads led out from the thickness direction, that is, the side portions of the substantially rectangular parallelepiped sealing resin layer are formed into a predetermined shape to form an integrated circuit. Note that the name of the lead formed on the lead frame is changed to the outer lead at the boundary of the sealing resin layer.

ところで、トランスファモールド法を利用する樹脂封
止工程では、専用マシンに配置された一対の金型間にリ
ードフレームを配置し、更に金型に形成するカル及びラ
ンナーを介して、半導体素子をマウントした半導体素子
が配置されたキャビイテイ内に溶融樹脂を導入し、所定
の温度下でエージング処理を行って完了する。この結
果、前述のようにほぼ直方体に形成された封止樹脂層側
部からアウターリードが導出した半導体素子が製造され
る。
By the way, in the resin sealing step using the transfer molding method, a lead frame was arranged between a pair of molds arranged in a dedicated machine, and further, a semiconductor element was mounted via a cull and a runner formed in the mold. The molten resin is introduced into the cavity in which the semiconductor element is arranged, and an aging process is performed at a predetermined temperature to complete the process. As a result, a semiconductor element in which the outer leads are led out from the side of the sealing resin layer formed in a substantially rectangular parallelepiped as described above is manufactured.

この半導体装置は、半導体素子の検査工程に投入され
たり、電子機器等のキットに挿入して電気回路を構成さ
れるので、接触不良やソケット詰まりを防止するために
規格通りに形成することが必要である。
Since this semiconductor device is put into a semiconductor element inspection process or inserted into a kit of electronic equipment etc. to form an electric circuit, it must be formed to specifications to prevent poor contact and clogging of sockets. It is.

ところで、トランスファモールド法により成形され封
止樹脂層を備えた製品のアウターリードには、いわゆる
バリが発生する頻度が大きく、対策として多くの提案が
発表されると共に、その除去に鋭意努力が払われてき
た。
By the way, so-called burrs frequently occur in the outer leads of products formed by the transfer molding method and provided with a sealing resin layer, and many proposals have been announced as countermeasures, and diligent efforts have been made to remove them. Have been.

前述のように樹脂封止工程に使用する一対の金型は、
精密加工により製造するが、微視的には隙間の存在が否
定できず、樹脂封止工程時には封止樹脂が流出するのが
不可避である。
As described above, a pair of molds used in the resin sealing process
Although it is manufactured by precision processing, the existence of a gap cannot be denied microscopically, and it is inevitable that the sealing resin flows out during the resin sealing step.

封止樹脂によるバリの発生を防止する方法について第
3図を参照して説明する。
A method for preventing generation of burrs due to the sealing resin will be described with reference to FIG.

前述のように、直方体状に形成した一対のリードフレ
ームの表面に沿って形成したカルから分岐して金属部材
の端部方向に向かうランナー部を設け、更にその末端部
にはゲート部につながった複数のキャビティ部を設け
る。
As described above, a runner portion branching from the cull formed along the surfaces of the pair of lead frames formed in the shape of a rectangular parallelepiped and extending toward the end of the metal member was provided, and further connected to the gate at the end. A plurality of cavities are provided.

第3図に示すように金属製枠体(図示せず)に設置す
るリード端子21…にはその軸方向に交差するダム22を設
けるが、樹脂封止工程により封止樹脂層23とダム22にで
きる空隙24にも封止樹脂層23が充填される。
As shown in FIG. 3, a dam 22 intersecting in the axial direction is provided on the lead terminals 21 provided on a metal frame (not shown), but a sealing resin layer 23 and a dam 22 are provided in a resin sealing step. The sealing resin layer 23 is also filled in the voids 24 that can be formed.

(発明が解決しようとする課題) 空隙24に充填される封止樹脂層を除去しても一部が残
留していわゆる格子バリが発生する。このためにリード
ピッチが大きい半導体素子用リードフレームでは、a.コ
マをわざわざ設置する方法や、b.この部分に対応する金
型に凸状部を形成する方法、c.コマを化学的食刻工程に
より設置する方法等が知られている。しかし、aやbの
方法では、リード21との間に、50μm程度、cの方法で
はリードフレームの肉厚程度の隙間が形成されるのは避
けられないので、封止樹脂層が隙間に流れ込んで、バリ
が形成される。
(Problems to be Solved by the Invention) Even when the sealing resin layer filled in the voids 24 is removed, a part remains and so-called lattice burrs are generated. For this reason, in a lead frame for a semiconductor device with a large lead pitch, a. A method of placing the frame on purpose, b. A method of forming a convex portion on the mold corresponding to this portion, c. There is known a method of installing by a process. However, in the methods a and b, it is unavoidable that a gap of about 50 μm is formed between the lead 21 and the lead c. Thus, burrs are formed.

一方リードピッチが小さいリードフレームでは、この
ようなコマを設置するのが難しい。
On the other hand, in a lead frame having a small lead pitch, it is difficult to install such a frame.

いずれにしても格子バリの除去には、高価なバリ取り
機械が入用になったり、多くの時間を費やしても完全で
なかった。このために、検査工程等で挿入が困難になっ
たり後続のダムに対するカット&ベンド工程に必要なプ
レス工程用精密金型を破損する等の欠点があった。
In any case, the removal of the grid burrs was not complete even if an expensive deburring machine was required or a lot of time was spent. For this reason, there are drawbacks such as difficulty in insertion in an inspection process or the like and damage to a precision die for a press process required for a cut and bend process for a subsequent dam.

本発明は上記の難点を除去する新規な樹脂封止型半導
体装置の製造方法を提供し、特に格子バリの発生を抑制
することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a novel method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device that eliminates the above-mentioned difficulties, and in particular, to suppress generation of lattice burrs.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) この目的を達成するために本発明に係る樹脂封止型半
導体装置の製造方法では、金属製の複数のリード末端付
近にベッド部が形成され、且つ前記リードの長手方向に
交差する方向に前記リードを接続するダムが配置された
リードフレームを準備する工程と、前記リード間の前記
ダムの一部にリードに沿ってベッド部側から切込みを形
成する工程と、前記ベッド部に半導体素子を固着する工
程と、前記半導体素子とリードを電気的に接続する工程
と、前記切込みが形成されたダムのベッド部側の端面に
樹脂封止予定位置が接すると共に半導体素子を囲む封止
樹脂層を形成する工程と、前記ダムを前記リードから切
断する工程とに特徴がある。
[Constitution of the Invention] (Means for Solving the Problems) In order to achieve this object, in a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention, a bed portion is formed near the ends of a plurality of metal leads. And preparing a lead frame on which a dam for connecting the lead is arranged in a direction intersecting the longitudinal direction of the lead, and cutting a portion of the dam between the leads from the bed portion side along the lead along a part of the dam. Forming, fixing a semiconductor element to the bed portion, electrically connecting the semiconductor element to a lead, and a resin sealing expected position on a bed portion side end face of the dam in which the cut is formed. And a step of forming a sealing resin layer surrounding the semiconductor element and cutting the dam from the lead.

(作用) このような樹脂封止型半導体装置の製造方法に使用す
るリードフレームは、前記切込みを形成する工程によ
り、リードの長手方向に沿った方向にダムに切込みcを
ハーフパンチ工程により形成し(第1図a、b参照)、
形成後ほぼ平坦になり、ダムと封止樹脂間にバリの発生
が抑制される。
(Operation) In the lead frame used in the method of manufacturing such a resin-encapsulated semiconductor device, the cut c is formed in the dam in a direction along the longitudinal direction of the lead by the half punching process in the step of forming the cut. (See FIGS. 1a and 1b),
After the formation, it becomes almost flat, and the generation of burrs between the dam and the sealing resin is suppressed.

ハーフパンチ工程とは、切断面が斜めに成形されたポ
ンチを使用する工程であって、ダム2の切断予定領域に
接触させるポンチbは、前記のように切断面が斜めに形
成されているので、ダム2を切断した時点では、切込み
cを除いて未だ切込まれていない面d並びにダム2が連
続した状態となる。
The half-punching step is a step of using a punch whose cutting surface is formed obliquely. Since the punch b to be brought into contact with an area to be cut of the dam 2 has the cutting surface formed obliquely as described above, When the dam 2 is cut, the surface d and the dam 2 that have not yet been cut except for the cut c are continuous.

前記ハーフパンチ工程により切込みcが形成される工
程では、封止樹脂層3の設定予定位置hから、これに接
するダムの一部がすなわち2本のアウターリード1によ
り挟まれたダムの長手方向の一部が、リード1に沿って
ベッド部側から切込まれて切込みcが形成される。残っ
たアウターリード1は前記のように機械的に連続した状
態となる。
In the step in which the cut c is formed by the half-punching step, a part of the dam in contact with the set position h of the sealing resin layer 3 in the longitudinal direction of the dam sandwiched by the two outer leads 1 is set. A part is cut from the bed portion side along the lead 1 to form a cut c. The remaining outer leads 1 are in a mechanically continuous state as described above.

したがってダムの2つの切込みcが形成される箇所の
他に、封止樹脂層の設定予定位置hに隣接するダム部分
が不連続状態であるために、この両部分がぶらぶらした
状態になる。
Therefore, in addition to the place where the two cuts c of the dam are formed, the dam portion adjacent to the set position h of the sealing resin layer is in a discontinuous state, so that both portions are hung.

このぶらぶらの状態となった部分を有するリードフレ
ーム全体は、切込みcが形成されない状態と同様に、平
坦な形状となるが、もし切込みcが遊離して平坦となら
ない場合は、平坦な状態に修復されてから事後の切断工
程に移行する。
The entire lead frame including the portion in which the cut-out state is formed has a flat shape, similarly to the state in which the cut c is not formed. However, if the cut c is not released and becomes flat, it is restored to a flat state. After that, the process moves to a subsequent cutting process.

このようなプレス工程後、従来技術と同じく、金属細
線を半導体素子の電極とリード間に熱圧着する工程、樹
脂封止工程並びにダム2の切断工程を行う。このダム2
の切断工程では、バリが殆どないアウターリード1を有
する半導体素子が得られるために、半導体素子の測定時
にソケットを詰まらせたり、プレス工程用精密機械の金
型を破損する等の難点が解消される。
After such a pressing step, a step of thermocompression bonding the thin metal wire between the electrode of the semiconductor element and the lead, a resin sealing step, and a step of cutting the dam 2 are performed as in the prior art. This dam 2
In the cutting step, since a semiconductor element having the outer lead 1 having almost no burrs can be obtained, difficulties such as clogging of a socket at the time of measuring the semiconductor element and breakage of a mold of a precision machine for a press step are eliminated. You.

(実施例) 第1図a、b、c及び第2図を参照して本発明を詳細
に説明する。
(Example) The present invention will be described in detail with reference to Figs. 1a, 1b, 1c and 2.

第1図aは、本発明方法により完成した樹脂封止型半
導体装置の封止樹脂層、アウターリード及びダムを示す
斜視図、第1図bは、第1図aの上面図、第1図cは、
ダムをハーフパンチする工程を示す図であり、第2図a
は、本発明方法による樹脂封止工程前に存在する部品を
実線で、その後で製造する部品を点線で示した樹脂封止
型半導体装置の一部切欠斜視図であり、第2図bは、樹
脂封止型半導体装置の斜視図である。
FIG. 1A is a perspective view showing a sealing resin layer, outer leads and dams of a resin-sealed semiconductor device completed by the method of the present invention. FIG. 1B is a top view of FIG. 1A and FIG. c is
FIG. 2A is a view showing a step of half-punching a dam, and FIG.
FIG. 2 is a partially cutaway perspective view of a resin-encapsulated semiconductor device in which components existing before a resin encapsulation step according to the method of the present invention are indicated by solid lines, and components manufactured thereafter are indicated by dotted lines, and FIG. FIG. 2 is a perspective view of a resin-sealed semiconductor device.

第1図a、b及び第2図a等により明らかにされたア
ウターリード1を備えたリードフレーム(図示せず)
は、多ピンの集積回路素子用であってピッチが狭いアウ
ターリードを備えたDIP型であり、その構造は従来技術
欄と同様なので詳細な説明は省略する。このリードフレ
ームには、半導体素子の組立てに必要なダム2すなわち
本発明にとって不可欠な特殊構造のものを形成する。
Lead frame (not shown) with outer leads 1 as revealed by FIGS. 1a, b and 2a etc.
Is a DIP type for a multi-pin integrated circuit element and having outer leads with a narrow pitch. The structure is the same as that of the prior art section, and therefore, detailed description is omitted. In this lead frame, a dam 2 necessary for assembling a semiconductor element, that is, a special structure essential for the present invention is formed.

すなわち第1図aに示すように、封止樹脂層の設定予
定位置h(第1図a、b、c参照)に隣接して配置され
るダム2は、リードすなわちインナーリードの延長線上
に位置するアウターリード1以外が封止樹脂層3の設定
予定位置hと機械的に不連続状態となっている。
That is, as shown in FIG. 1a, the dam 2 disposed adjacent to the set position h of the sealing resin layer (see FIG. 1a, b, c) is located on the extension of the lead, that is, the inner lead. The portions other than the outer leads 1 are mechanically discontinuous with the set position h of the sealing resin layer 3.

アウターリード1に接しているダム2の長手方向の一
部は、第1図cに示したハーフパンチ工程によりリード
1に沿って、後述するベッド部側から切込んで切込みc
を形成する。この結果、封止樹脂層の設定予定位置hに
接するダム2の他の部分h′すなわち封止樹脂層3の設
定予定位置hに隣接する場所並びに2個の切込みcは、
ダム2の他の部分からブラブラと遊離した状態になる。
A part of the dam 2 in contact with the outer lead 1 in the longitudinal direction is cut along the lead 1 from a bed portion side to be described later by the half-punching process shown in FIG.
To form As a result, the other portion h ′ of the dam 2 in contact with the set position h of the sealing resin layer, that is, the place adjacent to the set position h of the sealing resin layer 3 and the two cuts c are:
The other part of the dam 2 is separated from the other part.

切込みcを形成するハーフパンチ工程の詳細は、作用
欄で説明した通りであり、斜めのポンチを切断面に使用
する。第2図aでは、封止樹脂層3の設定予定位置hに
隣接する場所h′、切込みc及び後述する金属細線6
は、夫々1箇所だけを記載し、その他は省略した。
The details of the half punching step for forming the cut c are as described in the operation section, and an oblique punch is used for the cut surface. In FIG. 2a, a location h 'adjacent to the set scheduled position h of the sealing resin layer 3, a cut c and a thin metal wire 6 described later
Are shown only in one place, and the others are omitted.

このように、リードフレームの一部を構成する金属製
枠体(図示せず)に形成されたリード1…の長手方向に
交差する方向には、特殊な構造を備えたダム2が設置さ
れる。
Thus, a dam 2 having a special structure is installed in a direction intersecting the longitudinal direction of the leads 1 formed on a metal frame (not shown) constituting a part of the lead frame. .

前記ハーフパンチ工程により切込みcが形成されたダ
ム2は、前記のようにぶらぶらになるが、他の部分に比
べて平坦でない場合は、プレス工程により修正する。
The dam 2 in which the cut c is formed by the half punching process is hung as described above, but if it is not flat compared to other portions, it is corrected by the pressing process.

特殊なダム2を備えたリードフレームに半導体素子を
組立る工程を第2図aにより説明する。すなわち従来技
術と同様に、金属製の複数のリード1末端付近に配置す
るベッド部4に半導体素子5を固着し、この半導体素子
5に形成した電極(図示せず)とリード1に金属細線6
を熱圧着して両者を電気的に接続する。これらは封止樹
脂層により覆って、外界雰囲気から前記半導体素子を防
御する樹脂封止工程を施す。その位置は、切込みcが形
成された前記ダム2のベッド部4側の端面換言れば封止
樹脂層の設定予定位置hに、かつ前記半導体素子を囲む
封止樹脂層3を公知のトランスファモールド法により形
成する。
A process of assembling a semiconductor element on a lead frame having a special dam 2 will be described with reference to FIG. 2A. That is, as in the prior art, a semiconductor element 5 is fixed to a bed 4 disposed near the ends of a plurality of metal leads 1, and an electrode (not shown) formed on the semiconductor element 5 and a thin metal wire 6 are attached to the lead 1.
Are electrically connected by thermocompression bonding. These are covered with a sealing resin layer and subjected to a resin sealing step of protecting the semiconductor element from the outside atmosphere. The position is the end face of the bed 2 side of the dam 2 where the cut c is formed. In other words, the sealing resin layer 3 surrounding the semiconductor element is located at a set position h of the sealing resin layer, and the transfer mold is formed by a known transfer mold. It is formed by a method.

更に前記のように特殊な構造を備えたダム2は、封止
樹脂層3から切断後、施されるベンド工程、エージング
工程並びに外装工程を経て第2図a、第2図bに示す樹
脂封止型半導体装置が完成する。
Further, the dam 2 having the special structure as described above is cut from the sealing resin layer 3 and then subjected to a bend process, an aging process, and an exterior process which are applied to the resin seal shown in FIGS. 2A and 2B. The fixed semiconductor device is completed.

このような構造の樹脂封止型半導体装置は、樹脂封止
工程中溶融樹脂がダム2部分に流出されないために、バ
リのないアウターリード1が、封止樹脂層3が導出され
る。この結果、ソケットへの挿入は、円滑であり、プレ
ス工程で精密金型の損傷が防止できる。
In the resin-encapsulated semiconductor device having such a structure, since the molten resin does not flow into the dam 2 during the resin encapsulation process, the sealing resin layer 3 is led out of the outer leads 1 without burrs. As a result, insertion into the socket is smooth, and damage to the precision mold during the pressing process can be prevented.

[発明の効果] このように本発明方法では、格子バリが殆ど残らない
ので、従来行わざるを得なかったバリ取り工程が簡素化
され、その上残った格子バリにもとずくトラブルが解消
され、ひいては生産性の向上が得られた。
[Effects of the Invention] As described above, in the method of the present invention, since grid burrs hardly remain, the deburring process, which had to be performed conventionally, is simplified, and troubles due to the remaining grid burrs are eliminated. As a result, productivity was improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図aは、本発明方法により完成した樹脂封止型半導
体装置の封止樹脂層、アウターリード及びダムを示す斜
視図、第1図bは、第1図aの上面図、第1図cは、ダ
ムをハーフパンチする工程を示す図、第2図aは、本発
明方法による樹脂封止型半導体装置の製造工程における
構造を示す一部切欠斜視図、第2図bは、本発明方法に
より完成した樹脂封止型半導体装置の斜視図、第3図
は、従来方法に適用するリードフレームの上面図であ
る。
FIG. 1A is a perspective view showing a sealing resin layer, outer leads and dams of a resin-sealed semiconductor device completed by the method of the present invention. FIG. 1B is a top view of FIG. 1A and FIG. 2C is a view showing a step of half-punching the dam, FIG. 2A is a partially cutaway perspective view showing a structure in a manufacturing step of the resin-sealed semiconductor device according to the method of the present invention, and FIG. FIG. 3 is a perspective view of a resin-sealed semiconductor device completed by the method, and FIG. 3 is a top view of a lead frame applied to the conventional method.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】金属製の複数のリード末端付近にベッド部
が形成され、且つ前記リードの長手方向に交差する方向
に前記リードを接続するダムが配置されたリードフレー
ムを準備する工程と、前記リード間の前記ダムの一部に
リードに沿ってベッド部側から切込みを形成する工程
と、前記ベッド部に半導体素子を固着する工程と、前記
半導体素子とリードを電気的に接続する工程と、前記切
込みが形成されたダムのベッド部側の端面に樹脂封止予
定位置が接すると共に半導体素子を囲む封止樹脂層を形
成する工程と、前記ダムを前記リードから切断する工程
とを具備することを特徴とする樹脂封止型半導体装置の
製造方法
A step of preparing a lead frame in which a bed portion is formed near the ends of a plurality of leads made of metal, and a dam for connecting the leads in a direction intersecting the longitudinal direction of the leads is provided; Forming a cut from the bed portion side along the lead in a part of the dam between the leads, fixing a semiconductor element to the bed portion, and electrically connecting the semiconductor element and the lead; A step of forming a sealing resin layer surrounding the semiconductor element at a position where the resin sealing is to be performed is in contact with an end surface on the bed portion side of the dam in which the cut is formed; and a step of cutting the dam from the lead. Method of manufacturing resin-encapsulated semiconductor device characterized by the following
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