JP2710440B2 - Soft magnetic alloy film - Google Patents

Soft magnetic alloy film

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JP2710440B2
JP2710440B2 JP2063808A JP6380890A JP2710440B2 JP 2710440 B2 JP2710440 B2 JP 2710440B2 JP 2063808 A JP2063808 A JP 2063808A JP 6380890 A JP6380890 A JP 6380890A JP 2710440 B2 JP2710440 B2 JP 2710440B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、磁気ヘッド等に適した軟磁性合金膜に関
する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a soft magnetic alloy film suitable for a magnetic head and the like.

[従来の技術] 磁気記録の分野においては、記録密度を高めるために
磁気テープ等の記録媒体の高保磁力化が推進されている
が、それに対応する磁気ヘッドの材料として飽和磁束密
度(Bs)の高いものが要求されている。
[Prior Art] In the field of magnetic recording, a recording medium such as a magnetic tape has been promoted to have a high coercive force in order to increase a recording density. However, as a material of a magnetic head corresponding thereto, a saturation magnetic flux density (Bs) is required. High things are required.

従来の高飽和磁束密度の軟磁性材料(膜)として、Fe
-Si-Al合金(センダスト)が代表的なものであるが、近
年、強磁性金属元素であるCoを主体とする非晶質の合金
膜が開発されている。
As a conventional soft magnetic material (film) with a high saturation magnetic flux density, Fe
A typical example is a -Si-Al alloy (Sendust). In recent years, an amorphous alloy film mainly composed of Co, which is a ferromagnetic metal element, has been developed.

また最近の試みとして、Feを主成分とする微細結晶か
らなる合金膜(Fe−C,Fe-Si等)により、Feの結晶磁気
異方性の影響(軟磁性に対する悪影響)を結晶の微細化
により軽減し、高飽和磁束密度でかつ軟磁気特性の優れ
た膜を得た例がある。
Further, as a recent attempt, the influence of the magnetocrystalline anisotropy of Fe (the adverse effect on soft magnetism) has been reduced by using an alloy film (Fe-C, Fe-Si, etc.) composed of fine crystals containing Fe as the main component. In some cases, a film having a high saturation magnetic flux density and excellent soft magnetic properties is obtained.

[発明が解決しようとする課題] ところで、磁気ヘッドを組み込んだ装置は小型化、軽
量化する傾向にあり、移動に伴う振動にさらされたり、
悪影響のもとで使用されたりすることが多くなってい
る。そこで、磁気ヘッドには、磁気特性が優秀であって
磁気テープに対する耐摩耗性が優れていることは勿論、
湿度や腐食性の雰囲気中での耐用性、すなわち耐環境性
や、耐振動性等が高いことが要求されている。そのた
め、ギャップ形成やケースへの組み込み等をガラス溶着
で行うことが必要となり、磁気ヘッドの素材はヘッドの
製造工程におけるガラス溶着工程の高温に耐え得ること
が必要である。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, devices incorporating a magnetic head tend to be reduced in size and weight, and are subject to vibration accompanying movement,
It is often used under adverse effects. Therefore, the magnetic head has excellent magnetic properties and, of course, excellent wear resistance to the magnetic tape,
It is required to have high durability in a humidity or corrosive atmosphere, that is, high environmental resistance, vibration resistance, and the like. For this reason, it is necessary to perform the gap formation, the incorporation into the case, and the like by glass welding, and the material of the magnetic head needs to be able to withstand the high temperature of the glass welding step in the head manufacturing process.

しかしながら、前記従来の軟磁性合金膜において、セ
ンダストからなるものは、飽和磁束密度が約10000G(ガ
ウス)程度であり、今後一層の高密度化の要求に対して
は不充分である。また、Co系のアモルファス合金膜では
13000G以上の高い飽和磁束密度のものも得られている
が、従来のアモルファス合金の飽和磁束密度を高くしよ
うとすると、アモルファス形成元素であるTi,Zr,Hf,Nb,
Ta,Mo,W等の添加量を少なくする必要があるが、添加量
を少なくすると、アモルファス構造の安定性が低下し、
ガラス溶着に必要な温度(約500℃以上)には耐え得な
い問題がある。
However, among the conventional soft magnetic alloy films, those made of sendust have a saturation magnetic flux density of about 10,000 G (Gauss), which is insufficient for a demand for higher density in the future. In addition, Co-based amorphous alloy films
Although high saturation magnetic flux density of more than 13000G has been obtained, when trying to increase the saturation magnetic flux density of conventional amorphous alloys, the amorphous forming elements Ti, Zr, Hf, Nb,
It is necessary to reduce the addition amount of Ta, Mo, W, etc., but if the addition amount is reduced, the stability of the amorphous structure decreases,
There is a problem that it cannot withstand the temperature required for glass welding (about 500 ° C. or higher).

更に、上述したFeを主成分とする微細結晶からなる合
金膜(Fe−C,Fe-Si等)は、高温で結晶成長を起こし、
軟磁気特性が劣化する(Fe−Cの場合、400℃が最大)
ために、やはりガラス溶着に適したものとは言い難い。
Furthermore, the alloy film (Fe-C, Fe-Si, etc.) composed of fine crystals containing Fe as a main component causes crystal growth at a high temperature,
Soft magnetic properties deteriorate (400 ° C maximum for Fe-C)
Therefore, it is hard to say that it is suitable for glass welding.

このような背景から本願発明者らは、特願平1-278220
号などにおいて、前記の問題を解決した軟磁性合金膜を
特許出願している。
Against this background, the present inventors have filed Japanese Patent Application No. 1-278220.
Patents have filed a patent application for a soft magnetic alloy film that solves the above problem.

特願平1-278220号明細書において特許出願している軟
磁性合金膜の1つは、組成式が、FeaMcCdで示され、組
成比aは原子%で50〜96、cは2〜30、dは0.5〜25、
a+c+d=100なる関係を満足するものであった。
One of the soft magnetic alloy films for which patent application is filed in Japanese Patent Application No. 1-278220 is a composition formula represented by FeaMcCd, wherein the composition ratio a is 50 to 96 in atomic%, c is 2 to 30, d is 0.5 to 25,
a + c + d = 100 was satisfied.

また、他の1つは、組成式がFeaTbMcCdで示され、組
成比aは原子%で50〜96、bは0.1〜10、cは2〜30、
dは0.5〜25、a+b+c+d=100なる関係を満足する
ものであった。
The other one is represented by the composition formula FeaTbMcCd, wherein the composition ratio a is 50 to 96 in atomic%, b is 0.1 to 10, c is 2 to 30,
d satisfies the relationship of 0.5 to 25 and a + b + c + d = 100.

この特許出願で提供した軟磁性合金膜は、一部組成の
ものは15000G以上の高い飽和磁束密度を有し、従来の各
種材料に比較すると高い熱安定性を備え、通常の使用環
境下では十分な耐食性と耐環境性を有しているが、Feを
主成分とするために、悪環境下で使用された場合は変色
あるいは発錆を招くおそれがあった。
The soft magnetic alloy film provided in this patent application has a high saturation magnetic flux density of 15000 G or more for some compositions, has high thermal stability compared to conventional various materials, and is sufficient under normal use environment. Although it has excellent corrosion resistance and environmental resistance, since it is mainly composed of Fe, there is a possibility that discoloration or rusting may occur when used in a bad environment.

本発明は上述の問題点を解決し、保磁力が小さく透磁
率が高く、その特性が熱的に安定であるとともに、高い
飽和磁束密度を示し、良好な耐食性を有する軟磁性合金
膜を提供することを目的とするものである。
The present invention solves the above problems, and provides a soft magnetic alloy film having low coercive force, high magnetic permeability, thermally stable characteristics, high saturation magnetic flux density, and good corrosion resistance. The purpose is to do so.

[課題を解決するための手段] 請求項1に記載した発明は前記課題を解決するため
に、組成式がFeaCrcMdCeで示され、MはTi,Zr,Hf,V,Nb,
Ta,Mo,Wのうち、少なくとも1種からなる金属元素又は
その混合物であり、組成比a,c,d,eは原子%で50≦a≦9
5、0.5≦c≦20、2≦d≦25、0.5≦e≦25、a+b+
c+d=100なる関係を満足させるとともに、その組織
が基本的に平均結晶粒径0.08μm以下の微細な結晶粒か
らなり、その一部が元素Mの炭化物の結晶相を含むもの
である。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the problems, the invention described in claim 1 has a composition formula represented by FeaCrcMdCe, and M represents Ti, Zr, Hf, V, Nb,
Ta, Mo, W are at least one metal element or a mixture thereof, and the composition ratios a, c, d, and e are 50 ≦ a ≦ 9 in atomic%.
5, 0.5 ≦ c ≦ 20, 2 ≦ d ≦ 25, 0.5 ≦ e ≦ 25, a + b +
The structure satisfies the relationship of c + d = 100, and its structure is basically composed of fine crystal grains having an average crystal grain size of 0.08 μm or less, and a part thereof includes a crystal phase of a carbide of the element M.

請求項2に記載した発明は前記課題を解決するため
に、組成式がFeaTbCrcMdCeで示され、TはCo,Niのうち
少なくとも1種からなる金属元素又はその混合物、Mは
Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Mo,Wのうち、少なくとも1種からな
る金属元素又はその混合物であり、組成比a,b,c,d,eは
原子%で50≦a≦95、0.1≦b≦10、0.5≦c≦20、2≦
d≦25、0.5≦e≦25、a+b+c+d+e=100なる関
係を満足させるとともに、その組織が、基本的に平均結
晶粒径0.08μm以下の微細な結晶粒からなり、その一部
が元素Mの炭化物の結晶相を含むものである。
In order to solve the above problem, the invention described in claim 2 has a composition formula represented by FeaTbCrcMdCe, where T is a metal element or a mixture thereof composed of at least one of Co and Ni, and M is
Among Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W, a metal element or a mixture of at least one of them, and the composition ratio a, b, c, d, and e is 50 ≦ a ≦ 95, 0.1 ≦ b ≦ 10, 0.5 ≦ c ≦ 20, 2 ≦
The relationship d ≦ 25, 0.5 ≦ e ≦ 25, a + b + c + d + e = 100 is satisfied, and the structure is basically composed of fine crystal grains having an average crystal grain size of 0.08 μm or less. It contains a crystalline phase.

請求項3に記載した発明は前記課題を解決するため
に、請求項1または2に記載の組織が基本的に平均粒径
0.08μm以下の結晶粒と非晶質相が混在した組織である
ものである。
According to a third aspect of the present invention, in order to solve the above-described problem, the structure according to the first or second aspect has a structure in which the average particle diameter is basically
The structure has a mixture of crystal grains of 0.08 μm or less and an amorphous phase.

以下に本発明を更に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

前記合金膜の生成方法としては、合金膜をスパッタ、
蒸着等の薄膜形成装置により作製する。スパッタ装置と
しては、RF2極スパッタ、DCスパッタ、マグネトロンス
パッタ、3極スパッタ、イオンビームスパッタ、対向タ
ーゲット式スパッタ、等の既存のものを使用することが
できる。
As a method of forming the alloy film, the alloy film is sputtered,
It is manufactured by a thin film forming apparatus such as evaporation. As the sputtering apparatus, existing apparatuses such as RF bipolar sputtering, DC sputtering, magnetron sputtering, tripolar sputtering, ion beam sputtering, and facing target type sputtering can be used.

また、Cを膜中に添加する方法としては、ターゲット
板上にグラファイトのペレットを配置して符号ターゲッ
トとし、これをスパッタする方法、あるいは、Cを含ま
ないターゲット(Fe-Cr−M系あるいはFe−T−Cr−M
系)を用い、Ar等の不活性ガス中にメタン(CH4)等の
炭化水素ガスを混合したガス雰囲気でスパッタする反応
性スパッタ法等を用いることができ、特に反応性スパッ
タ法では膜中のC濃度の制御が容易であるので所望のC
濃度の優れた膜を得ることができる。
As a method of adding C into the film, a graphite pellet is placed on a target plate to serve as a code target, and this is sputtered. Alternatively, a target containing no C (Fe-Cr-M or Fe-Cr-M type) is used. -T-Cr-M
And a reactive sputtering method in which a gas atmosphere in which an inert gas such as Ar is mixed with a hydrocarbon gas such as methane (CH 4 ) can be used. It is easy to control the C concentration of
A film having an excellent concentration can be obtained.

このようにして作製したままの膜はアモルファス相を
かなりの割合で含んだものであり、不安定であるので、
400〜700℃程度に加熱する熱処理を施すことによって微
結晶を折出させる。そして、この熱処理を無磁場、静磁
場中あるいは回転磁場中で行うことにより、優れた軟磁
気特性が得られる。また、この熱処理は磁気ヘッドの製
造工程におけるガラス溶着工程と兼ねて行うことができ
る。
Since the film thus produced contains an amorphous phase in a considerable proportion and is unstable,
Microcrystals are deposited by performing a heat treatment of heating to about 400 to 700 ° C. By performing this heat treatment without a magnetic field, a static magnetic field, or a rotating magnetic field, excellent soft magnetic characteristics can be obtained. Further, this heat treatment can be performed also as a glass welding step in the manufacturing process of the magnetic head.

なお、前記微結晶の折出工程は、完全に行なわれる必
要はなく、微結晶が相当数(好ましくは50%以上)折出
していれば良いので、アモルファス成分が一部残留して
いても差し支えなく、残留したアモルファス成分が特性
向上の障害となることはない。
Note that the step of depositing the microcrystals does not need to be performed completely, and it suffices if a considerable number (preferably 50% or more) of the microcrystals are deposited. Therefore, the remaining amorphous component does not hinder the improvement of the characteristics.

以下、前記のように成分を限定した理由について述べ
る。
Hereinafter, the reasons for limiting the components as described above will be described.

Feは主成分であり、磁性を担う元素であって、少なく
ともフェライト(Bs 5000G)以上の飽和磁束密度を得る
ためには、a≧50%が必要である。また、良好な軟磁気
特性を得るためには、a≦95%でなければならない。
Fe is a main component and is an element bearing magnetism, and a ≧ 50% is required to obtain a saturation magnetic flux density of at least ferrite (Bs 5000 G) or more. In order to obtain good soft magnetic properties, a ≦ 95% must be satisfied.

元素T(即ちCo,Ni)は、磁歪の調整の目的で添加す
る元素である。Fe−M−C膜の場合、熱処理温度が低い
と磁歪が正になり、熱処理温度が高いと磁歪が負にな
る。高い熱処理温度(ガラス溶着温度)を必要とする場
合、磁歪を正にする効果のあるNi,Coを適量添加するこ
とにより、磁歪をほぼ零にすることができる。なお、熱
処理温度が適当な場合、元素Tの添加は特に必要ない
が、Tの添加は正の磁歪が+10-5台以上まで大きくなら
ないようにb≦10%としなくてはならない。
The element T (that is, Co, Ni) is an element added for the purpose of adjusting magnetostriction. In the case of the Fe-MC film, when the heat treatment temperature is low, the magnetostriction becomes positive, and when the heat treatment temperature is high, the magnetostriction becomes negative. When a high heat treatment temperature (glass welding temperature) is required, the magnetostriction can be made almost zero by adding an appropriate amount of Ni and Co, which have the effect of making the magnetostriction positive. If the heat treatment temperature is appropriate, the addition of element T is not particularly necessary, but the addition of T must be b ≦ 10% so that the positive magnetostriction does not increase to the order of +10 −5 or more.

元素Mは軟磁気特性を良好にするために必要であり、
またCと結合して炭化物の微細結晶を形成する。良好な
軟磁気特性を維持するためには、d≧2%とする必要が
あるが、多すぎると飽和磁束密度が低下してしまうの
で、d≦25%とする必要がある。
Element M is necessary for improving soft magnetic properties,
Further, it combines with C to form carbide fine crystals. In order to maintain good soft magnetic characteristics, it is necessary to satisfy d ≧ 2%. However, if the amount is too large, the saturation magnetic flux density decreases. Therefore, it is necessary to satisfy d ≦ 25%.

Cは軟磁気特性を良好にするため、及び、耐熱性を向
上させるために必要であり、Cと元素Mと結合して炭化
物の微細結晶を形成する。良好な軟磁気特性、及び、熱
的安定性を維持するためには、e≧0.5%とする必要が
あるが、多すぎると飽和磁束密度が低下してしまうの
で、e≦25%とする必要がある。
C is necessary for improving soft magnetic properties and improving heat resistance, and combines with C and the element M to form carbide fine crystals. In order to maintain good soft magnetic properties and thermal stability, it is necessary to satisfy e ≧ 0.5%. However, if the amount is too large, the saturation magnetic flux density decreases. There is.

元素Mの炭化物の微細結晶は磁壁のピンニングサイト
として働き、透磁率の高周波特性を向上させる働きがあ
るとともに、膜中に均一に分散させることで、Feの微結
晶が熱処理により成長して軟磁性を損うことを防止する
働きがある。つまり、Feの結晶粒が成長して大きくなる
と結晶磁気異方性の悪影響が大きくなり、軟磁気特性が
悪化するが、元素Mの炭化物の微結晶がFeの粒成長の障
壁として働くことにより軟磁気特性の悪化を防止する。
The fine crystals of the carbide of element M act as pinning sites for the magnetic domain walls, have the function of improving the high-frequency characteristics of magnetic permeability, and are uniformly dispersed in the film, so that the fine crystals of Fe grow by heat treatment and become soft magnetic. It has the function of preventing damage. In other words, when the Fe crystal grains grow and become large, the adverse effect of the magnetocrystalline anisotropy increases and the soft magnetic properties deteriorate, but the fine crystals of the carbide of the element M act as barriers for the Fe grain growth, and the soft magnetic properties deteriorate. Prevent deterioration of magnetic properties.

以上説明のFeと元素Tと元素MとCの成分限定理由は
特願平1-278220号の場合と同等である。
The reasons for limiting the components of Fe, element T, element M and C described above are the same as in the case of Japanese Patent Application No. 1-278220.

Crは耐食性を向上させるために添加する元素である
が、c≧0.5%としなければ耐食性の改善効果が現れな
い。また、c≧20%とすると飽和磁束密度が低くなり過
ぎる(フェライト以下になる)ので好ましくない。
Cr is an element added to improve corrosion resistance. However, unless c ≧ 0.5%, the effect of improving corrosion resistance does not appear. If c ≧ 20%, the saturation magnetic flux density becomes too low (below ferrite), which is not preferable.

そして、金属組織が基本的に0.08μm以下の微結晶か
らなっているから、非晶質に比べて熱的安定性に優れて
おり、添加元素を少なくでき、飽和磁束密度を高くする
ことができる。
And, since the metal structure is basically composed of microcrystals of 0.08 μm or less, it is excellent in thermal stability as compared with amorphous, can reduce the number of added elements, and can increase the saturation magnetic flux density .

[作用] 上記軟磁性合金膜においては、その組織がFeに富む結
晶を主体とし、飽和磁束密度を低下させる成分の添加が
制限されているから、非晶質状態に比べ鉄原子1個あた
りの磁気モーメントおよびキュリー温度が高くなってお
り、高い飽和磁束密度が得られる。また、元素M及びC
が含まれているとともに、金属組織が微細な結晶粒から
なっており、結晶磁気異方性による軟磁性への悪影響が
軽減されるので、良好な軟磁気特性が得られる。更に、
元素Mの炭化物が析出してFeを主成分とする結晶粒の成
長を抑えるので、ガラス溶着工程において加熱されて
も、結晶粒が粗大化することがない。更にまた、Crを特
定量添加しているので耐食性が向上し、耐環境性に優れ
る。
[Action] In the soft magnetic alloy film, the structure is mainly composed of Fe-rich crystals, and the addition of a component that reduces the saturation magnetic flux density is restricted. Since the magnetic moment and the Curie temperature are high, a high saturation magnetic flux density can be obtained. In addition, the elements M and C
And the metal structure is composed of fine crystal grains, and the adverse effect on the soft magnetism due to the magnetocrystalline anisotropy is reduced, so that good soft magnetic properties can be obtained. Furthermore,
Since the carbide of the element M precipitates and suppresses the growth of crystal grains containing Fe as a main component, the crystal grains do not become coarse even when heated in the glass welding step. Furthermore, since a specific amount of Cr is added, the corrosion resistance is improved and the environment resistance is excellent.

[実施例] (1) 成膜 RF2極スパッタ装置を用いて、後記の第1表に示す組
成の合金膜を形成した。
[Examples] (1) Film formation An alloy film having the composition shown in Table 1 below was formed using an RF bipolar sputtering apparatus.

使用したターゲットは、Feターゲット上にTa,Cr,Ni,
グラファイトの各ペレットを適宜配置して構成した複合
ターゲットを用い、Arガス雰囲気中でスパッタを行って
膜厚5〜6μmの薄膜を形成した。
The target used was Ta, Cr, Ni,
Using a composite target formed by appropriately arranging graphite pellets, sputtering was performed in an Ar gas atmosphere to form a thin film having a thickness of 5 to 6 μm.

(2) 熱処理 成膜後、550℃で20分間保持するアニールを行った。
このアニールには、静磁場中で行うものと無磁場中で行
うものの2種類を実施した。
(2) Heat treatment After film formation, annealing was performed at 550 ° C. for 20 minutes.
Two types of annealing were performed, one in a static magnetic field and the other in a non-magnetic field.

(3) 測定 前記のように製造された合金膜と、スパッタにより成
膜したCrを含有しない合金膜(特願平1-278220号におい
て特許出願している発明に係る合金膜)について、静磁
場アニール後あるいは無磁場アニール後における飽和磁
束密度(Bs)と、初透磁率(μ、atl MHz)および保磁
力(Hc)の測定を行った。以下の結果を第1表に示す。
(3) Measurement The static magnetic field was measured for the alloy film manufactured as described above and a Cr-free alloy film formed by sputtering (an alloy film according to the invention filed in Japanese Patent Application No. 1-278220). The saturation magnetic flux density (Bs), initial magnetic permeability (μ, atl MHz), and coercive force (Hc) after annealing or after no-magnetic-field annealing were measured. The following results are shown in Table 1.

第1表のサンプル1の比較例は、本発明者らが先に特
許出願しているもので、Crの添加のみを省略したもので
あるが、この組成にCrを添加しても初透磁率と保磁力な
どの軟磁気特性の劣化はほとんど問題にならないことが
判明した。
The comparative example of Sample 1 in Table 1 was previously applied for a patent by the present inventors, in which only the addition of Cr was omitted. It was also found that deterioration of soft magnetic properties such as coercive force was hardly a problem.

前記と同様な方法で作製した軟磁性合金膜を純水中に
240時間浸漬した後の変色状況を目視で判定した結果を
以下の第2表に示す。
A soft magnetic alloy film prepared in the same manner as above was placed in pure water.
Table 2 below shows the results of visually determining the discoloration state after immersion for 240 hours.

第2表に示す結果から、Crを添加することで耐食性を
向上できることが明らかになった。
From the results shown in Table 2, it became clear that the corrosion resistance can be improved by adding Cr.

[発明の効果] 以上詳述したようにこの発明は、Feを主成分とする微
細な結晶粒から主になる軟磁性合金膜であり、飽和磁束
密度を低下させる成分の添加が制限されているから、高
い飽和磁束密度が得られる。更に、従来のアモルファス
合金膜とは異なり、無磁場中で熱処理を行っても高い透
磁率を発揮する膜を得ることができ、磁場をかけて熱処
理する場合よりも工程の簡略化をなしえる。
[Effects of the Invention] As described in detail above, the present invention is a soft magnetic alloy film mainly composed of fine crystal grains containing Fe as a main component, and the addition of a component that reduces the saturation magnetic flux density is limited. Therefore, a high saturation magnetic flux density can be obtained. Further, unlike a conventional amorphous alloy film, a film exhibiting high magnetic permeability can be obtained even when heat treatment is performed in the absence of a magnetic field, and the process can be simplified as compared with the case where heat treatment is performed by applying a magnetic field.

また、元素M(Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Mo.W)及びCとい
う軟磁性を良好とする成分が添加されるとともに、金属
組織が微細な結晶粒から成り、結晶磁気異方性による軟
磁性への悪影響が軽減されるので、良好な軟磁気特性が
得られる。
In addition, elements M (Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo.W) and C, which improve soft magnetism, are added, and the metal structure is composed of fine crystal grains, and the crystal magnetic Since the adverse effect on soft magnetism due to anisotropy is reduced, good soft magnetic properties can be obtained.

更に、微細な結晶粒からなるとともに、添加された元
素MがCと炭化物を形成するから、ガラス溶着工程にお
いて加熱されても、結晶粒が粗大化することがなく、上
記の特性を維持するので、高密度記録に要求される高い
性能を有する磁気ヘッドの素材として好適である。
Furthermore, since the crystal is composed of fine crystal grains and the added element M forms a carbide with C, the crystal grains are not coarsened even when heated in the glass welding step, and the above characteristics are maintained. It is suitable as a material for a magnetic head having high performance required for high-density recording.

更にまた、上記組成に加えて元素T(Co,Ni)を添加
し、磁歪を調整することにより、磁気ヘッド製造工程で
生じる種々の歪による軟磁気特性の劣化を防ぐことがで
きるものである。
Furthermore, by adding the element T (Co, Ni) in addition to the above composition and adjusting the magnetostriction, it is possible to prevent the soft magnetic properties from deteriorating due to various strains generated in the magnetic head manufacturing process.

そして、前記成分にCrを特定量添加しているので、Fe
基の合金としては耐食性に優れ、悪影響下であっても変
色や発錆を生じない特徴がある。
And since a specific amount of Cr is added to the above components, Fe
The base alloy has excellent corrosion resistance and does not cause discoloration or rust even under adverse effects.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11B 5/31 G11B 5/31 C ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Agency reference number FI Technical display location G11B 5/31 G11B 5/31 C

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】組成式がFeaCrcMdCeで示され、MはTi,Zr,
Hf,V,Nb,Ta,Mo,Wのうち、少なくとも1種からなる金属
元素又はその混合物であり、組成比a,c,d,eは原子%で 50≦a≦95 0.5≦c≦20 2≦d≦25 0.5≦e≦25 a+c+d+e=100 なる関係を満足させるとともに、その組織が基本的に平
均結晶粒径0.08μm以下の微細な結晶粒からなり、その
一部に元素Mの炭化物の結晶相を含むことを特徴とする
軟磁性合金膜。
1. A composition formula represented by FeaCrcMdCe, wherein M is Ti, Zr,
Among Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W, a metal element or a mixture of at least one of them, and the composition ratios a, c, d, and e are 50% a ≦ 95 0.5 ≦ c ≦ 20 in atomic%. 2 ≦ d ≦ 25 0.5 ≦ e ≦ 25 a + c + d + e = 100, and the structure is basically composed of fine crystal grains having an average crystal grain size of 0.08 μm or less. A soft magnetic alloy film comprising a crystalline phase.
【請求項2】組成式がFeaTbCrcMdCeで示され、TはCo,N
iのうち少なくとも1種からなる金属元素又はその混合
物、MはTi,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Mo,Wのうち、少なくとも1
種からなる金属元素又はその混合物であり、、組成比a,
b,c,d,eは原子%で 50≦a≦95 0.1≦b≦10 0.5≦c≦20 2≦d≦25 0.5≦e≦25 a+b+c+d+e=100 なる関係を満足させるとともに、その組織が基本的に平
均結晶粒径0.08μm以下の微細な結晶粒からなり、その
一部に元素Mの炭化物の結晶相を含むことを特徴とする
軟磁性合金膜。
2. The composition formula is represented by FeaTbCrcMdCe, where T is Co, N
i is a metal element composed of at least one of i or a mixture thereof, and M is at least one of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W
A metal element or a mixture thereof, comprising a composition ratio a,
b, c, d, and e are atomic%, and the following relationship is satisfied: 50 ≦ a ≦ 95 0.1 ≦ b ≦ 10 0.5 ≦ c ≦ 20 2 ≦ d ≦ 25 0.5 ≦ e ≦ 25 a + b + c + d + e = 100 A soft magnetic alloy film comprising fine crystal grains having an average crystal grain size of 0.08 μm or less, and partially including a crystal phase of a carbide of the element M.
【請求項3】請求項1または2に記載の組織が平均結晶
粒径0.08μm以下の微細な結晶粒と非晶質相との混在し
た組織であることを特徴とする軟磁性合金膜。
3. The soft magnetic alloy film according to claim 1, wherein the structure is a mixture of fine crystal grains having an average crystal grain size of 0.08 μm or less and an amorphous phase.
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