JP2705117B2 - 焦電材料のドライエッチング装置 - Google Patents

焦電材料のドライエッチング装置

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JP2705117B2 JP63153187A JP15318788A JP2705117B2 JP 2705117 B2 JP2705117 B2 JP 2705117B2 JP 63153187 A JP63153187 A JP 63153187A JP 15318788 A JP15318788 A JP 15318788A JP 2705117 B2 JP2705117 B2 JP 2705117B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は表面弾性波フィルター等に用いられる焦電材
料の加工プロセスにおけるドライエッチング装置に関す
るものである。
従来の技術 近年、表面弾性波を通信工学の領域に採用する試みが
急速に高まっており、その主基板となる焦電材料の加工
上の取り扱いが問題となっている。従来のドライエッチ
ング装置について説明する。第2図は平行平板電極型ド
ライエッチング装置の概略構成図である。第2図におい
ては、1は対向電極、2は基板電極で整合器3,高周波電
源4が接続されている。5,6は対向電極1および基板電
極2を冷却するための媒体の出入口である。基板電極は
絶縁体7により絶縁された被エッチング試料となる焦電
材料基板8が載置されてる。9は焦電材料基板8を移載
するための昇降手段であり、10は反応ガス供給口、11は
排気口であり、排気口11には容器内圧力を一定にするた
めの図示しない排気手段が接続されている。以上のよう
に構成されたドライエッチング装置に反応ガスガ供給さ
れかつ一定の圧力で保持された状態で、高周波電力が印
加すると、対向電極1と基板電極2間においては反応ガ
スがプラズマ化し、焦電材料基板8上に形成した被エッ
チング試料は上記反応ガスプラズマの物理化学反応によ
って除去排出され、エッチングが進行する。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記構成の平行平板型ドライエッチン
グ装置においては、反応ガスプラズマの物理化学反応に
よって焦電材料が加熱され、そのさい焦電効果により焦
電材料が電気的に分極され、わずかな衝撃でも割れ、破
損を生じるのでエッチング後の冷却に長時間を必要とす
るという問題点と、焦電材料の電気的な分極により、静
電吸着が発生し、搬送ミスを起こすという問題点を有し
ていた。本発明は上記問題点に鑑み、焦電材料を含む基
板上の被エッチング膜のドライエッチング終了後、基板
電極と焦電材料の電気的な分極による静電吸着を生じさ
せることなく搬送させることができる焦電材料のドライ
エッチング方法を提供するものである。
課題を解決するための手段 上記問題点を解決するために、本発明は、被エッチン
グ試料の焦電材料基板を載置するトレイ上に焦電材料基
板が点接触するように数個の突起を備えたものである。
作用 上記した構成によって焦電材料が反応ガスプラズマの
物理化学反応による熱で生じる焦電効果で電気的に分極
するがトレイ上の突起により静電吸着が防止される。し
たがって焦電材料の電気的に分極による静電吸着を生じ
させることなく焦電材料の搬送を行うことができる。
実 施 例 以下本発明の一定実施例のドライエッチング方法につ
いて図面を参照しながら説明する。本発明の第1の実施
例及び第2の実施例におけるドライエッチング方法を実
施するドライエッチング装置の構成は従来例のドライエ
ッチング装置である第3図と同様である。本発明の第1
の実施例においては、基板電極2上には突起15が設置さ
れたトレイ16が載置され、そして、トレイ16上には突起
15を介して被エッチング試料である焦電材料基板8が載
置されている。この焦電材料基板8は、AlあるいはAl合
金の金属膜13を焦電材料13の上に形成し、この金属膜13
の上にホトレジスト14を一体的に構成したものである。
突起15はφ2mm厚さ0.1mmのものを4個用いた。以下、上
記構成における作用について第1図,第3図とともに説
明する。まず、第1図において突起15が設置されたトレ
イ16上に被エッチング試料である焦電材料基板8を載置
する。焦電材料基板8を載置したトレイ16を基板電極2
上に載置する。次に、第3図において容器内を図示しな
い排気手段によって容器内圧力を一定にした後、反応ガ
スが供給され、一定の圧力で保持された状態で高周波電
力が印加されると対向電極1と基板電極2間において反
応ガスがプラズマ化し、焦電材料基板8上に形成した金
属膜13(第1図参照)は上記反応ガスプラズマの物理化
学反応によって除去排出され、エッチングが進行する。
本実施例によれば、突起15により、焦電材料基板8と
トレイ16は面接触することがないために、焦電材料基板
8とトレイ16との吸着が防げるために、容易に搬送する
ことができる。
発明の効果 以上のように、本発明によれば、焦電材料上に形成し
た被エッチング膜を反応ガスプラズマの物理化学反応に
よって除去排出する時反応ガスプラズマにより焦電材料
が加熱されるが、トレイ上に設けた突起によって焦電材
料の瞬時的温度変化の軽減が図れると共に、突起により
トレイに面接触することがないために、焦電材料の吸着
が防げるために容易に搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例の基板電極部の概略構成
図、第2図は従来の平行平板型ドライエッチング装置の
構成図である。 1……対向電極、2……基板電極、3……整合器、4…
…高周波電源、5,6……冷却媒体の出入口、7……絶縁
体、8……焦電材料基板、10……反応ガス供給口、11…
…排気口、12……焦電材料、13……AlあるいはAl合金
膜、14……レジストパターン、15……突起、16……トレ
イ。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】真空容器内に焦電材料からなる基板を載置
    する基板電極と、前記基板電極に平行して載置された対
    向電極と、前記基板電極と前記対向電極の間に高周波電
    力を印加する手段と、前記真空容器内に反応ガスを供給
    する手段と、前記真空容器内を真空排気する手段とを有
    するドライエッチング装置において、試料を表面に突起
    を有するトレイに載せた状態で基板電極上に載置したこ
    とを特徴とする焦電材料のドライエッチング装置。
JP63153187A 1988-06-21 1988-06-21 焦電材料のドライエッチング装置 Expired - Fee Related JP2705117B2 (ja)

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JPS5813009A (ja) * 1981-07-17 1983-01-25 Toshiba Corp 弾性表面波素子の製造方法及びその装置
JPS5976427A (ja) * 1982-10-14 1984-05-01 Fujitsu Ltd プラズマ処理装置

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