JP2702307B2 - 指紋特徴修正システム - Google Patents
指紋特徴修正システムInfo
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- JP2702307B2 JP2702307B2 JP3098258A JP9825891A JP2702307B2 JP 2702307 B2 JP2702307 B2 JP 2702307B2 JP 3098258 A JP3098258 A JP 3098258A JP 9825891 A JP9825891 A JP 9825891A JP 2702307 B2 JP2702307 B2 JP 2702307B2
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- feature
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Description
に押捺原紙に押捺された指紋や犯罪現場から採取された
遺留指紋の品質向上を図るための指紋特徴修正システム
に関するものである。
登録されている指紋像との照合を行うものであるが、こ
の場合特徴点の位置,方向,近傍特徴点間隆線数等の情
報の一致、不一致により両指紋の照合を行うのが一般的
である。
昭55−138174号公報を始め多くの提案がなされている。
この様な特徴抽出処理においては、遺留指紋の如く低品
質の指紋像に対して、指紋隆線をトレースした後、この
トレース図形を用いて特徴点の抽出が行われる。
や、未抽出特徴点の追加等の修正処理が不可欠となる。
この様な修正処理には多大の時間と作業を必要とすると
いう欠点がある。
特徴点間隆線数の訂正等の修正作業を極めて簡単に行う
ことができる指紋特徴修正システムを提供することであ
る。
被修正対象の指紋像を入力する入力手段と、この入力さ
れた指紋像を二次元量子化画像データに変換する変換手
段と、この変換された二次元量子化画像データから特徴
点を抽出する特徴点抽出手段と、この抽出された特徴点
に関して各近傍特徴点対の間に存在する隆線間の平均距
離を算出する平均隆線間距離算出手段と、前記特徴点抽
出手段により抽出された特徴点を前記二次元量子化画像
に重畳して表示する表示手段と、この表示された二次元
画像上において、指紋特徴点の種類、位置及び方向の追
加指示に応答して特徴点を追加する特徴点追加手段と、
この表示された二次元画像上において、特徴点削除指示
に応答して特徴点を削除する特徴点削除手段と、前記追
加手段及び削除手段による追加及び削除処理の終了後
に、前記各近傍特徴点対の間の隆線数を算出する隆線数
算出手段と、特徴点毎にその位置、方向及び近傍特徴点
間隆線数を示す特徴点リストを生成するリスト生成手段
と、外部指示に応答して前記特徴点リスト内の近傍特徴
点間隆線数部分の数値の修正をなす隆線数修正手段とを
含むことを特徴とする。
詳細に説明する。
チャートであり、図2は本発明の実施例の構成を示すシ
ステムブロック図である。
に押捺された指紋または犯罪現場から採取された遺留指
紋を光電変換する指紋画像入力部20と、この光電変換
信号を画像データに変換するA/D変換部21と、画像
の入力制御を行う画像入力制御部22と、画像データを
記憶する画像記憶部23と、表示部30に表示された指
紋画像及び特徴点等に対する指示を入力する指示部29
と、指紋画像及び特徴点を表示する表示部30と、画像
記憶部23から画像データを入力することにより修正を
行う修正処理部28とを含む。
画像データと指示部29からの修正対象となる指紋画像
に関する情報とを入力とし、かつ表示部30に出力する
インタフェース部24と、作業メモリ27と、修正処理
のためのプログラムが格納されたプログラムメモリ26
と、プログラムにより制御される中央処理部25とによ
り構成される。
ムの動作を図1のフローチャートを参照しつつ詳細に説
明する。
して指紋画像が中央処理部25へ入力され(ステップ
1)、端点及び分岐点を示す特徴点や近傍特徴点対等の
指紋特徴が自動抽出される(ステップ2)。指紋画像の
入力及び指紋特徴の自動抽出は特開昭55-138174 号公報
に開示されている方法を用いるものとし、ここではその
説明を省略する。
間距離が算出される(ステップ3)。この平均隆線間距
離の算出方法については図3のフローチャートにより後
述する。
イス24を通して表示部30に表示され、自動抽出され
た特徴点が指紋画像に重畳されて表示される(ステップ
4)。これらの表示方法は公知なる技術で容易に実現可
能であるため詳細は略す。
正作業を行う場合は、指示部29よりマウス等で修正の
対象となる指紋上の位置を指示し(ステップ5)、指示
した位置に特徴点が既に表示されている場合は、特徴点
削除処理(ステップ6,8)となり特徴点が削除され、
一方、指定した位置に特徴点が表示されていない場合
は、特徴点追加処理(ステップ6,7)となり特徴点が
追加される。
れる特徴点種別メニュー画面上で特徴点の種類、即ち端
点か分岐点を選択し(ステップ71)、特徴点の方向を
指定すること(ステップ72)によって特徴点の追加を
行う。
定された特徴点は、外部インターフェイス24を通して
指紋画像に重畳されて表示部30に表示される(ステッ
プ9)。指紋画像との重畳表示は公知なる技術で容易に
実現可能であるため詳細は略す。
後(ステップ10)、特徴点追加処理または特徴点削除
処理に伴って変化した近傍特徴点対が逐次に自動表示さ
れ(ステップ11)、近傍特徴点間隆線数自動推定処理
(ステップ12)により推定された隆線数が自動的に表
示される(ステップ121 ,122 )。
74号公報に開示されている方法、即ち、ある特徴点(例
えば図7(a)のM)に対して、その位置と方向によっ
て決まる局所座標系(x−y)の象限の夫々において、
当該特徴点Mに対し最も近くにある特徴点(例えば図7
(a)のm1 〜m4 )を夫々対とする方法を用い、近傍
特徴点間隆線数の自動推定処理については図6のフロー
チャートにより後述するものとする。その後、各特徴点
毎のマニューシャ(特徴)リストが作成される(ステッ
プ13)。このマニューシャリストについても後述する
ものとする。
オペレータが確認または必要であれば、作成されたマニ
ューシャリスト内の対応隆線数部分に修正数値を代入す
る(ステップ14)ことによって修正近傍特徴点間隆線
数を修正する。
3)を図3のフローチャートに従い、図4,5に基づい
て述べる。
れらの方向を示す単位ベクトルd1,d2 より、m1 ,
m2 間の隆線の方向を示すベクトルd12を以下の(1)
式で求める(ステップ32)。
に示すように2つの方向がなす角が90度以下の場合を
示し、(1)式の下段の式は、例えば図5(b)に示す
ように2つの方向がなす角が90度より大きい場合を示
す。この値を基に(2)式により定義される特徴間垂直
距離V12を算出する(ステップ33)。
近傍特徴点対m1 とm2との間の方向と長さを示すベク
トルであり、|m21|はベクトルm21の長さを示す。
数を検出する(ステップ34)。図4の例では、隆線数
として3が検出されることになる。
の特徴点間の垂直距離とその間の隆線数とがステップ3
1〜34を繰返すことにより得られる。従って全ての特
徴点間垂直距離の和Sと(ステップ35)、隆線数の和
Nとが夫々算出され(ステップ36)、次の(3)式か
ら平均隆線間距離Vが算出される(ステップ37)。
て、平均隆線間距離Vが算出されるのである。
(ステップ121 )について図6のフローチャートに従っ
て図4,5を参照しつつ説明する。
削除処理(ステップ8)に伴って変化した近傍特徴点対
m1 ,m2 とそれ等の方向を示す単位ベクトルd1 ,d
2 とから、m1 ,m2 間の隆線の方向を示すベクトルd
12を上記(1)式と同じ様に求める(ステップ123 )。
間の垂直距離Vを算出する(ステップ124 )。次に、先
の平均隆線間距離算出処理(ステップ3)により得られ
た(3)式の平均隆線間距離Vを用いて、近傍特徴点間
隆線数RCを以下の(4)式で推定する(ステップ125
)。
るのである。
ャリスト(特徴)リストが作成される。図7(a)はあ
る特徴点Mとその近傍特徴点m1 〜m4との関係を示す
一例であり、(b)は特徴点Mに関するマニューシャリ
ストを示す図である。
置(X,Y)、紋様方向D、近傍特徴点との間のリレー
ションR1 〜R4 からなり、1指紋内に複数存在する特
徴点全てについてリスト状に表現したものである。
であって図1の処理ステップ12で算出された値であ
り、特徴点Mに対する近傍特徴点mi (図7(a)では
i=1〜4)との間の隆線数ri を表わす。
リストの作成後、ステップ14により近傍特徴点間隆線
数の修正が可能となっている。すなわち、図7(b)に
示したマニューシャリスト中のri の部分を、オペレー
タが指示部29から修正指示することができるようにな
っている。
の修正作業が外部からの指示により簡単に行うことがで
きるので、遺留指紋の品質が向上し、指紋照合が迅速か
つ正確に行えるという効果がある。
である。
例を夫々示す図である。
ートである。
m4 との間のリレーションを示す図、(b)はマニュー
シャリストを示す図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 被修正対象の指紋像を入力する入力手段
と、この入力された指紋像を二次元量子化画像データに
変換する変換手段と、この変換された二次元量子化画像
データから特徴点を抽出する特徴点抽出手段と、この抽
出された特徴点に関して各近傍特徴点対の間に存在する
隆線間の平均距離を算出する平均隆線間距離算出手段
と、前記特徴点抽出手段により抽出された特徴点を前記
二次元量子化画像に重畳して表示する表示手段と、この
表示された二次元画像上において、指紋特徴点の種類、
位置及び方向の追加指示に応答して特徴点を追加する特
徴点追加手段と、この表示された二次元画像上におい
て、特徴点削除指示に応答して特徴点を削除する特徴点
削除手段と、前記追加手段及び削除手段による追加及び
削除処理の終了後に、前記各近傍特徴点対の間の隆線数
を算出する隆線数算出手段と、特徴点毎にその位置、方
向及び近傍特徴点間隆線数を示す特徴点リストを生成す
るリスト生成手段と、外部指示に応答して前記特徴点リ
スト内の近傍特徴点間隆線数部分の数値の修正をなす隆
線数修正手段とを含むことを特徴とする指紋修正システ
ム。
Priority Applications (6)
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---|---|---|---|
JP3098258A JP2702307B2 (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 指紋特徴修正システム |
CA002064926A CA2064926C (en) | 1991-04-03 | 1992-04-02 | Fingerprint image processing system capable of simply processing minutiae |
DE69231214T DE69231214T2 (de) | 1991-04-03 | 1992-04-03 | System zur Fingerabdruckbildverarbeitung mit Fähigkeit zur einfachen Minutiaeverarbeitung |
EP92105779A EP0507319B1 (en) | 1991-04-03 | 1992-04-03 | Fingerprint image processing system capable of simply processing minutiae |
AU14029/92A AU657520B2 (en) | 1991-04-03 | 1992-04-03 | Fingerprint image processing system capable of simply processing minutiae |
US08/437,889 US5524161A (en) | 1991-04-03 | 1995-05-10 | Fingerprint image processing system capable of simply processing minutiae |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3098258A JP2702307B2 (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 指紋特徴修正システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04306778A JPH04306778A (ja) | 1992-10-29 |
JP2702307B2 true JP2702307B2 (ja) | 1998-01-21 |
Family
ID=14214933
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3098258A Expired - Lifetime JP2702307B2 (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 指紋特徴修正システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2702307B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
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WO2013176134A1 (ja) * | 2012-05-22 | 2013-11-28 | Necソフト株式会社 | 指紋特徴点表示入力装置、指紋特徴点表示入力方法、及び指紋特徴点表示入力プログラム |
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-
1991
- 1991-04-03 JP JP3098258A patent/JP2702307B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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