JP2698300B2 - 蛍光方式光学検査機対応回路基板 - Google Patents

蛍光方式光学検査機対応回路基板

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JP2698300B2
JP2698300B2 JP26002992A JP26002992A JP2698300B2 JP 2698300 B2 JP2698300 B2 JP 2698300B2 JP 26002992 A JP26002992 A JP 26002992A JP 26002992 A JP26002992 A JP 26002992A JP 2698300 B2 JP2698300 B2 JP 2698300B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子機器などに用いら
れるプリント配線板用回路基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、プリント配線板の導体パターン層
上における回路断線、回線欠損、銅箔残存等の不良品を
抽出するための検査は、人による目視あるいは回路間に
電流を流すことによって行われてきたが、パターンが細
線化、ファイン化するにつれてこれらの方法では不良品
を検知することが不可能になってきた。そこで検査対象
物にレーザー光を照射することにより光学的に情報を取
込み、パターンの外観上の異常を検出する光学検査機が
使われるようになってきた。一般に光学検査機では反射
光認式方法と蛍光認式方法がある。反射方式は銅箔にレ
ーザー光を直接当てて、その反射してきた光を検知する
ため、銅箔のキズの判定も可能であることから外層検査
に多く使用されている。一方蛍光方式はパターンをボト
ム部分でも認式可能なことから内層検査にも多く使用さ
れている。ところが、蛍光方式の場合、エポキシ樹脂に
硬化剤、硬化促進剤を配合せしめ、これをガラス基材に
含浸乾燥して得られたエポキシ樹脂プリプレグを積層し
た従来のプリント配線板においては、絶縁基材部分にレ
ーザー光を照射した際、発する蛍光が弱く、裏面の回路
の影響や基材面に付着しているゴミの影響で誤報の発生
率が多いという欠点があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、従来のプリント配線板としての性能を維持しつ
つ、蛍光方式光学検査機に対応しうる積層板を得ること
である。このため本発明者は440nm付近の光を効率
よく吸収し、450〜550nmの光を発光する特定の
蛍光増白剤を従来のエポキシ樹脂ワニスに配合して得ら
れたプリプレグを積層成形することにより本発明を完成
するに至ったものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、エポキシ樹脂
ワニスに、下記化学式〔I〕
【化2】
【0005】で表される蛍光増白剤を、好ましくは樹脂
固形分に対して0.05〜0.2重量%配合し、基材に含
浸乾燥されて得られたエポキシ樹脂プリプレグを積層成
形してなる蛍光方式光学検査機対応回路基板に関するも
のである。本発明に用いる上記化学式〔I〕の蛍光増白
剤はスチルベン構造による蛍光性を有しており、440
nm付近の紫外及び可視部の光を効率よく吸収し、45
0〜550nmの蛍光を発光するものであり、蛍光量が
大であるので、本発明においては微量の配合で優れた作
用効果を得ることができる。
【0006】この蛍光増白剤の配合量は樹脂固形分に対
して0.05〜0.2重量%である。0.05重量%未満
では 蛍光方式光学検査機対応回路基板としての特性を
満たすことができず、また 0.2重量%を超えると樹脂
の硬化あるいは回路基板の特性に対し影響を及ぼすこと
があるので適当でない。更に、この蛍光増白剤は溶剤に
よく溶け、ワニス中で均一化し、かつ基板製造後におい
てもメッキ処理時におけるアルカリやエッチング処理時
における酸にも溶解したり化学変化することがなく、積
層板の加工工程においても問題を生じることがない。
【0007】
【実施例】《実施例1》エピコートEp−5049 1
00重量部、Ep−180S75 25重量部、ジシア
ンジアミド 2.0重量部、2−エチル−4−メチルイミ
ダゾール 0.07重量部、前記化学式〔I〕の蛍光増白
剤を 0.1重量部を配合し、総固形分が50重量%とな
るようアセトン及びメチルセロソルブの溶剤で溶解し
た。このワニスをガラス織布基材に含浸させて樹脂分4
8%のガラス織布プリプレグを得た。このプリプレグを
1枚とその両面に35μm銅箔を1枚ずつ重ね、温度1
80℃、圧力400N/cm2で90分間加熱加圧成形
して厚さ0.17mmの両面銅張積層板を得た。
【0008】《比較例1》上記蛍光増白剤を含まないプ
リプレグを使用した以外は実施例1と同様にして厚さ
0.17mmの両面銅張積層板を得た。 《比較例2》ガラス織布基材に上記蛍光増白剤を 0.1
重量%付着させたものに上記エポキシ樹脂ワニス(但
し、蛍光増白剤を含まない)を含浸させてなるプリプレ
グを使用した以外は実施例1と同様にして厚さ0.17
mmの両面積層板を得た。
【0009】次に得られた銅張積層板において、一方の
表面銅箔をエッチングして2カ所のの断線部(10μm)
を有する信号線パターン(回路幅150μm、回路間隔
150μm)を形成した。この回路基板について蛍光方
式光学検査機にて欠陥数を測定した。実施例1では蛍光
方式光学検査機のオシログラフのゲインボックス(Gain
Box)のレベルも適当であり、また蛍光量の最小値は十分
大きな値であるため、増幅による誤報もなくファインパ
ターン部の認識が容易である。逆に比較例1及び比較例
2では蛍光量の最小値が小さく、増幅率を大きくしたた
めファインパターン部に多数の誤報が見られ、検査機へ
の対応性が悪いという結果が得られた。以上の結果を表
1及び表2に示す。
【0010】
【表1】
【0011】
【表2】 なお、実施例1で得られた積層板に関し、プリント回路
基板としての電気特性、耐熱性、機械加工性等を測定し
たところ、従来の積層板と同等の良好な結果が得られ
た。
【0012】
【発明の効果】本発明のプリント回路基板は次のような
特長を有している。 (1) 微量の蛍光増白剤をワニスに配合することにより、
440nm付近の光を効率よく吸収し、450〜550
nmの蛍光を発光するため、十分に蛍光方式光学検査機
に対応し、回路不良を正確に検知できる。 (2) 回路基板としての電気特性、耐熱性、機械加工性な
ども従来のものと同等で良好である。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシ樹脂に、硬化剤及び硬化促進剤
    を配合せしめたワニスに、下記化学式〔I〕 【化1】 で表わされた蛍光増白剤を添加することにより調製した
    ワニスを基材に含浸乾燥したエポキシ樹脂プリプレグを
    積層してなることを特徴とする蛍光方式光学検査機対応
    回路基板。
  2. 【請求項2】 前記エポキシ樹脂ワニスにおいて、蛍光
    増白剤は樹脂固形分に対して0.05〜0.2重量%が配
    合されていることを特徴とする請求項1記載の回路基
    板。
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