JP2691253B2 - シリコーン系剥離剤並びに粘着部材及びセパレータ - Google Patents
シリコーン系剥離剤並びに粘着部材及びセパレータInfo
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- JP2691253B2 JP2691253B2 JP1119060A JP11906089A JP2691253B2 JP 2691253 B2 JP2691253 B2 JP 2691253B2 JP 1119060 A JP1119060 A JP 1119060A JP 11906089 A JP11906089 A JP 11906089A JP 2691253 B2 JP2691253 B2 JP 2691253B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ガラス転移点が50℃以上の重合体ブロック
を有するポリシロキサン系ブロック共重合体を用いてな
り、油性インキ印字性、剥離・接着バランスに優れる皮
膜を形成するシリコーン系剥離剤、並びにかかる皮膜を
有する粘着部材及びセパレータに関する。
を有するポリシロキサン系ブロック共重合体を用いてな
り、油性インキ印字性、剥離・接着バランスに優れる皮
膜を形成するシリコーン系剥離剤、並びにかかる皮膜を
有する粘着部材及びセパレータに関する。
従来の技術及び課題 宛名書き等の必要から印字可能な皮膜を形成する剥離
剤が求められている。
剤が求められている。
従来、油性インキ印字性の皮膜を形成するシリコーン
系剥離剤としては、特殊なポリシロキサンに微粉末シリ
カやエチルセルロースを配合したものが提案されていた
（特開昭59−126475号公報、同59−147048号公報）。
系剥離剤としては、特殊なポリシロキサンに微粉末シリ
カやエチルセルロースを配合したものが提案されていた
（特開昭59−126475号公報、同59−147048号公報）。
しかしながら、硬化性に劣り、形成皮膜の被着体に対
する剥離と接着のバランスに劣る問題点、剥離剤の粘度
や均質性を確保するため有機溶媒を用いた液として調製
する必要のある問題点があった。粘着テープやセパレー
タ等の剥離剤による処理は、粘着面よりの剥離を容易と
することが本来の目的であるから、巻回処理等を不能に
する剥離・接着バランスの不良は、根本的な要求性能の
欠落ともいえる。また、環境衛生性や火災に対する安全
性などの点では無溶剤で塗工できて有機溶剤の使用を回
避できることが望ましい。
する剥離と接着のバランスに劣る問題点、剥離剤の粘度
や均質性を確保するため有機溶媒を用いた液として調製
する必要のある問題点があった。粘着テープやセパレー
タ等の剥離剤による処理は、粘着面よりの剥離を容易と
することが本来の目的であるから、巻回処理等を不能に
する剥離・接着バランスの不良は、根本的な要求性能の
欠落ともいえる。また、環境衛生性や火災に対する安全
性などの点では無溶剤で塗工できて有機溶剤の使用を回
避できることが望ましい。
無溶剤塗工の可能なシリコーン系剥離剤については、
分子中にエポキシ基官能性成分を含有するポリオルガノ
シロキサンにオニウム塩系硬化触媒を配合したものが提
案されていた（特開昭56−38350号公報、同60−47064号
公報）。これは、紫外線による硬化が可能で省エネルギ
ー性や皮膜形成の効率性などの利点も有している。
分子中にエポキシ基官能性成分を含有するポリオルガノ
シロキサンにオニウム塩系硬化触媒を配合したものが提
案されていた（特開昭56−38350号公報、同60−47064号
公報）。これは、紫外線による硬化が可能で省エネルギ
ー性や皮膜形成の効率性などの利点も有している。
しかしながら、その形成皮膜は油性インキを弾き、印
字性に乏しい問題点、オニウム塩系硬化触媒の相溶不良
で硬化が不充分となりやすく、実用的レベルまで硬化さ
せるには多くの紫外線照射量を要する問題点、その場合
でも形成皮膜の剥離特性がバラツキやすく、これに接着
される粘着面が汚染されて接着力が低下する問題点など
があった。
字性に乏しい問題点、オニウム塩系硬化触媒の相溶不良
で硬化が不充分となりやすく、実用的レベルまで硬化さ
せるには多くの紫外線照射量を要する問題点、その場合
でも形成皮膜の剥離特性がバラツキやすく、これに接着
される粘着面が汚染されて接着力が低下する問題点など
があった。
本発明者らが属するグループは先に、前記の課題を克
服すべく開発したシリコーン系剥離剤を提案した（特願
昭62−235094号）。これは、分子中にエポキシ基官能性
成分とポリエーテル・ポリメチレン成分を含有するポリ
オルガノシロキサンを用いたもので、紫外線による硬化
性に優れ、油性インキ印字性を有して無溶剤塗工が可能
なものである。
服すべく開発したシリコーン系剥離剤を提案した（特願
昭62−235094号）。これは、分子中にエポキシ基官能性
成分とポリエーテル・ポリメチレン成分を含有するポリ
オルガノシロキサンを用いたもので、紫外線による硬化
性に優れ、油性インキ印字性を有して無溶剤塗工が可能
なものである。
本発明は、上記した硬化性や無溶剤塗工性等を満足さ
せつつ、さらに油性インキ印字性に優れるものの開発を
課題とする。
せつつ、さらに油性インキ印字性に優れるものの開発を
課題とする。
課題を解決するための手段 本発明は、ガラス転移点が50℃以上の重合体ブロック
とポリオルガノシロキサンブロックからなるブロック共
重合体を用いることにより、上記の課題を克服したもの
である。
とポリオルガノシロキサンブロックからなるブロック共
重合体を用いることにより、上記の課題を克服したもの
である。
すなわち、本発明は、ガラス転移点が50℃以上の重合
体ブロックＡ、及び一般式： Si（R2）−Ｏ（ただし、Ｒは炭素数１〜20のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル
基である。）で表される構造単位を有するボリオルガノ
シロキサンブロックＢからなるＡ−Ｂ型又は／及び（Ａ
−Ｂ）nX型のブロック共重合体（ただし、前記のｎはカ
ップリング数、Ｘはカップリング剤残基である。）と、
エポキシ系官能基を有する単量体と、オニウム塩系硬化
触媒とからなることを特徴とするシリコーン系剥離剤、
並びに 支持基材の片面に前記のシリコーン系剥離剤からなる
皮膜を有し、他面に粘着層を有することを特徴とする粘
着部材、及び 支持基材の片面又は両面に前記のシリコーン系剥離剤
からなる皮膜を有することを特徴とするセパレータを提
供するものである。
体ブロックＡ、及び一般式： Si（R2）−Ｏ（ただし、Ｒは炭素数１〜20のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル
基である。）で表される構造単位を有するボリオルガノ
シロキサンブロックＢからなるＡ−Ｂ型又は／及び（Ａ
−Ｂ）nX型のブロック共重合体（ただし、前記のｎはカ
ップリング数、Ｘはカップリング剤残基である。）と、
エポキシ系官能基を有する単量体と、オニウム塩系硬化
触媒とからなることを特徴とするシリコーン系剥離剤、
並びに 支持基材の片面に前記のシリコーン系剥離剤からなる
皮膜を有し、他面に粘着層を有することを特徴とする粘
着部材、及び 支持基材の片面又は両面に前記のシリコーン系剥離剤
からなる皮膜を有することを特徴とするセパレータを提
供するものである。
作用 上記のブロック共重合体は、重合体ブロックＡに基づ
いてエポキシ系官能基を有する単量体との相溶性、被処
理体に対する密着力、油性インキのヌレ性に優れる。ま
た、ポリオルガノシロキサンブロックＢに基づいて剥離
性能に優れる。一方、エポキシ系官能基を有する単量体
は、オニウム塩系硬化触媒による紫外線硬化性ないし加
熱硬化性を示し、この架橋剤としてのほか希釈剤として
機能し、無溶剤塗工性を高めると共に、油性インキのヌ
レ性にも寄与する。
いてエポキシ系官能基を有する単量体との相溶性、被処
理体に対する密着力、油性インキのヌレ性に優れる。ま
た、ポリオルガノシロキサンブロックＢに基づいて剥離
性能に優れる。一方、エポキシ系官能基を有する単量体
は、オニウム塩系硬化触媒による紫外線硬化性ないし加
熱硬化性を示し、この架橋剤としてのほか希釈剤として
機能し、無溶剤塗工性を高めると共に、油性インキのヌ
レ性にも寄与する。
前記の結果、安全性に優れて良好な硬化性を示し、剥
離特性、粘着面の非汚染性ないし接着力維持性、油性イ
ンキ印字性に優れる皮膜を形成する無溶剤塗工が可能
で、紫外線又は熱で硬化するシリコーン系剥離剤が得ら
れる。
離特性、粘着面の非汚染性ないし接着力維持性、油性イ
ンキ印字性に優れる皮膜を形成する無溶剤塗工が可能
で、紫外線又は熱で硬化するシリコーン系剥離剤が得ら
れる。
発明の構成要素の例示 本発明において用いられるブロック共重合体は、重合
体ブロックＡと、ポリオルガノシロキサンブロックＢか
らなるＡ−Ｂ型又は／及び（Ａ−Ｂ）nX型（ただし、ｎ
はカップリング数、Ｘはカップリング剤残基である。）
のものである。
体ブロックＡと、ポリオルガノシロキサンブロックＢか
らなるＡ−Ｂ型又は／及び（Ａ−Ｂ）nX型（ただし、ｎ
はカップリング数、Ｘはカップリング剤残基である。）
のものである。
重合体ブロックＡは、ガラス転移点が50℃以上のポリ
マで形成される。その例としては、モノビニル置換芳香
族ポリマ、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリエステルなどがあげられる。合成の容易さ、汎
用性等の点からスチレン、メチルスチレン、ビニルトル
エン、ビニルキシレン等を成分とするモノビニル置換芳
香族ポリマが好ましい。
マで形成される。その例としては、モノビニル置換芳香
族ポリマ、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリエステルなどがあげられる。合成の容易さ、汎
用性等の点からスチレン、メチルスチレン、ビニルトル
エン、ビニルキシレン等を成分とするモノビニル置換芳
香族ポリマが好ましい。
重合体ブロックＡの分子量は、GPC（ゲルパーミェー
ションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算の
数平均分子量に基づいて、3,000〜300,000が適当であ
る。その数平均分子量が3,000未満では、形成皮膜の被
処理体に対する密着力に乏しく、これに接着される粘着
面に移着して接着力を低下させやすくなり、300,000を
超えると他成分との混和性に乏しくなる。
ションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算の
数平均分子量に基づいて、3,000〜300,000が適当であ
る。その数平均分子量が3,000未満では、形成皮膜の被
処理体に対する密着力に乏しく、これに接着される粘着
面に移着して接着力を低下させやすくなり、300,000を
超えると他成分との混和性に乏しくなる。
ポリオルガノシロキサンブロックＢは、一般式Si
（R2）−Ｏで表される構造単位からなる。式中、Ｒは
炭素数１〜20のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、又はアラルキル基である。入手の容易さや剥離性
能の点よりＲがメチル基のものが好ましい。
（R2）−Ｏで表される構造単位からなる。式中、Ｒは
炭素数１〜20のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、又はアラルキル基である。入手の容易さや剥離性
能の点よりＲがメチル基のものが好ましい。
ポリオルガノシロキサンブロックＢの分子量は、GPC
によるポリスチレン換算の数平均分子量に基づき1,000
〜300,000が適当である。その数平均分子量が1,000未満
では、形成皮膜が剥離性能に乏しいし、300,000を超え
ると他成分との混和性に乏しくなる。
によるポリスチレン換算の数平均分子量に基づき1,000
〜300,000が適当である。その数平均分子量が1,000未満
では、形成皮膜が剥離性能に乏しいし、300,000を超え
ると他成分との混和性に乏しくなる。
ブロック共重合体における重合体ブロックＡとポルオ
ルガノシロキサンブロックＢの組成比は、A/Bに基づき
５〜95重量％が適当である。その組成比が５重量％未満
では、形成皮膜の被処理体に対する密着力に乏しいし、
95重量％を超えると形成皮膜が剥離性能に乏しくなる。
ルガノシロキサンブロックＢの組成比は、A/Bに基づき
５〜95重量％が適当である。その組成比が５重量％未満
では、形成皮膜の被処理体に対する密着力に乏しいし、
95重量％を超えると形成皮膜が剥離性能に乏しくなる。
用いるブロック共重合体は、１種又は２種以上のＡ−
Ｂ型ないし（Ａ−Ｂ）nX型のもの、又はこれらの混合物
である。Ａ−Ｂ型ブロック共重合体の合成は、例えばリ
ビングアニオン重合法により行うことができる。すなわ
ち、ブチルリチウムの如き有機リチウムを開始剤として
先ず、重合体ブロックＡとなるポリマを形成し、ついで
オルガノキシキッサンを添加してポリオルガノシロキサ
ンブロックＢを機ポリマＡに付加形成する方法である。
一方、（Ａ−Ｂ）nX型ブロック共重合体の合成は例え
ば、ハロゲン化アルケニル化合物を用いて、前記のＡ−
Ｂ型ブロック共重合体の分子末端にアルケニル基を導入
し、これを≡Si−Ｈ基を２個以上有するシラン系ないし
シロキサン系カップリングする方法、あるいはＡ−Ｂ型
ブロック共重合体のリビング活性体に、ハロゲン基を２
個以上有するカップリング剤をカップリング剤を作用さ
せてカップリングする方法などにより行うこおができ
る。その場合、Ａ−Ｂ型ブロック共重合体単位のカップ
リング数ｎは、２〜６とすることが適当である。そのカ
ップリング数が６を超えると、得られる剥離剤の粘度が
高くなり無溶剤塗工が困難になる。
Ｂ型ないし（Ａ−Ｂ）nX型のもの、又はこれらの混合物
である。Ａ−Ｂ型ブロック共重合体の合成は、例えばリ
ビングアニオン重合法により行うことができる。すなわ
ち、ブチルリチウムの如き有機リチウムを開始剤として
先ず、重合体ブロックＡとなるポリマを形成し、ついで
オルガノキシキッサンを添加してポリオルガノシロキサ
ンブロックＢを機ポリマＡに付加形成する方法である。
一方、（Ａ−Ｂ）nX型ブロック共重合体の合成は例え
ば、ハロゲン化アルケニル化合物を用いて、前記のＡ−
Ｂ型ブロック共重合体の分子末端にアルケニル基を導入
し、これを≡Si−Ｈ基を２個以上有するシラン系ないし
シロキサン系カップリングする方法、あるいはＡ−Ｂ型
ブロック共重合体のリビング活性体に、ハロゲン基を２
個以上有するカップリング剤をカップリング剤を作用さ
せてカップリングする方法などにより行うこおができ
る。その場合、Ａ−Ｂ型ブロック共重合体単位のカップ
リング数ｎは、２〜６とすることが適当である。そのカ
ップリング数が６を超えると、得られる剥離剤の粘度が
高くなり無溶剤塗工が困難になる。
本発明において用いられるエポキシ系官能基を有する
単量体は、１個又は２個以上のエポキシ系官能基を有す
る化合物である。その例としては、エチレングリコール
ジグリシジルエーテル： グリセリンジグリシジルエーテル： ビニルシクロヘキセンジオキサイド： リモネンジオキサイド： 3,4エポキシシクロヘキシルメチル−３′,4′−エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート： ビス−（６−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシル）
アジペート： などがあげられる。
単量体は、１個又は２個以上のエポキシ系官能基を有す
る化合物である。その例としては、エチレングリコール
ジグリシジルエーテル： グリセリンジグリシジルエーテル： ビニルシクロヘキセンジオキサイド： リモネンジオキサイド： 3,4エポキシシクロヘキシルメチル−３′,4′−エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート： ビス−（６−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシル）
アジペート： などがあげられる。
用いるエポキシ系官能基を有する単量体は、１種でも
よいし、２種以上でもよい。配合量はブロック共重合体
100重量部あたり10〜10,000重量部が適当であり、就中5
0〜2,000重量部が好ましい。その配合量が10重量部未満
では得られる剥離剤の粘度が高くて無溶剤塗工が困難に
なるし、10,000重量部を超えると形成皮膜が剥離性能に
乏しくなる。
よいし、２種以上でもよい。配合量はブロック共重合体
100重量部あたり10〜10,000重量部が適当であり、就中5
0〜2,000重量部が好ましい。その配合量が10重量部未満
では得られる剥離剤の粘度が高くて無溶剤塗工が困難に
なるし、10,000重量部を超えると形成皮膜が剥離性能に
乏しくなる。
本発明においてオニウム塩系硬化触媒としては公知の
ものを用いうる。その例としては、 式 ArN2 +Z-、R3S+Z-、R2I+Z- （ただし、Arはアリール基、Ｒはアルキル基又はアリー
ル基、Z-はBF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、SbCl6 -、HS
O4 -、ClO4 -の如き非塩基性かつ非求核性の陰イオンであ
る。） で表されるようなジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨ
ードニウム塩などがあげられる。
ものを用いうる。その例としては、 式 ArN2 +Z-、R3S+Z-、R2I+Z- （ただし、Arはアリール基、Ｒはアルキル基又はアリー
ル基、Z-はBF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、SbCl6 -、HS
O4 -、ClO4 -の如き非塩基性かつ非求核性の陰イオンであ
る。） で表されるようなジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨ
ードニウム塩などがあげられる。
オニウム塩系硬化触媒の配合量は、得られる剥離剤に
おける含有量に基づいて0.1〜20重量％が適当であり、
就中0.5〜10重量％が好ましい。その含有量が0.1重量％
未満では硬化性に乏しいし、20重量％を超えると寄与度
に乏しくなるほか、剥離性能が阻害されるおそれがあっ
て好ましくない。
おける含有量に基づいて0.1〜20重量％が適当であり、
就中0.5〜10重量％が好ましい。その含有量が0.1重量％
未満では硬化性に乏しいし、20重量％を超えると寄与度
に乏しくなるほか、剥離性能が阻害されるおそれがあっ
て好ましくない。
なお上記では、無溶剤塗工が可能な剥離剤について説
明したが、本発明では溶剤による溶液タイプ、水系や非
水系の分散系タイプとして調製することもできる。その
場合、懇話性や粘度に基づく使用成分等の制約が緩和さ
れ、より広い範囲で使用成分や配合割合を選択すること
ができる。例えば、重合体ブロックＡ、ポリオルガノシ
ロキサンブロックＢの数平均分子量が約80万程度のブロ
ック共重合体、カップリング数20程度までの（Ａ−Ｂ）
nX型ブロック共重合体の使用が可能になる。また、エポ
キシ系官能基を有する単量体の配合量をブロック共重合
体100重量部あたり１重量部程度まで減らすことができ
る。
明したが、本発明では溶剤による溶液タイプ、水系や非
水系の分散系タイプとして調製することもできる。その
場合、懇話性や粘度に基づく使用成分等の制約が緩和さ
れ、より広い範囲で使用成分や配合割合を選択すること
ができる。例えば、重合体ブロックＡ、ポリオルガノシ
ロキサンブロックＢの数平均分子量が約80万程度のブロ
ック共重合体、カップリング数20程度までの（Ａ−Ｂ）
nX型ブロック共重合体の使用が可能になる。また、エポ
キシ系官能基を有する単量体の配合量をブロック共重合
体100重量部あたり１重量部程度まで減らすことができ
る。
本発明のシリコーン系剥離剤は、公知の方法で適用す
ることができる。従って例えば、ロールコータやキスコ
ータ、スロットダイコータやあクイズコータ等を用いた
適宜な塗工手段で被処理体に剥離剤を0.01〜10g/m2、就
中0.1〜5g/m2塗工し、ついで塗工層を必要に応じ乾燥
し、硬化処理することによりい皮膜を形成することがで
きる。硬化処理は加熱処理方式及び紫外線照射処理方式
をとりうる。紫外線照射による硬化処理方式が省エネル
ギー性や皮膜形成の効率性、被処理体に耐熱性が要求さ
れないことなどによる適用対象の非制約性等の点より好
ましい。紫外線照射による硬化処理は、高圧水銀ランプ
やメタルハライドランプなどの適宜な紫外線源を用いて
行うことができる。なお、加熱処理方式の場合、60〜20
0℃の加熱温度が一般的である。
ることができる。従って例えば、ロールコータやキスコ
ータ、スロットダイコータやあクイズコータ等を用いた
適宜な塗工手段で被処理体に剥離剤を0.01〜10g/m2、就
中0.1〜5g/m2塗工し、ついで塗工層を必要に応じ乾燥
し、硬化処理することによりい皮膜を形成することがで
きる。硬化処理は加熱処理方式及び紫外線照射処理方式
をとりうる。紫外線照射による硬化処理方式が省エネル
ギー性や皮膜形成の効率性、被処理体に耐熱性が要求さ
れないことなどによる適用対象の非制約性等の点より好
ましい。紫外線照射による硬化処理は、高圧水銀ランプ
やメタルハライドランプなどの適宜な紫外線源を用いて
行うことができる。なお、加熱処理方式の場合、60〜20
0℃の加熱温度が一般的である。
本発明のシリコーン系剥離剤は、例えばセパレータの
形成や、粘着テープ等の粘着部材における背面処理な
ど、粘着面に接着され、その粘着面より容易に剥離でき
ることが望まれる用途などに好ましく用いられる。
形成や、粘着テープ等の粘着部材における背面処理な
ど、粘着面に接着され、その粘着面より容易に剥離でき
ることが望まれる用途などに好ましく用いられる。
本発明の粘着部材は、前記の剥離剤からなる皮膜を支
持基材の片面に設け、他面に粘着層を設けたものであ
る。また、セパレータは、かかる皮膜をを支持基材の片
面又は両面に設けたものである。用いる支持部材につい
ては特に限定はない。一般には、紙、プラスチックラミ
ネート紙、布、プラスチックフィルム、金属箔、発泡体
などが用いられる。なお、粘着部材の形成は、予め剥離
剤の皮膜を設けた支持基材の他面に粘着剤を付設する方
法など、公知の方法で行ってもよい。
持基材の片面に設け、他面に粘着層を設けたものであ
る。また、セパレータは、かかる皮膜をを支持基材の片
面又は両面に設けたものである。用いる支持部材につい
ては特に限定はない。一般には、紙、プラスチックラミ
ネート紙、布、プラスチックフィルム、金属箔、発泡体
などが用いられる。なお、粘着部材の形成は、予め剥離
剤の皮膜を設けた支持基材の他面に粘着剤を付設する方
法など、公知の方法で行ってもよい。
発明の効果 本発明のシリコーン系剥離剤は、ガラス転移点が50℃
以上の重合体ブロックを有するポリシロキサン系ブロッ
ク共重合体の、エポキシ系官能基を有する単量体と、オ
ニウム塩系硬化触媒からなるので、無溶剤塗工が可能な
紫外線硬化型のものとして調製することでき、その硬化
性に優れている。
以上の重合体ブロックを有するポリシロキサン系ブロッ
ク共重合体の、エポキシ系官能基を有する単量体と、オ
ニウム塩系硬化触媒からなるので、無溶剤塗工が可能な
紫外線硬化型のものとして調製することでき、その硬化
性に優れている。
また、形成皮膜は、良好な油性インキ印字性を有し、
被着体に体る剥離と接着のバランスに優れている。
被着体に体る剥離と接着のバランスに優れている。
実施例 参考例１ ブレイクシール法による操作で、高真空にした反応槽
にsec−ブチルリチウムの4.0ミリモルベンゼン溶液200
部（重量部、以下同じ）と、精製スチレン18分を入れ、
氷水浴中で30分間撹拌してスチレンのリビングポリマを
形成したのち、その反応液に精製ヘキサメチルシクロト
リシロキサン7.6部、及び精製テトラヒドロフラン200部
を添加し、20℃で24時間撹拌してポリスチレン・ポリジ
メチルシロキサンブロック共重合体を得た。なお、リビ
ングポリマの失活は湿気を導入することにより行った。
にsec−ブチルリチウムの4.0ミリモルベンゼン溶液200
部（重量部、以下同じ）と、精製スチレン18分を入れ、
氷水浴中で30分間撹拌してスチレンのリビングポリマを
形成したのち、その反応液に精製ヘキサメチルシクロト
リシロキサン7.6部、及び精製テトラヒドロフラン200部
を添加し、20℃で24時間撹拌してポリスチレン・ポリジ
メチルシロキサンブロック共重合体を得た。なお、リビ
ングポリマの失活は湿気を導入することにより行った。
前記のブロック共重合体をGPC分析、1H−NMR分析した
結果、その数平均分子量はポリスチレンブロック4500、
ポリジメチルシロキサンブロック1900であった。
結果、その数平均分子量はポリスチレンブロック4500、
ポリジメチルシロキサンブロック1900であった。
参考例２ 参考例１に準じて得たポリスチレン・ポリジメチルシ
ロキサンブロック共重合体のリビングポリマ含有液に、
ジメチルビニルクロロシラン0.48部を滴下して末端にビ
ニル基を導入したのち、末端ビニル基と当量の≡Si−Ｈ
基となる割居合で1,1,3,3テトラメチルジシロキサンを
添加し、白金触媒の存在下（1000ppm）、80℃で30時間
撹拌し、カップリングさせた。
ロキサンブロック共重合体のリビングポリマ含有液に、
ジメチルビニルクロロシラン0.48部を滴下して末端にビ
ニル基を導入したのち、末端ビニル基と当量の≡Si−Ｈ
基となる割居合で1,1,3,3テトラメチルジシロキサンを
添加し、白金触媒の存在下（1000ppm）、80℃で30時間
撹拌し、カップリングさせた。
前記により、数平均分子量が4500のポリスチレンブロ
ックと、4000のポリジメチルシロキサンブロックからな
るポリスチレン・ポリジメチルシロキサン・ポリスチレ
ンブロック共重合体を得た。
ックと、4000のポリジメチルシロキサンブロックからな
るポリスチレン・ポリジメチルシロキサン・ポリスチレ
ンブロック共重合体を得た。
参考例３ 参考例１に準じ、精製スチレン60部及び精製へキサメ
チルシクロトリシロキサン60部を用いてポリスチレン・
ポリジメチルシロキサンブロック共重合体を調製したの
ち、参考例２に準じてカップリングさせた。
チルシクロトリシロキサン60部を用いてポリスチレン・
ポリジメチルシロキサンブロック共重合体を調製したの
ち、参考例２に準じてカップリングさせた。
前記により、数平均分子量が15000のポリスチレンブ
ロックと、15000のポリジメチルシロキサンブロックか
らなるポリスチレン・ポリジメチルシロキサンブロック
共重合体60部、及び数平均分子量が15000のポリスチレ
ンブロックと、30000のポリジメチルシロキサンブロッ
クからなるポリスチレン・ポリジメチルシロキサン・ポ
リスチレンブロック共重合体40部の混合物を得た。
ロックと、15000のポリジメチルシロキサンブロックか
らなるポリスチレン・ポリジメチルシロキサンブロック
共重合体60部、及び数平均分子量が15000のポリスチレ
ンブロックと、30000のポリジメチルシロキサンブロッ
クからなるポリスチレン・ポリジメチルシロキサン・ポ
リスチレンブロック共重合体40部の混合物を得た。
参考例４ ブレイクシール法による操作で、高真空にした反応槽
にsec−ブチルリチウムの4.0ミリモルベンゼン溶液500
部と、精製スチレン120分を入れ、氷水浴中で30分間撹
拌してスチレンのリビングポリマを形成したのち、その
反応液に精製ヘキサメチルシクロトリシロキサン120
部、及び精製テトラヒドロフラン200部を添加し、20℃2
4時間撹拌してポリスチレン・ポリジメチルシロキサン
ブロック共重合体を調製したのち、参考例２に準じてカ
ップリングさせた。
にsec−ブチルリチウムの4.0ミリモルベンゼン溶液500
部と、精製スチレン120分を入れ、氷水浴中で30分間撹
拌してスチレンのリビングポリマを形成したのち、その
反応液に精製ヘキサメチルシクロトリシロキサン120
部、及び精製テトラヒドロフラン200部を添加し、20℃2
4時間撹拌してポリスチレン・ポリジメチルシロキサン
ブロック共重合体を調製したのち、参考例２に準じてカ
ップリングさせた。
前記により、数平均分子量が30000のポリスチレンブ
ロックと、30000のポリジメチルシロキサンブロックか
らなるポリスチレン・ポリジメチルシロキサンブロック
共重合体30部、及び数平均分子量が30000のポリスチレ
ンブロックと、60000のポリジメチルシロキサンブロッ
クからなるポリスチレン・ポリジメチルシロキサン・ポ
リスチレンブロック共重合体20部の混合物を得た。
ロックと、30000のポリジメチルシロキサンブロックか
らなるポリスチレン・ポリジメチルシロキサンブロック
共重合体30部、及び数平均分子量が30000のポリスチレ
ンブロックと、60000のポリジメチルシロキサンブロッ
クからなるポリスチレン・ポリジメチルシロキサン・ポ
リスチレンブロック共重合体20部の混合物を得た。
実施例１ 3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−３′,4′−エ
ポキシシクロヘキシルカルボキシレート85部に、スルホ
ニウム塩系硬化触媒５部を添加して撹拌したのち、参考
例１で得たポリスチレン・ポリジメチルシロキサンブロ
ック共重合体10部を添加して均一に混合し、無溶剤塗工
型の本発明の剥離剤を得た。
ポキシシクロヘキシルカルボキシレート85部に、スルホ
ニウム塩系硬化触媒５部を添加して撹拌したのち、参考
例１で得たポリスチレン・ポリジメチルシロキサンブロ
ック共重合体10部を添加して均一に混合し、無溶剤塗工
型の本発明の剥離剤を得た。
前記の剥離剤をスクイズコータにより、厚さ50μｍの
ポリエステルフィルムに塗工量が1.0g/m2となるように
塗工し、ついで高圧水銀ランプを設置した紫外線照射装
置を用いて剥離剤塗工面を１ジュール/cm2の照射条件で
硬化処理しい、セパレータを得た。
ポリエステルフィルムに塗工量が1.0g/m2となるように
塗工し、ついで高圧水銀ランプを設置した紫外線照射装
置を用いて剥離剤塗工面を１ジュール/cm2の照射条件で
硬化処理しい、セパレータを得た。
実施例２ スルホニウム塩系硬化触媒に熱反応型のものを用いて
実施例１に準じ無溶剤塗工型の本発明の剥離剤を得、そ
の塗工層を100℃で10分間加熱してセパレータを得た。
実施例１に準じ無溶剤塗工型の本発明の剥離剤を得、そ
の塗工層を100℃で10分間加熱してセパレータを得た。
実施例３ 参考例１で得たポリスチレン・ポリジメチルシロキサ
ンブロック共重合体に代えて、参考例２で得たポリスチ
レン・ポリジメチルシロキサン・ポリスチレンブロック
共重合体を用いたほかは実施例１に準じ無溶剤塗工型の
本発明の剥離剤を得、これを用いてセパレータを得た。
ンブロック共重合体に代えて、参考例２で得たポリスチ
レン・ポリジメチルシロキサン・ポリスチレンブロック
共重合体を用いたほかは実施例１に準じ無溶剤塗工型の
本発明の剥離剤を得、これを用いてセパレータを得た。
実施例４ 参考例１で得たポリスチレン・ポリジメチルシロキサ
ンブロック共重合体に代えて、参考例３で得たポリスチ
レン・ポリジメチルシロキサンブロック共重合体とポリ
スチレン・ポリジメチルシロキサン・ポリスチレンブロ
ック共重合体の混合物を用いたほこは実施例１に準じ無
溶剤塗工型の本発明の剥離剤を得、これを用いてセパレ
ータを得た。
ンブロック共重合体に代えて、参考例３で得たポリスチ
レン・ポリジメチルシロキサンブロック共重合体とポリ
スチレン・ポリジメチルシロキサン・ポリスチレンブロ
ック共重合体の混合物を用いたほこは実施例１に準じ無
溶剤塗工型の本発明の剥離剤を得、これを用いてセパレ
ータを得た。
実施例５ 参考例１で得たポリスチレン・ポリジメチルシロキサ
ンブロック共重合体に代えて、実施例４で得たポリスチ
レン・ポリジメチルシロキサンブロック共重合体とポリ
スチレン・ポリジメチルシロキサン・ポリスチレンブロ
ック共重合体の混合物を用いたほかは実施例１に準じ無
溶剤塗工型の本発明の剥離剤を得、これを用いてセパレ
ータを得た。
ンブロック共重合体に代えて、実施例４で得たポリスチ
レン・ポリジメチルシロキサンブロック共重合体とポリ
スチレン・ポリジメチルシロキサン・ポリスチレンブロ
ック共重合体の混合物を用いたほかは実施例１に準じ無
溶剤塗工型の本発明の剥離剤を得、これを用いてセパレ
ータを得た。
比較例１ 参考例１で得たポリスチレン・ポリジメチルシロキサ
ンブロック共重合体に代えて、数平均分子量が28000の
ポリジメチルシロキサンを用いたほかは実施例１に準じ
無溶剤塗工型の剥離剤を得、これを用いてセパレータを
得た。
ンブロック共重合体に代えて、数平均分子量が28000の
ポリジメチルシロキサンを用いたほかは実施例１に準じ
無溶剤塗工型の剥離剤を得、これを用いてセパレータを
得た。
比較例２ 市販の紫外線硬化型シリコーン系剥離剤（Ｘ−62−72
96、信越化学社製）を用いて実施例１に準じてセパレー
タを得た。
96、信越化学社製）を用いて実施例１に準じてセパレー
タを得た。
評価試験 実施例、比較例で得たセパレータについて下記の特性
を調べた。
を調べた。
［硬化性］ セパレータにおける形成皮膜にベトツキがない場合を
○、少々ある場合を△、それ以外の場合を×として評価
した。
○、少々ある場合を△、それ以外の場合を×として評価
した。
［印字性］ 市販の油性マジックインキでセパレータの形成皮膜表
面に文字を書き、弾けのない場合を○（特に良好な場合
◎）、少々ある場合を△、それ以外の場合を×として評
価した。
面に文字を書き、弾けのない場合を○（特に良好な場合
◎）、少々ある場合を△、それ以外の場合を×として評
価した。
［接着力］ 20℃、65％R.H.下でセパレータの形成皮膜面の上に幅
19mmの市販貼着テープ（日東電工社製、ポリエステルテ
ープNo.31B）を重さ2kgのゴムローラを往復させて圧着
したのち、その粘着テープの上に70g/cm2の荷重をかけ
た状態で20℃下に48時間放置する。その後、荷重を解い
て20℃、65％R.H.下に２時間放置し、得られたものにつ
いてショッパーにより粘着テープを300mm/分の速度で引
き剥がし（180度ピール）、その剥離に要する力を求め
た（４サンプルの平均値）。
19mmの市販貼着テープ（日東電工社製、ポリエステルテ
ープNo.31B）を重さ2kgのゴムローラを往復させて圧着
したのち、その粘着テープの上に70g/cm2の荷重をかけ
た状態で20℃下に48時間放置する。その後、荷重を解い
て20℃、65％R.H.下に２時間放置し、得られたものにつ
いてショッパーにより粘着テープを300mm/分の速度で引
き剥がし（180度ピール）、その剥離に要する力を求め
た（４サンプルの平均値）。
［残留接着率］（粘着剤面の非汚染性） 上記接着力を測定した後の粘着テープを20℃、65％R.
H.下でステンレス板（SUS27CP）の耐水研摩紙（280番）
で充分に研摩し、これを洗浄した面に重さ2kgのゴムロ
ーラを一往復させて圧着したのち、30分間放置したもの
について上記と同様にして剥離に要する力を求めた。そ
して、得られた測定値の、前記と同様にして剥離剤の皮
膜に接触させたことがない粘着テープについて求めた測
定値に対する残留接着力の割合を残留接着率として算出
した（４サンプルの平均値）。
H.下でステンレス板（SUS27CP）の耐水研摩紙（280番）
で充分に研摩し、これを洗浄した面に重さ2kgのゴムロ
ーラを一往復させて圧着したのち、30分間放置したもの
について上記と同様にして剥離に要する力を求めた。そ
して、得られた測定値の、前記と同様にして剥離剤の皮
膜に接触させたことがない粘着テープについて求めた測
定値に対する残留接着力の割合を残留接着率として算出
した（４サンプルの平均値）。
結果を表に示した。なお、比較例３は剥離剤で処理し
ないポリエステルフィルムの特性である。
ないポリエステルフィルムの特性である。
表から明らかなように、本発明のシリコーン系剥離剤
からなる皮膜は、油性インキ印字性、粘着面等の被着体
に対する剥離と接着のバランスに優れている。
からなる皮膜は、油性インキ印字性、粘着面等の被着体
に対する剥離と接着のバランスに優れている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｄ 183/10 Ｃ０９Ｄ 183/10 Ｃ０９Ｊ 7/02 Ｃ０９Ｊ 7/02 Ｚ (56)参考文献 特開 平２−298551（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−29485（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−29459（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−26693（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−186（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】ガラス転移点が50℃以上の重合体ブロック
Ａ、及び一般式：Si（R2）−Ｏ（ただし、Ｒは炭素
数１〜20のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、又はアラルキル基である。）で表される構造単位を
有するボリオルガノシロキサンブロックＢからなるＡ−
Ｂ型又は／及び（Ａ−Ｂ）nX型のブロック共重合体（た
だし、前記のｎはカップリング数、Ｘはカップリング剤
残基である。）と、エポキシ系官能基を有する単量体
と、オニウム塩系硬化触媒とからなることを特徴とする
シリコーン系剥離剤。 - 【請求項２】用いる（Ａ−Ｂ）nX型ブロック共重合体に
おけるカップリング数ｎが２〜６である請求項１に記載
のシリコーン系剥離剤。 - 【請求項３】支持基材の片面に請求項１に記載のシリコ
ーン系剥離剤からなる皮膜を有し、他面に粘着層を有す
ることを特徴とする粘着部材。 - 【請求項４】支持基材の片面又は両面に請求項１に記載
のシリコーン系剥離剤からなる皮膜を有することを特徴
とするセパレータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1119060A JP2691253B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | シリコーン系剥離剤並びに粘着部材及びセパレータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1119060A JP2691253B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | シリコーン系剥離剤並びに粘着部材及びセパレータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02298511A JPH02298511A (ja) | 1990-12-10 |
| JP2691253B2 true JP2691253B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=14751914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1119060A Expired - Lifetime JP2691253B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | シリコーン系剥離剤並びに粘着部材及びセパレータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2691253B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2079647A1 (en) * | 1991-10-11 | 1993-04-12 | Grover L. Farrar | In-line silicone coated polyester film and a process for coating the film |
| JP7285619B2 (ja) * | 2017-02-03 | 2023-06-02 | リンテック株式会社 | 剥離シートおよび剥離シートの製造方法 |
-
1989
- 1989-05-12 JP JP1119060A patent/JP2691253B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02298511A (ja) | 1990-12-10 |
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