JP2684706B2 - 染料系偏光膜および染料系偏光板の製造方法 - Google Patents
染料系偏光膜および染料系偏光板の製造方法Info
- Publication number
- JP2684706B2 JP2684706B2 JP24128288A JP24128288A JP2684706B2 JP 2684706 B2 JP2684706 B2 JP 2684706B2 JP 24128288 A JP24128288 A JP 24128288A JP 24128288 A JP24128288 A JP 24128288A JP 2684706 B2 JP2684706 B2 JP 2684706B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- dye
- film
- based polarizing
- sulfonic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は染料系偏光膜および偏光板の生産性に優れた
製造方法に関する。
製造方法に関する。
現在、偏光板は延伸配向したポリビニルアルコール又
はその誘導体あるいは、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩
酸又はポリビニルアルコール系フィルムの脱水によりポ
リエンを生成して配向せしめたポリエン系のフィルムに
偏光素子としてよう素や二色性染料を吸着せしめてその
両側に酢酸セルロース系のフィルムを保護膜として貼合
して製造するのが一般的である。
はその誘導体あるいは、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩
酸又はポリビニルアルコール系フィルムの脱水によりポ
リエンを生成して配向せしめたポリエン系のフィルムに
偏光素子としてよう素や二色性染料を吸着せしめてその
両側に酢酸セルロース系のフィルムを保護膜として貼合
して製造するのが一般的である。
このうち偏光素子としてよう素を用いた偏光板は、初
期偏光性能にはすぐれるものの、水および熱に対して弱
く、高温・高湿の状態で長期間使用する場合にはその耐
久性に問題がある。耐久性を向上させるために、ホルマ
リンあるいはホウ酸を含む水溶液での処理を強固にした
り、又保護膜として透湿度の低い高分子フィルムを用い
る方法などが考えられているが、高温・高湿の状態では
耐久性が不十分である。
期偏光性能にはすぐれるものの、水および熱に対して弱
く、高温・高湿の状態で長期間使用する場合にはその耐
久性に問題がある。耐久性を向上させるために、ホルマ
リンあるいはホウ酸を含む水溶液での処理を強固にした
り、又保護膜として透湿度の低い高分子フィルムを用い
る方法などが考えられているが、高温・高湿の状態では
耐久性が不十分である。
また、偏光素子として二色性染料を用いた偏光板は、
よう素を用いた偏光板に比べて、水および熱に対する耐
久性はあるものの、以下にのべるような問題点がある。
よう素を用いた偏光板に比べて、水および熱に対する耐
久性はあるものの、以下にのべるような問題点がある。
（１） よう素を用いた偏光膜に比べ偏光性能が劣る。
（２） 製造工程が複雑であり、歩留りが悪いうえに使
用ずみの染料を含む廃液の処理がやっかいであり、染料
系偏光膜のコストが高くなる原因となっている。
用ずみの染料を含む廃液の処理がやっかいであり、染料
系偏光膜のコストが高くなる原因となっている。
（３） 染色ムラが大きく、均質な偏光膜が得られにく
い。
い。
（４） 同一色相を有する長尺の偏光膜が得られにく
い。
い。
（５） 染色液槽中の濃度管理がむつかしく、同一機能
を有する長尺の偏光膜が得られにくい。
を有する長尺の偏光膜が得られにくい。
現行のフィルムへの染着方式で偏光膜を製造する限
り、上記（２）〜（５）の解決は困難である。又連続染
色法ではなく、バッチ染色法による方法も採用されてい
るが完全に光学的に均質なものは得られにくく、その上
生産性が悪くなるのでさらにコスト高となる。また、特
開昭56−158801号公報、特開昭62−89002号公報には、
前記問題点のいくつかを解決した染料系偏光膜および染
料系偏光板の製造方法が示されているが、いずれもよう
素を用いた偏光膜又は偏光板に比べて偏光性能が劣る。
り、上記（２）〜（５）の解決は困難である。又連続染
色法ではなく、バッチ染色法による方法も採用されてい
るが完全に光学的に均質なものは得られにくく、その上
生産性が悪くなるのでさらにコスト高となる。また、特
開昭56−158801号公報、特開昭62−89002号公報には、
前記問題点のいくつかを解決した染料系偏光膜および染
料系偏光板の製造方法が示されているが、いずれもよう
素を用いた偏光膜又は偏光板に比べて偏光性能が劣る。
本発明は、従来の技術が持つ以上のような課題を解決
し、高性能な染料系偏光板を生産性よく製造する方法を
提供するものである。
し、高性能な染料系偏光板を生産性よく製造する方法を
提供するものである。
本発明者らは、これらの状況に鑑み、鋭意検討した結
果、本発明に到達したものであり、 （１） 特定の二色性染料と親水性高分子重合体を含む
混合物から製膜したあと、一軸方向に延伸処理すること
によって、高性能で生産性に優れた染料系偏光膜を製造
する方法、および （２） 上記混合物を疎水性高分子フィルム上に製膜
し、該疎水性高分子フィルムと共に一軸延伸処理を実施
し、該疎水性高分子フィルムを保護膜として使用するこ
とにより、安価で高性能で、かつ生産性に優れた染料系
偏光板を製造する方法、に関するものである。
果、本発明に到達したものであり、 （１） 特定の二色性染料と親水性高分子重合体を含む
混合物から製膜したあと、一軸方向に延伸処理すること
によって、高性能で生産性に優れた染料系偏光膜を製造
する方法、および （２） 上記混合物を疎水性高分子フィルム上に製膜
し、該疎水性高分子フィルムと共に一軸延伸処理を実施
し、該疎水性高分子フィルムを保護膜として使用するこ
とにより、安価で高性能で、かつ生産性に優れた染料系
偏光板を製造する方法、に関するものである。
すなわち、本発明は具体的には、以下の通りである。
（１） 下記の一般式（Ｉ）〜（IV）で示される染料の
１種類以上と親水性高分子重合体を含む混合物を製膜し
たあと、一軸に延伸処理することを特徴とする染料系偏
光膜の製造方法。
１種類以上と親水性高分子重合体を含む混合物を製膜し
たあと、一軸に延伸処理することを特徴とする染料系偏
光膜の製造方法。
（式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
Ｒは遷移金属と錯結合している水酸基の隣接位置におい
てアゾ基と結合しており、更に置換基として、スルホン
酸基、スルホンアミド基、アミノ基、アシルアミノ基、
アリルアミノ基又はアゾ基に隣接しない水酸基を有する
ことのできる１−ナフトール又は２ナフトール残基を示
す。ＸおよびＹは水素原子、C1〜C4のアルキル基、低級
アルコキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基、スルホン
アミド基、アミノ基、アシルアミノ基、ハロゲンまたは
ニトロ基を示し、Ｚは水素原子、C1〜C4のアルキル基ま
たは低級アルコキシ基を示す。而して、式（Ｉ）は１〜
３ケのスルホン酸基を有するものとする。） （式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
Ｒは遷移金属と錯結合している水酸基の隣接位置におい
てアゾ基と結合しており、更に置換基として、スルホン
酸基、スルホンアミド基、アルキル基、アルキルアミノ
基、アミノ基、アリルアミノ基、アルコキシル基または
アゾ基に隣接しない水酸基を有することのできるフェノ
ール残基である。ＸおよびＹは水素原子、C1〜C4のアル
キル基、低級アルコキシ基、カルボン酸基、スルホン酸
基、スルホンアミド基、アミノ基、アシルアミノ基、ハ
ロゲンまたはニトロ基を示し、Ｚは水素原子、C1〜C4の
アルキル基または低級アルコキシ基を示す。而して、式
（Ｉ）は１〜３ケのスルホン酸基を有するものとす
る。） （式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
R1はCH3、CN、CO2CH3、CO2C2H5、CONH2を示す。R2はス
ルホン酸基、スルホンアミド基、スルホンアルキルアミ
ド基、アルキル基、クロル原子、 基によって置換されていてもよいフェニル残基を示す。
ＸおよびＹは水素原子、C1〜C4のアルキル基、低級アル
コキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基、スルホンアミ
ド基、アミノ基、アシルアミノ基、ハロゲンまたはニト
ロ基を示し、Ｚは水素原子、C1〜C4のアルキル基または
低級アルコキシ基を示す。而して、式（Ｉ）は１〜３ケ
のスルホン酸基を有するものとする。） （式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
R1およびR2は該遷移金属と錯結合している水酸基の隣接
位置においてアゾ基と結合しており、更に置換基とし
て、スルホン酸基、スルホンアミド基、アミノ基、アシ
ルアミノ基、アリルアミノ基またはアゾ基に隣接しない
水酸基を有することのできる１−ナフトール又は２−ナ
フトール残基を示す。而して、式（Ｉ）は１〜３ケのス
ルホン酸基を有するものとする。） （２） 上記一般式（Ｉ）〜（IV）で示される染料の１
種類以上と特定の波長領域に吸引を持つ有機系直接染料
を併用し、これらと親水性高分子重合体を含む混合物を
製膜したあと、一軸に延伸処理することを特徴とする染
料系偏光膜の製造方法。
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
Ｒは遷移金属と錯結合している水酸基の隣接位置におい
てアゾ基と結合しており、更に置換基として、スルホン
酸基、スルホンアミド基、アミノ基、アシルアミノ基、
アリルアミノ基又はアゾ基に隣接しない水酸基を有する
ことのできる１−ナフトール又は２ナフトール残基を示
す。ＸおよびＹは水素原子、C1〜C4のアルキル基、低級
アルコキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基、スルホン
アミド基、アミノ基、アシルアミノ基、ハロゲンまたは
ニトロ基を示し、Ｚは水素原子、C1〜C4のアルキル基ま
たは低級アルコキシ基を示す。而して、式（Ｉ）は１〜
３ケのスルホン酸基を有するものとする。） （式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
Ｒは遷移金属と錯結合している水酸基の隣接位置におい
てアゾ基と結合しており、更に置換基として、スルホン
酸基、スルホンアミド基、アルキル基、アルキルアミノ
基、アミノ基、アリルアミノ基、アルコキシル基または
アゾ基に隣接しない水酸基を有することのできるフェノ
ール残基である。ＸおよびＹは水素原子、C1〜C4のアル
キル基、低級アルコキシ基、カルボン酸基、スルホン酸
基、スルホンアミド基、アミノ基、アシルアミノ基、ハ
ロゲンまたはニトロ基を示し、Ｚは水素原子、C1〜C4の
アルキル基または低級アルコキシ基を示す。而して、式
（Ｉ）は１〜３ケのスルホン酸基を有するものとす
る。） （式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
R1はCH3、CN、CO2CH3、CO2C2H5、CONH2を示す。R2はス
ルホン酸基、スルホンアミド基、スルホンアルキルアミ
ド基、アルキル基、クロル原子、 基によって置換されていてもよいフェニル残基を示す。
ＸおよびＹは水素原子、C1〜C4のアルキル基、低級アル
コキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基、スルホンアミ
ド基、アミノ基、アシルアミノ基、ハロゲンまたはニト
ロ基を示し、Ｚは水素原子、C1〜C4のアルキル基または
低級アルコキシ基を示す。而して、式（Ｉ）は１〜３ケ
のスルホン酸基を有するものとする。） （式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
R1およびR2は該遷移金属と錯結合している水酸基の隣接
位置においてアゾ基と結合しており、更に置換基とし
て、スルホン酸基、スルホンアミド基、アミノ基、アシ
ルアミノ基、アリルアミノ基またはアゾ基に隣接しない
水酸基を有することのできる１−ナフトール又は２−ナ
フトール残基を示す。而して、式（Ｉ）は１〜３ケのス
ルホン酸基を有するものとする。） （２） 上記一般式（Ｉ）〜（IV）で示される染料の１
種類以上と特定の波長領域に吸引を持つ有機系直接染料
を併用し、これらと親水性高分子重合体を含む混合物を
製膜したあと、一軸に延伸処理することを特徴とする染
料系偏光膜の製造方法。
（３） 上記一般式（Ｉ）〜（IV）のいずれかで示され
る染料の１種類以上と、親水性高分子重合体を含む混合
物を疎水性高分子フィルム上に製膜し、得られた複合フ
ィルムの染料と親水性高分子重合体の混合物からなる層
の表面に疎水性高分子フィルムを積層し、一軸延伸する
ことを特徴とする染料系偏光板の製造方法。
る染料の１種類以上と、親水性高分子重合体を含む混合
物を疎水性高分子フィルム上に製膜し、得られた複合フ
ィルムの染料と親水性高分子重合体の混合物からなる層
の表面に疎水性高分子フィルムを積層し、一軸延伸する
ことを特徴とする染料系偏光板の製造方法。
（４） 上記一般式（Ｉ）〜（IV）のいずれかで示され
る染料の１種類以上と特定の波長領域に吸収を持つ有機
系直接染料を併用し、これらと親水性高分子重合体を含
む混合物を疎水性高分子フィルム上に製膜し、得られた
複合フィルムの染料と親水性高分子重合体の混合物から
なる層の表面に疎水性高分子フィルムを積層し、一軸延
伸処理することを特徴とする染料系偏光板の製造方法。
る染料の１種類以上と特定の波長領域に吸収を持つ有機
系直接染料を併用し、これらと親水性高分子重合体を含
む混合物を疎水性高分子フィルム上に製膜し、得られた
複合フィルムの染料と親水性高分子重合体の混合物から
なる層の表面に疎水性高分子フィルムを積層し、一軸延
伸処理することを特徴とする染料系偏光板の製造方法。
前記した本発明の具体的な構成において、（１）、
（２）は高性能で生産性に優れた染料系偏光膜の製造方
法を提供し、（８）、（４）は安価でかつ高性能であ
り、耐久性も優れ、さらに生産性に優れた染料系偏光板
の製造方法を提供するものである。
（２）は高性能で生産性に優れた染料系偏光膜の製造方
法を提供し、（８）、（４）は安価でかつ高性能であ
り、耐久性も優れ、さらに生産性に優れた染料系偏光板
の製造方法を提供するものである。
本発明に用いる一般式（１）〜式（IV）で示される染
料の具体例を（１）〜（56）に示す。
料の具体例を（１）〜（56）に示す。
式（１）においてMeは、銅（Cu）、ニッケル（Ni）、
亜鉛（Zn）又は鉄（Fe）を示す。
亜鉛（Zn）又は鉄（Fe）を示す。
式（７）においてMeは、銅（Cu）、ニッケル（Ni）、
亜鉛（Zn）又は鉄（Fe）を示す。
亜鉛（Zn）又は鉄（Fe）を示す。
式（８）においてMeは、銅（Cu）、ニッケル（Ni）、
又は亜鉛（Zn）を示す。
又は亜鉛（Zn）を示す。
式（13）においてMeは、銅（Cu）、ニッケル（Ni）、
又は亜鉛（Zn）を示す。
又は亜鉛（Zn）を示す。
式中（29）においてMeは、銅（Cu）、ニッケル（N
i）、亜鉛（Zn）又は鉄（Fe）を示す。
i）、亜鉛（Zn）又は鉄（Fe）を示す。
式（43）においてMeは、ニッケル（Ni）、亜鉛（Zn）
又は鉄（Fe）を示す。
又は鉄（Fe）を示す。
又、本発明において一般式（Ｉ）〜（IV）で示される
染料に特定の波長領域に吸収を有する有機系直接染料を
併用することにより色相の修正ならびに偏光性能の向上
が達成される。この場合に用いる有機系直接染料として
は、一般式（Ｉ）〜（IV）で示される銅、又はニッケ
ル、又は亜鉛、又は鉄含有のジスアゾ系直接染料の吸収
波長領域と異なる波長領域に吸収特性を有する染料であ
って、二色性の高いものであれば、どんなものでもよい
が、一般にはアゾ系染料のなかから選択される。本発明
に用いられる有機系直接染料としては、カラー・インデ
ックス・ジュネリック・ネーム（C.I.Generic Name）と
商品名にて表わして、次のようなものが例示される。
染料に特定の波長領域に吸収を有する有機系直接染料を
併用することにより色相の修正ならびに偏光性能の向上
が達成される。この場合に用いる有機系直接染料として
は、一般式（Ｉ）〜（IV）で示される銅、又はニッケ
ル、又は亜鉛、又は鉄含有のジスアゾ系直接染料の吸収
波長領域と異なる波長領域に吸収特性を有する染料であ
って、二色性の高いものであれば、どんなものでもよい
が、一般にはアゾ系染料のなかから選択される。本発明
に用いられる有機系直接染料としては、カラー・インデ
ックス・ジュネリック・ネーム（C.I.Generic Name）と
商品名にて表わして、次のようなものが例示される。
シー・アイ・ダイレクト・イエロー12 （C.I.Direct Yellow 12・・・クリソフェニン） シー・アイ・ダイレクト・ブルー202 （C.I.Direct Blue 202・・・スミライト・スプラ・ブ
ルー 3GS） シー・アイ・ダイレクト・レッド31 （C.I.Direct Red 31・・・ニッポン・ファースト・レ
ッド BB コンク） シー・アイ・ダイレクト・バイオレット９ （C.I.Direct Violet 9・・・ニッポン・ブリリアント
・バイオレット BK コンク） シー・アイ・ダイレクト・イエロー44 （C.I.Direct Yellow 44・・・ダイレクト・ファースト
・イエロー GC） シー・アイ・ダイレクト・イエロー28 （C.I.Direct Yellow 28・・・スミライト・スプラ・イ
エロー BC コンク） シー・アイ・ダイレクト・オレンジ107 （C.I.Direct Orange 107・・・スミライト・スプラ・
オレンジ GD エクストラ コンク） シー・アイ・ダイレクト・レッド79 （C.I.Direct Red 79・・・スミライト・スプラ・レッ
ド4BL 170％） シー・アイ・ダイレクト・ブルー71 （C.I.Direct Blue 71・・・スミライト・ブルー BRR
コンク） シー・アイ・ダイレクト・ブルー78 （C.I.Direct Blue 78・・・スミライト・スプラ・ブル
ーＧ コンク） シー・アイ・ダイレクト・レッド２ （C.I.Direct Red 2・・・ベンゾ・パープュリン 4B） シー・アイ・ダイレクト・レッド81 （C.I.Direct Red 81・・・スミライト・レッド 4B） シー・アイ・ダイレクト・バイオレット51 （C.I.Direct Violet 51・・・スミライト・バイオレッ
ト BB） シー・アイ・ダイレクト・オレンジ26 （C.I.Direct Orange 26・・・ダイレクト・ファースト
オレンジ Ｓ） シー・アイ・ダイレクト・レッド247 （C.I.Direct Red 247・・・ジャパノール・ファース・
レッド FA） シー・アイ・ダイレクト・ブルー168 （C.I.Direct Blue 168・・・ダイレクト・カッパー・
ブルー 2B） シー・アイ・ダイレクト・グリーン85 （C.I.Direct Green 85・・・ダイレクト・ダーク・グ
リーン BA） シー・アイ・ダイレクト・ブラウン228 （C.I.Direct Brown 228・・・ダイレクト・ブラウン
MA） シー・アイ・ダイレクト・ブラウン106 （C.I.Direct Brown 106・・・スミライト・スプラ・ブ
ラウン Ｇ コンク） シー・アイ・ダイレクト・イエロー142 （C.I.Direct Yellow 142・・・スミライト・イエロー
GR） シー・アイ・ダイレクト・ブルー１ （C.I.Direct Blue・・・ダイレクト・スカイ・ブルー
6B） 本発明に用いる親水性高分子重合体としてはポリビニ
ルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセ
タールおよびポリビニルブチラール等のポリビニルアル
コールとその誘導体が一般的に用いられる他、それらを
エチレン、プロピレン等のオレフィンやクロトン酸、ア
クリル酸、メタアクリル酸、マレイン酸などの不飽和カ
ルボン酸あるいはこれらのアルキルエステル、アクリル
アミド等で変性したもの、ケン化EVA樹脂、セルロース
系樹脂等が一般的に用いられる。なかでも、ポリビニル
アルコールおよびその誘導体からなる高分子重合体は水
あるいは有機溶剤への溶解性が良好であり、本発明に用
いる二色性良好な有機直接染料との相容性も良好である
上に、製膜し、延伸配向させたときに二色性染料が配向
しやすいので、本発明には特な有用な親水性高分子重合
体である。さらにケン化度、好ましくは95％以上の高ケ
ン化度のポリビニルアルコールは、なかでも本発明には
特に有用な親水性高分子重合体である。
ルー 3GS） シー・アイ・ダイレクト・レッド31 （C.I.Direct Red 31・・・ニッポン・ファースト・レ
ッド BB コンク） シー・アイ・ダイレクト・バイオレット９ （C.I.Direct Violet 9・・・ニッポン・ブリリアント
・バイオレット BK コンク） シー・アイ・ダイレクト・イエロー44 （C.I.Direct Yellow 44・・・ダイレクト・ファースト
・イエロー GC） シー・アイ・ダイレクト・イエロー28 （C.I.Direct Yellow 28・・・スミライト・スプラ・イ
エロー BC コンク） シー・アイ・ダイレクト・オレンジ107 （C.I.Direct Orange 107・・・スミライト・スプラ・
オレンジ GD エクストラ コンク） シー・アイ・ダイレクト・レッド79 （C.I.Direct Red 79・・・スミライト・スプラ・レッ
ド4BL 170％） シー・アイ・ダイレクト・ブルー71 （C.I.Direct Blue 71・・・スミライト・ブルー BRR
コンク） シー・アイ・ダイレクト・ブルー78 （C.I.Direct Blue 78・・・スミライト・スプラ・ブル
ーＧ コンク） シー・アイ・ダイレクト・レッド２ （C.I.Direct Red 2・・・ベンゾ・パープュリン 4B） シー・アイ・ダイレクト・レッド81 （C.I.Direct Red 81・・・スミライト・レッド 4B） シー・アイ・ダイレクト・バイオレット51 （C.I.Direct Violet 51・・・スミライト・バイオレッ
ト BB） シー・アイ・ダイレクト・オレンジ26 （C.I.Direct Orange 26・・・ダイレクト・ファースト
オレンジ Ｓ） シー・アイ・ダイレクト・レッド247 （C.I.Direct Red 247・・・ジャパノール・ファース・
レッド FA） シー・アイ・ダイレクト・ブルー168 （C.I.Direct Blue 168・・・ダイレクト・カッパー・
ブルー 2B） シー・アイ・ダイレクト・グリーン85 （C.I.Direct Green 85・・・ダイレクト・ダーク・グ
リーン BA） シー・アイ・ダイレクト・ブラウン228 （C.I.Direct Brown 228・・・ダイレクト・ブラウン
MA） シー・アイ・ダイレクト・ブラウン106 （C.I.Direct Brown 106・・・スミライト・スプラ・ブ
ラウン Ｇ コンク） シー・アイ・ダイレクト・イエロー142 （C.I.Direct Yellow 142・・・スミライト・イエロー
GR） シー・アイ・ダイレクト・ブルー１ （C.I.Direct Blue・・・ダイレクト・スカイ・ブルー
6B） 本発明に用いる親水性高分子重合体としてはポリビニ
ルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセ
タールおよびポリビニルブチラール等のポリビニルアル
コールとその誘導体が一般的に用いられる他、それらを
エチレン、プロピレン等のオレフィンやクロトン酸、ア
クリル酸、メタアクリル酸、マレイン酸などの不飽和カ
ルボン酸あるいはこれらのアルキルエステル、アクリル
アミド等で変性したもの、ケン化EVA樹脂、セルロース
系樹脂等が一般的に用いられる。なかでも、ポリビニル
アルコールおよびその誘導体からなる高分子重合体は水
あるいは有機溶剤への溶解性が良好であり、本発明に用
いる二色性良好な有機直接染料との相容性も良好である
上に、製膜し、延伸配向させたときに二色性染料が配向
しやすいので、本発明には特な有用な親水性高分子重合
体である。さらにケン化度、好ましくは95％以上の高ケ
ン化度のポリビニルアルコールは、なかでも本発明には
特に有用な親水性高分子重合体である。
親水性高分子重合体および二色性染料を溶解するため
の溶媒は、これらを溶解するものであれば、どんなもの
でもよく、特に限定はない。例えばポリビニルアルコー
ルおよびその誘導体を用いた場合には、水、エチレング
リコール、グリセリン、ジメチルホルムアミドおよびこ
れらの混合溶媒、さらにはメタノール、エタノール等の
一価アルコール等を併用した溶媒等が使用できる。なか
でも温水はケン化度の大きなポリビニルアルコールを良
く溶解するのでよく用いられる溶媒である。
の溶媒は、これらを溶解するものであれば、どんなもの
でもよく、特に限定はない。例えばポリビニルアルコー
ルおよびその誘導体を用いた場合には、水、エチレング
リコール、グリセリン、ジメチルホルムアミドおよびこ
れらの混合溶媒、さらにはメタノール、エタノール等の
一価アルコール等を併用した溶媒等が使用できる。なか
でも温水はケン化度の大きなポリビニルアルコールを良
く溶解するのでよく用いられる溶媒である。
溶媒に親水性高分子重合体と本発明に用いる二色性染
料を溶解する方法としては、均一に溶解・混合するので
あれば、どんな方法でもよいが、まず溶媒のなかに二色
性染料を溶解し、そのあとで、親水性高分子重合体を投
入し溶解する方法が採用できる。さらに親水性高分子重
合体と二色性染料を別々の溶媒に溶解したあとで混合溶
解する方法も可能である。
料を溶解する方法としては、均一に溶解・混合するので
あれば、どんな方法でもよいが、まず溶媒のなかに二色
性染料を溶解し、そのあとで、親水性高分子重合体を投
入し溶解する方法が採用できる。さらに親水性高分子重
合体と二色性染料を別々の溶媒に溶解したあとで混合溶
解する方法も可能である。
溶媒に溶解する親水性高分子重合体の濃度としては親
水性高分子重合体の種類によっても異なるが、一般的に
は５〜80％、好ましくは10〜20％である。溶媒に溶解す
る本発明に用いる二色性染料の濃度としては、親水性高
分子重合体の種類、二色性染料の種類、製膜したときの
フィルムの厚み、偏光膜にしたときの要求性能等によっ
てかわるが一般的には親水性高分子重合体に対して、0.
1〜５％好ましくは0.8〜2.5％程度である。
水性高分子重合体の種類によっても異なるが、一般的に
は５〜80％、好ましくは10〜20％である。溶媒に溶解す
る本発明に用いる二色性染料の濃度としては、親水性高
分子重合体の種類、二色性染料の種類、製膜したときの
フィルムの厚み、偏光膜にしたときの要求性能等によっ
てかわるが一般的には親水性高分子重合体に対して、0.
1〜５％好ましくは0.8〜2.5％程度である。
まず第１の発明である高性能で生産性に優れた染料系
偏光膜の製造方法について説明する。このような混合物
からフィルムに製膜したあと、適当な方法により一軸方
向に延伸処理することによって高性能な染料系偏光膜が
得られる。延伸処理によって、染料分子が配向し、偏光
性能が発現する。一軸に延伸する方法としてはテンター
方式にて引張り延伸をおこなう方法、ロール間にて引張
り延伸をおこなう方法、ロール間にて圧縮延伸をおこな
う方法等があり、いずれの方法にて延伸をおこなっても
よい。
偏光膜の製造方法について説明する。このような混合物
からフィルムに製膜したあと、適当な方法により一軸方
向に延伸処理することによって高性能な染料系偏光膜が
得られる。延伸処理によって、染料分子が配向し、偏光
性能が発現する。一軸に延伸する方法としてはテンター
方式にて引張り延伸をおこなう方法、ロール間にて引張
り延伸をおこなう方法、ロール間にて圧縮延伸をおこな
う方法等があり、いずれの方法にて延伸をおこなっても
よい。
延伸処理したあとで、耐水性と偏光性能を向上させる
目的でホウ酸処理を実施する。ホウ酸処理により、偏光
膜の光線透過率と偏光度が向上する。ホウ酸処理の条件
としては、用いる親水性高分子重合体の種類、用いる染
料等によって異なるが、一般的にはホウ酸濃度としては
１〜15％、好ましくは５〜10％、また処理温度としては
30〜80℃、好ましくは50〜70℃の範囲である。ホウ酸濃
度が１％以下、温度が80℃以下の場合は処理効果が小さ
く、又、ホウ酸濃度が15％以上、温度30℃以上の場合
は、偏光膜がもろくなり好ましくない。さらに必要に応
じてカチオン系高分子化合物を含む水溶液でフィックス
処理を併用しておこなってもよい。
目的でホウ酸処理を実施する。ホウ酸処理により、偏光
膜の光線透過率と偏光度が向上する。ホウ酸処理の条件
としては、用いる親水性高分子重合体の種類、用いる染
料等によって異なるが、一般的にはホウ酸濃度としては
１〜15％、好ましくは５〜10％、また処理温度としては
30〜80℃、好ましくは50〜70℃の範囲である。ホウ酸濃
度が１％以下、温度が80℃以下の場合は処理効果が小さ
く、又、ホウ酸濃度が15％以上、温度30℃以上の場合
は、偏光膜がもろくなり好ましくない。さらに必要に応
じてカチオン系高分子化合物を含む水溶液でフィックス
処理を併用しておこなってもよい。
又、このようにして得られた高性能な染料系偏光膜
は、その片面あるいは両面に光学的透明感と機械的強度
に優れた保護膜を貼合して、偏光板として使用される。
は、その片面あるいは両面に光学的透明感と機械的強度
に優れた保護膜を貼合して、偏光板として使用される。
保護膜を形成する材料としては、従来から使用されて
いるセルロースアセテート系フィルム、アクリル系フィ
ルムの他、４フッ化エチレン−６フッ化プロピレン系供
給重合体等のフッソ系フィルム、ポリエステル樹脂やポ
リオレフィン樹脂あるいはポリアミド系樹脂からなるフ
ィルムを一軸に延伸配向処理したフィルム等が用いられ
る。
いるセルロースアセテート系フィルム、アクリル系フィ
ルムの他、４フッ化エチレン−６フッ化プロピレン系供
給重合体等のフッソ系フィルム、ポリエステル樹脂やポ
リオレフィン樹脂あるいはポリアミド系樹脂からなるフ
ィルムを一軸に延伸配向処理したフィルム等が用いられ
る。
次に第２の発明である高性能で安価な生産性に優れた
染料系偏光板の製造方法について説明する。
染料系偏光板の製造方法について説明する。
前記の親水性高分子重合体と二色性染料を溶解した混
合物を疎水性高分子フィルム上に流延して製膜し、フィ
ルム化する。フィルムの厚みとしては、５〜50μｍ程度
が好ましい。
合物を疎水性高分子フィルム上に流延して製膜し、フィ
ルム化する。フィルムの厚みとしては、５〜50μｍ程度
が好ましい。
偏光フィルムの保護膜として本発明に用いる疎水性高
分子フィルムとしては、一軸延伸処理したときに、光線
透過率が向上し、80％以上になるものであれば、基本的
にはどんなものでもよく、酢酸セルロース系フィルム、
アクリル系フィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等
のオレフィン系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリ
エステル系フィルム、４フッ化エチレン−６フッ化プロ
ピレン系共重合体等のフッソ系フィルム、塩化ビニル系
フィルム等ほとんどの熱可ソ性樹脂フィルムが使用可能
である。
分子フィルムとしては、一軸延伸処理したときに、光線
透過率が向上し、80％以上になるものであれば、基本的
にはどんなものでもよく、酢酸セルロース系フィルム、
アクリル系フィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等
のオレフィン系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリ
エステル系フィルム、４フッ化エチレン−６フッ化プロ
ピレン系共重合体等のフッソ系フィルム、塩化ビニル系
フィルム等ほとんどの熱可ソ性樹脂フィルムが使用可能
である。
これらの高分子フィルム上に親水性高分子重合体と二
色性染料を溶解した混合物を流延するに際して、該高分
子フィルム表面をコロナ処理、プラズマ処理、有機チタ
ネート処理等の手段で活性化しぬれ性を向上させておく
と有用である。必要に応じて接着性の組成物をコーティ
ングすることもある。このようにして表面ぬれ性の向上
した高分子フィルム上に親水性高分子重合体と二色性染
料を溶解した混合物を流延して製膜し、フィルム化す
る。高分子フィルムと混合物フィルムの接着性を上げる
ために、製膜したあとで電子線処理、紫外線処理等をお
こなうことも有効である。
色性染料を溶解した混合物を流延するに際して、該高分
子フィルム表面をコロナ処理、プラズマ処理、有機チタ
ネート処理等の手段で活性化しぬれ性を向上させておく
と有用である。必要に応じて接着性の組成物をコーティ
ングすることもある。このようにして表面ぬれ性の向上
した高分子フィルム上に親水性高分子重合体と二色性染
料を溶解した混合物を流延して製膜し、フィルム化す
る。高分子フィルムと混合物フィルムの接着性を上げる
ために、製膜したあとで電子線処理、紫外線処理等をお
こなうことも有効である。
又、このようにして得られた、疎水性高分子フィルム
と染料を含む親水性高分子フィルムとの複合膜の染料を
含む親水性高分子フィルムの側に疎水性高分子フィルム
を積層し、一軸に延伸処理することによって両側に保護
膜の貼り合わされた高性能な染料系偏光板が得られる。
延伸処理によって、染料分子が配向し、偏光性能が発現
する。しかも疎水性高分子フィルムを保護膜として用い
ており、製造工程も簡略化し、安価である。一軸に延伸
する方法としては、テンター法にて引張り延伸をおこな
う方法、ロール間にて引張り延伸をおこなう方法、ロー
ル間にて圧縮延伸をおこなう方法等があり、いずれの方
法にて延伸をおこなってもよいが、異種の高分子の複合
体を同時に延伸することになるので、ロール間にて圧縮
延伸をおこなう方法が最も有効である。高分子フィルム
の種類によって延伸条件が異なるため、引張り延伸法で
は均一に延伸することが困難であるが、圧縮延伸法では
延伸の許容範囲が広く延伸可能となる。このようにして
偏光板を製造する方法は、染料系偏光板を安価に製造す
る上で画期的な方法となった。圧縮延伸における延伸倍
率としては２〜９倍程度であるが、複合フィルムを形成
する高分子の種類によって異なるが、通常は〜６倍程度
の延伸を行なうことができる。親水性高分子重合体とし
てポリビニルアルコール、疎水性高分子フィルムとして
高密度ポリエチレンを用いた場合の延伸倍率としては３
〜８倍好ましくは3.5〜６倍である。
と染料を含む親水性高分子フィルムとの複合膜の染料を
含む親水性高分子フィルムの側に疎水性高分子フィルム
を積層し、一軸に延伸処理することによって両側に保護
膜の貼り合わされた高性能な染料系偏光板が得られる。
延伸処理によって、染料分子が配向し、偏光性能が発現
する。しかも疎水性高分子フィルムを保護膜として用い
ており、製造工程も簡略化し、安価である。一軸に延伸
する方法としては、テンター法にて引張り延伸をおこな
う方法、ロール間にて引張り延伸をおこなう方法、ロー
ル間にて圧縮延伸をおこなう方法等があり、いずれの方
法にて延伸をおこなってもよいが、異種の高分子の複合
体を同時に延伸することになるので、ロール間にて圧縮
延伸をおこなう方法が最も有効である。高分子フィルム
の種類によって延伸条件が異なるため、引張り延伸法で
は均一に延伸することが困難であるが、圧縮延伸法では
延伸の許容範囲が広く延伸可能となる。このようにして
偏光板を製造する方法は、染料系偏光板を安価に製造す
る上で画期的な方法となった。圧縮延伸における延伸倍
率としては２〜９倍程度であるが、複合フィルムを形成
する高分子の種類によって異なるが、通常は〜６倍程度
の延伸を行なうことができる。親水性高分子重合体とし
てポリビニルアルコール、疎水性高分子フィルムとして
高密度ポリエチレンを用いた場合の延伸倍率としては３
〜８倍好ましくは3.5〜６倍である。
疎水性高分子フィルムと親水性高分子フィルムの複合
フィルムを延伸処理したあとで、該親水性高分子フィル
ムの耐水性と偏光性能を向上させる目的で前述の方法に
よりホウ酸処理を実施してもよい。
フィルムを延伸処理したあとで、該親水性高分子フィル
ムの耐水性と偏光性能を向上させる目的で前述の方法に
よりホウ酸処理を実施してもよい。
このようにして得られた染料系偏光膜、および染料系
偏光板は、二色性の良好な染料を用いているので従来の
染料系偏光膜および偏光板に比べて、高性能であり、従
来のようにフィルムに染色する工程が省略できるので、
染色液の調合・廃液の処理等が不要となり製造工程が大
幅に簡素化され、製造中のトラブルも少なくなり、生産
性と歩留りが向上するので従来の染料系偏光膜および偏
光板に比べて大幅なコスト低下となる。さらには、従来
のように染色する工程を経ないので、二色性染料は親水
性高分子フィルムに均質に分散しており色ムラが少な
く、長尺にわたって色相変化が少なく、きわめて光学的
に均質な染料系偏光膜および偏光板となる。
偏光板は、二色性の良好な染料を用いているので従来の
染料系偏光膜および偏光板に比べて、高性能であり、従
来のようにフィルムに染色する工程が省略できるので、
染色液の調合・廃液の処理等が不要となり製造工程が大
幅に簡素化され、製造中のトラブルも少なくなり、生産
性と歩留りが向上するので従来の染料系偏光膜および偏
光板に比べて大幅なコスト低下となる。さらには、従来
のように染色する工程を経ないので、二色性染料は親水
性高分子フィルムに均質に分散しており色ムラが少な
く、長尺にわたって色相変化が少なく、きわめて光学的
に均質な染料系偏光膜および偏光板となる。
このようにして得られた高性能な染料系偏光膜および
偏光板は、よう素を偏光素子としたよう素系偏光板の偏
光性能に匹敵するすぐれた偏光性能を有しているから、
液晶表示体の用途に使用可能である。特に車載用途、各
種工業計器類の表示用途等高耐久を必要としている用途
に好適である。
偏光板は、よう素を偏光素子としたよう素系偏光板の偏
光性能に匹敵するすぐれた偏光性能を有しているから、
液晶表示体の用途に使用可能である。特に車載用途、各
種工業計器類の表示用途等高耐久を必要としている用途
に好適である。
以下実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
これらは例示的なものであり、本発明は、これらに限定
されるものではない。
これらは例示的なものであり、本発明は、これらに限定
されるものではない。
なお、本発明における光線透過率とは、偏光膜１枚の
光線透過率を測定し（測定器；日立製作所 UV−330型
分光光度計）、JIS Z8701（XYZ表色系、及びX10Y10Z10
表色系による色の表示方法）に従って求めたＹの値であ
り、偏光度とは、偏光膜２枚を重ねた状態で光線透過率
を測定し、上記の方法によりＹの値を求め、次の式によ
り求めたものである。
光線透過率を測定し（測定器；日立製作所 UV−330型
分光光度計）、JIS Z8701（XYZ表色系、及びX10Y10Z10
表色系による色の表示方法）に従って求めたＹの値であ
り、偏光度とは、偏光膜２枚を重ねた状態で光線透過率
を測定し、上記の方法によりＹの値を求め、次の式によ
り求めたものである。
ここでＹ‖は、２枚のサンプルの重ね合わせ時におい
て偏光膜の配向方向が同一方向になるように重ね合わせ
た状態で測定した光線透過率（平行透過率と呼ばれてい
る）から求められたＹの値であり、Ｙ⊥は２枚のサンプ
ルの重ね合わせ時において、偏光膜の配向方向が、直交
するように重ね合わせた状態で測定した光線透過率（直
交透過率と呼ばれている）から求められたＹの値であ
る。偏光性能は、実施例１〜４および比較例１、２は、
特定吸収波長での値、実施例５〜９および比較例３は、
400〜700nmでの平均値にて表示する。
て偏光膜の配向方向が同一方向になるように重ね合わせ
た状態で測定した光線透過率（平行透過率と呼ばれてい
る）から求められたＹの値であり、Ｙ⊥は２枚のサンプ
ルの重ね合わせ時において、偏光膜の配向方向が、直交
するように重ね合わせた状態で測定した光線透過率（直
交透過率と呼ばれている）から求められたＹの値であ
る。偏光性能は、実施例１〜４および比較例１、２は、
特定吸収波長での値、実施例５〜９および比較例３は、
400〜700nmでの平均値にて表示する。
実施例１ 平均重合度1700、ケン比度99.5％のポリビニルアルコ
ールを水に溶解し、この溶液にポリビニルアルコールに
対して式（１）で示される水溶性銅含有ジスアゾ染料を
2.4wt％添加して、完全にかつ均一に溶解させた。この
混合液を用いて乾燥後約55μｍのフィルムになるように
製膜し、乾燥させた。該フィルムを105℃の一対のロー
ル間で縦一軸に４倍の圧縮延伸をおこなったあと、ホウ
酸を7.5wt％の濃度とした65℃の水溶液に５分間浸漬
し、水洗をおこない偏光膜を得た。該偏光膜の両面に三
酢酸セルロースフィルムをウレタン系接着剤を用いて貼
合し、染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
ールを水に溶解し、この溶液にポリビニルアルコールに
対して式（１）で示される水溶性銅含有ジスアゾ染料を
2.4wt％添加して、完全にかつ均一に溶解させた。この
混合液を用いて乾燥後約55μｍのフィルムになるように
製膜し、乾燥させた。該フィルムを105℃の一対のロー
ル間で縦一軸に４倍の圧縮延伸をおこなったあと、ホウ
酸を7.5wt％の濃度とした65℃の水溶液に５分間浸漬
し、水洗をおこない偏光膜を得た。該偏光膜の両面に三
酢酸セルロースフィルムをウレタン系接着剤を用いて貼
合し、染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
実施例２ 染料として式（１）に示される水溶性亜鉛含有ジスア
ゾ染料2.3wt％用いる以外は実施例１と全く同様に実施
し、染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
ゾ染料2.3wt％用いる以外は実施例１と全く同様に実施
し、染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
実施例３ 染料として式（43）に示すニッケル含有ジスアゾ染料
を2.6wt％用いる以外は実施例と全く同様に実施し、染
料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
を2.6wt％用いる以外は実施例と全く同様に実施し、染
料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
実施例４ 染料として、式（43）に示す鉄含有ジスアゾ染料を2.
5wt％用いる以外は実施例１と全く同様に実施し、染料
系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
5wt％用いる以外は実施例１と全く同様に実施し、染料
系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
比較例１ 染料としてシー・アイ・ダイレクト・バイオレット９
（C.I.Direct Violet 9）を2.5wt％を用いる以外は実施
例１と全く同様に実施し、染料系偏光板を得た。偏光特
性を表１に示す。
（C.I.Direct Violet 9）を2.5wt％を用いる以外は実施
例１と全く同様に実施し、染料系偏光板を得た。偏光特
性を表１に示す。
比較例２ 染料として、シー・アイ・ダイレクト・ブルー１（C.
I.Direct Blue 1）を2.4wt％用いる以外は実施例１と全
く同様に実施し、染料系偏光板を得た。偏光特性を表１
に示す。
I.Direct Blue 1）を2.4wt％用いる以外は実施例１と全
く同様に実施し、染料系偏光板を得た。偏光特性を表１
に示す。
実施例５ 染料として式（14）に示すニッケル含有ジスアゾ染料
を1.3wt％、シー・アイ・ダイレクト・レッド２（C.I.D
irect Red 2）を0.5wt％、シー・アイ・ダイレクト・イ
エロー12（C.I.Direct Yellow 12）を0.3wt％、シー・
アイ・ダイレクト・ブルー202（C.I.Direct Blue 202）
を0.15wt％用いる以外は実施例１と全く同様に実施し、
染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
を1.3wt％、シー・アイ・ダイレクト・レッド２（C.I.D
irect Red 2）を0.5wt％、シー・アイ・ダイレクト・イ
エロー12（C.I.Direct Yellow 12）を0.3wt％、シー・
アイ・ダイレクト・ブルー202（C.I.Direct Blue 202）
を0.15wt％用いる以外は実施例１と全く同様に実施し、
染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
比較例３ 染料として、シー・アイ・ダイレクト・イエロー12
（C.I.Direct Yellow 12）を0.4wt％、シー・アイ・ダ
イレクト・ブラック17（C.I.Direct Black 17）を1.1wt
％、シー・アイ・ダイレクト・ブルー１（C.I.Direct B
lue 1）を0.8wt％用いる以外は実施例１と全く同様に実
施し染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
（C.I.Direct Yellow 12）を0.4wt％、シー・アイ・ダ
イレクト・ブラック17（C.I.Direct Black 17）を1.1wt
％、シー・アイ・ダイレクト・ブルー１（C.I.Direct B
lue 1）を0.8wt％用いる以外は実施例１と全く同様に実
施し染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
実施例６ 平均重合度1700、ケン化度98.5％のポリビニルアルコ
ールを水に溶解し、この溶液にポリビニルアルコールに
対して、式（１）で示されるニッケル含有ジスアゾ染料
を1.3wt％、シー・アイ・ダイレクト・レッド２（C.I.D
irect Red 2）を0.55wt％、シー・アイ・ダイレクト・
イエロー12（C.I.Direct Yellow 12）を0.35wt％を添加
して、かつ均一に溶解させた。この混合液を、高密度ポ
リエチレンフィルム（厚み400μｍ、表面はぬれ張力が5
4dyne/cm以上になるようにコロナ処理を実施し、そのあ
とで有機チタネートを用いて表面処理をあわせて実施し
た）上に約12μｍの厚みになるように流延して製膜し、
乾燥させた。同様に表面処理を実施した上記と同じ高密
度ポリエチレンフィルムを得られた複合フィルムのポリ
ビニルアルコールフィルム側に重ねあわせた状態で105
℃の一対のロール間で縦一軸に４倍の圧縮延伸をおこな
い、保護膜つきの染料系偏光板を得た。偏光特性を表１
に示す。
ールを水に溶解し、この溶液にポリビニルアルコールに
対して、式（１）で示されるニッケル含有ジスアゾ染料
を1.3wt％、シー・アイ・ダイレクト・レッド２（C.I.D
irect Red 2）を0.55wt％、シー・アイ・ダイレクト・
イエロー12（C.I.Direct Yellow 12）を0.35wt％を添加
して、かつ均一に溶解させた。この混合液を、高密度ポ
リエチレンフィルム（厚み400μｍ、表面はぬれ張力が5
4dyne/cm以上になるようにコロナ処理を実施し、そのあ
とで有機チタネートを用いて表面処理をあわせて実施し
た）上に約12μｍの厚みになるように流延して製膜し、
乾燥させた。同様に表面処理を実施した上記と同じ高密
度ポリエチレンフィルムを得られた複合フィルムのポリ
ビニルアルコールフィルム側に重ねあわせた状態で105
℃の一対のロール間で縦一軸に４倍の圧縮延伸をおこな
い、保護膜つきの染料系偏光板を得た。偏光特性を表１
に示す。
実施例７ 実施例６において、複合フィルムに積層した高分子フ
ィルムが表面処理を実施していない高密度ポリエチレン
フィルムを用いる以外は実施例１と同様に実施したあと
該フィルムをはく離し、片面保護膜付の染料系偏光板を
得た。この偏光板のポリビニルアルコールフィルム側の
み160℃に加熱された熱ロールを通し、熱処理を実施し
た。この片面保護膜付の染料系偏光板をホウ酸7.5wt％
からなる60℃の水溶液に５分間浸漬後、20℃の水で１分
間水洗をおこない乾燥させた。該偏光板に４倍に圧縮延
伸した高密度ポリエチレンフィルム（厚み100μｍ）を
ウレタン系接着剤を用いて貼合し、両面に保護膜を形成
した染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
ィルムが表面処理を実施していない高密度ポリエチレン
フィルムを用いる以外は実施例１と同様に実施したあと
該フィルムをはく離し、片面保護膜付の染料系偏光板を
得た。この偏光板のポリビニルアルコールフィルム側の
み160℃に加熱された熱ロールを通し、熱処理を実施し
た。この片面保護膜付の染料系偏光板をホウ酸7.5wt％
からなる60℃の水溶液に５分間浸漬後、20℃の水で１分
間水洗をおこない乾燥させた。該偏光板に４倍に圧縮延
伸した高密度ポリエチレンフィルム（厚み100μｍ）を
ウレタン系接着剤を用いて貼合し、両面に保護膜を形成
した染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に示す。
実施例８ 平均重合度1700、ケン化度96.5％のポリビニルアルコ
ールを水に溶解し、この溶液にポリビニルアルコールに
対して式（13）に示す亜鉛含有ジスアゾ染料を1.2wt
％、シー・アイ・ダイレクト・レッド２（C.I.Direct R
ed 2）を0.5wt％、シー・アイ・ダイレクト・イエロー1
2（C.I.Direct Yellow 12）を0.25wt％、シー・アイ・
ダイレクト・バイオレット９（C.I.Direct Violet 9）
を0.15wt％添加して完全にかつ均一に溶解させた。この
混合液をポリプロピレンフィルム（厚み300μ、表面は
ぬれ張力が54dyne/cm以上になるようにコロナ処理を実
施している）上に約12μｍの厚みになるように流延して
製膜し、未乾燥の状態で加速電圧200KV、吸収線料10Mra
dで電子線照射をおこない、ポリプロピレンフィルムと
ポリビニルアルコーフィルムを接着させた。
ールを水に溶解し、この溶液にポリビニルアルコールに
対して式（13）に示す亜鉛含有ジスアゾ染料を1.2wt
％、シー・アイ・ダイレクト・レッド２（C.I.Direct R
ed 2）を0.5wt％、シー・アイ・ダイレクト・イエロー1
2（C.I.Direct Yellow 12）を0.25wt％、シー・アイ・
ダイレクト・バイオレット９（C.I.Direct Violet 9）
を0.15wt％添加して完全にかつ均一に溶解させた。この
混合液をポリプロピレンフィルム（厚み300μ、表面は
ぬれ張力が54dyne/cm以上になるようにコロナ処理を実
施している）上に約12μｍの厚みになるように流延して
製膜し、未乾燥の状態で加速電圧200KV、吸収線料10Mra
dで電子線照射をおこない、ポリプロピレンフィルムと
ポリビニルアルコーフィルムを接着させた。
該複合フィルムを２枚準備し、ポリビニルアルコール
に水分を含ませ、内面（ポリビニルアルコールフィルム
面）同志が重ね合された状態で、100℃の一対のロール
間で縦一軸に3.5倍の圧縮延伸をおこない、両面に保護
膜の形成された染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に
示す。
に水分を含ませ、内面（ポリビニルアルコールフィルム
面）同志が重ね合された状態で、100℃の一対のロール
間で縦一軸に3.5倍の圧縮延伸をおこない、両面に保護
膜の形成された染料系偏光板を得た。偏光特性を表１に
示す。
実施例９ 実施例８と同様にして、ポリプロピレンフィルムとポ
リビニルアルコールフィルムの複合フィルムを得た。表
面処理を実施していないポリプロピレンフィルム（厚み
300μｍ）を補助フィルムとして該複合フィルムのポリ
ビニルアルコールフィルム側に重ね合せた状態で120℃
の一対のロール間で縦一軸に2.5倍の圧縮延伸をおこな
ったあと補助フィルムをハクリし、片面保護膜つきの染
料系偏光板を得た。この偏光板のポリビニルアルコール
側のみ160℃に加熱された熱ロールを通し熱処理を実施
した。この片面保護膜付の染料系偏光板をホウ酸7.5wt
％からなる65℃の水溶液に５分間浸漬後、20℃の水で１
分間水洗をおこない乾燥させた。このホウ酸処理を実施
した片面保護膜付の染料系偏光板を２枚準備しポリビニ
ルアルコールが内面同志で接着されるようにポリビニル
アルコールの１面に水溶性接着剤を塗布し・貼合して両
面に保護膜の形成された染料系偏光板を得た。偏光特性
を表１に示す。
リビニルアルコールフィルムの複合フィルムを得た。表
面処理を実施していないポリプロピレンフィルム（厚み
300μｍ）を補助フィルムとして該複合フィルムのポリ
ビニルアルコールフィルム側に重ね合せた状態で120℃
の一対のロール間で縦一軸に2.5倍の圧縮延伸をおこな
ったあと補助フィルムをハクリし、片面保護膜つきの染
料系偏光板を得た。この偏光板のポリビニルアルコール
側のみ160℃に加熱された熱ロールを通し熱処理を実施
した。この片面保護膜付の染料系偏光板をホウ酸7.5wt
％からなる65℃の水溶液に５分間浸漬後、20℃の水で１
分間水洗をおこない乾燥させた。このホウ酸処理を実施
した片面保護膜付の染料系偏光板を２枚準備しポリビニ
ルアルコールが内面同志で接着されるようにポリビニル
アルコールの１面に水溶性接着剤を塗布し・貼合して両
面に保護膜の形成された染料系偏光板を得た。偏光特性
を表１に示す。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−96102（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−13903（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−13904（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−13905（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−255304（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−313568（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−70702（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−86304（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−89002（ＪＰ，Ａ)
Claims (11)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）〜（IV）で示される染料の１
種類以上と親水性高分子重合体を含む混合物を製膜した
あと、一軸に延伸処理することを特徴とする染料系偏光
膜の製造方法。 （式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
Ｒは遷移金属と錯結合している水酸基の隣接位置におい
てアゾ基と結合しており、更に置換基として、スルホン
酸基、スルホンアミド基、アミノ基、アシルアミノ基、
アリルアミノ基又はアゾ基に隣接しない水酸基を有する
ことのできる１−ナフトール又は２ナフトール残基を示
す。ＸおよびＹは水素原子、C1〜C4のアルキル基、低級
アルコキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基、スルホン
アミド基、アミノ基、アシルアミノ基、ハロゲンまたは
ニトロ基を示し、Ｚは水素原子、C1〜C4のアルキル基ま
たは低級アルコキシ基を示す。而して、式（Ｉ）は１〜
３ケのスルホン酸基を有するものとする。） （式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
Ｒは遷移金属と錯結合している水酸基の隣接位置におい
てアゾ基と結合しており、更に置換基として、スルホン
酸基、スルホンアミド基、アルキル基、アルキルアミノ
基、アミノ基、アリルアミノ基、アルコキシル基または
アゾ基に隣接しない水酸基を有することのできるフェノ
ール残基である。ＸおよびＹは水素原子、C1〜C4のアル
キル基、低級アルコキシ基、カルボン酸基、スルホン酸
基、スルホンアミド基、アミノ基、アシルアミノ基、ハ
ロゲンまたはニトロ基を示し、Ｚは水素原子、C1〜C4の
アルキル基または低級アルコキシ基を示す。而して、式
（Ｉ）は１〜３ケのスルホン酸基を有するものとす
る。） （式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
R1はCH3、CN、CO2CH3、CO2C2H5、CONH2を示す。R2はス
ルホン酸基、スルホンアミド基、スルホンアルキルアミ
ド基、アルキル基、クロル原子、 基によって置換されていてもよいフェニル残基を示す。
ＸおよびＹは水素原子、C1〜C4のアルキル基、低級アル
コキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基、スルホンアミ
ド基、アミノ基、アシルアミノ基、ハロゲンまたはニト
ロ基を示し、Ｚは水素原子、C1〜C4のアルキル基または
低級アルコキシ基を示す。而して、式（Ｉ）は１〜３ケ
のスルホン酸基を有するものとする。） （式中、Meは遷移金属原子であって、銅（Cu）、又はニ
ッケル（Ni）、又は亜鉛（Zn）、又は鉄（Fe）を示す。
R1およびR2は該遷移金属と錯結合している水酸基の隣接
位置においてアゾ基と結合しており、更に置換基とし
て、スルホン酸基、スルホンアミド基、アミノ基、アシ
ルアミノ基、アリルアミノ基またはアゾ基に隣接しない
水酸基を有することのできる１−ナフトール又は２−ナ
フトール残基を示す。而して、式（Ｉ）は１〜３ケのス
ルホン酸基を有するものとする。） - 【請求項２】請求項１に記載の一般式（Ｉ）〜（IV）で
示される染料の１種類以上と特定の波長領域に吸引を持
つ有機系直接染料を併用し、これらと親水性高分子重合
体を含む混合物を製膜したあと、一軸に延伸処理するこ
とを特徴とする染料系偏光膜の製造方法。 - 【請求項３】請求項１に記載の一般式（Ｉ）〜（IV）で
示される染料の１種類以上と、親水性高分子重合体を含
む混合物を疎水性高分子フィルム上に製膜し、得られた
複合フィルムの染料と親水性高分子重合体の混合物から
なる層の表面に疎水性高分子フィルムを積層し、一軸延
伸することを特徴とする染料系偏光板の製造方法。 - 【請求項４】請求項１に記載の一般式（Ｉ）〜（IV）で
示される染料の１種類以上と特定の波長領域に吸収を持
つ有機系直接染料を併用し、これらと親水性高分子重合
体を含む混合物を疎水性高分子フィルム上に製膜し、得
られた複合フィルムの染料と親水性高分子重合体の混合
物からなる層の表面に疎水性高分子フィルムを積層し、
一軸延伸処理することを特徴とする染料系偏光板の製造
方法。 - 【請求項５】親水性高分子重合体がポリビニルアルコー
ル又はその誘導体である請求項１〜４のいずれかに記載
の製造方法。 - 【請求項６】請求項１に記載の一般式（Ｉ）〜（IV）で
示される染料の１種類以上と親水性高分子重合体を含む
混合物が製膜され、一軸に延伸処理されてなることを特
徴とする染料系偏光膜。 - 【請求項７】請求項１に記載の一般式（Ｉ）〜（IV）で
示される染料の１種類以上と特定の波長領域に吸収を持
つ有機系直接染料と親水性高分子重合体を含む混合物が
製膜され、一軸に延伸処理されてなる染料系偏光膜。 - 【請求項８】親水性高分子がポリビニルアルコールまた
はその誘導体である請求項６または請求項７に記載の染
料系偏光膜。 - 【請求項９】請求項１に記載の一般式（Ｉ）〜（IV）で
示される染料の１種類以上と親水性高分子重合体を含む
混合物が疎水性高分子フィルム上に製膜された複合フィ
ルムの、染料と親水性高分子重合体の混合物からなる層
の表面に疎水性高分子フィルムが積層され、一軸延伸さ
れてなる染料系偏光板。 - 【請求項１０】請求項１に記載の一般式（Ｉ）〜（IV）
で示される染料の１種類以上と特定の波長に吸収を持つ
有機系直接染料と親水性高分子重合体を含む混合物が疎
水性高分子フィルム上に製膜された複合フィルムの、染
料と親水性高分子の混合物からなる層の表面に疎水性高
分子フィルムが積層され、一軸延伸されてなる染料系偏
光板。 - 【請求項１１】親水性高分子がポリビニルアルコールま
たはその誘導体である請求項９または請求項10に記載の
染料系偏光板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24128288A JP2684706B2 (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 染料系偏光膜および染料系偏光板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24128288A JP2684706B2 (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 染料系偏光膜および染料系偏光板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0289008A JPH0289008A (ja) | 1990-03-29 |
| JP2684706B2 true JP2684706B2 (ja) | 1997-12-03 |
Family
ID=17071943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24128288A Expired - Fee Related JP2684706B2 (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 染料系偏光膜および染料系偏光板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2684706B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101768754B1 (ko) | 2014-09-29 | 2017-08-17 | 주식회사 엘지화학 | 편광자의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 편광자 및 편광판 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001343522A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 偏光フィルム及びその製造方法 |
| JP2011118237A (ja) * | 2009-12-04 | 2011-06-16 | Nitto Denko Corp | 偏光膜生成用コーティング液及び偏光膜 |
| JP4973775B2 (ja) * | 2010-11-11 | 2012-07-11 | 住友化学株式会社 | 偏光板の製造方法 |
-
1988
- 1988-09-26 JP JP24128288A patent/JP2684706B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101768754B1 (ko) | 2014-09-29 | 2017-08-17 | 주식회사 엘지화학 | 편광자의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 편광자 및 편광판 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0289008A (ja) | 1990-03-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3378296B2 (ja) | 染料系偏光膜 | |
| EP2717076B1 (en) | Dye-based polarizing element and polarizing plate | |
| KR101949182B1 (ko) | 염료계 편광소자 및 편광판 | |
| JP2012003172A (ja) | 偏光フィルム、偏光板及びそれらの製造方法 | |
| TWI594025B (zh) | 無彩色之偏光元件及偏光板 | |
| KR101879833B1 (ko) | 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치 | |
| TW201700623A (zh) | 偏光元件、以及偏光板 | |
| EP2717074B1 (en) | Dye-based polarizing element and polarizing plate | |
| KR20120002815A (ko) | 편광자의 제조방법 | |
| JP2001311827A (ja) | 偏光板及びその製造方法 | |
| JP2684706B2 (ja) | 染料系偏光膜および染料系偏光板の製造方法 | |
| JPH09234825A (ja) | 複合材料 | |
| JP4360100B2 (ja) | 染料系偏光フィルム | |
| KR20110135321A (ko) | 편광자의 제조방법 | |
| JP5814524B2 (ja) | 偏光フィルム、偏光フィルム用ｐｖａ系樹脂フィルム及び偏光フィルムの製造方法 | |
| KR101820056B1 (ko) | 편광판 | |
| TWI646359B (zh) | 於各波長具有均一穿透率之偏光元件及偏光板、以及偏光元件之製造方法 | |
| JPH09132726A (ja) | テトラキスアゾ化合物およびそれの偏光膜への利用 | |
| JPH0553014A (ja) | 染料系偏光膜 | |
| JPH079484B2 (ja) | 染料系偏光板の製造方法 | |
| TW201516490A (zh) | 染料系偏光元件、或染料系偏光板 | |
| JP2844360B2 (ja) | 染料系偏光膜 | |
| JP3446302B2 (ja) | 偏光フィルムの製造方法 | |
| JP2004294808A (ja) | ヨウ素系偏光フィルム、その製造方法及び偏光板 | |
| TWI635327B (zh) | 於各波長具有均一穿透率之高對比偏光元件及偏光板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070815 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080815 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080815 Year of fee payment: 11 |
|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |