JP2678951B2 - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、イオンビームを電気
的に走査すると共に、ターゲットをそれと実質的に直交
する方向に機械的に走査する、いわゆるハイブリッドス
キャン方式のイオン注入装置に関する。
的に走査すると共に、ターゲットをそれと実質的に直交
する方向に機械的に走査する、いわゆるハイブリッドス
キャン方式のイオン注入装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種のイオン注入装置の従来例を図２
に示す。
に示す。
【０００３】このイオン注入装置においては、図示しな
いイオン源から引き出され、かつ必要に応じて質量分
析、加速等が行われたスポット状のイオンビーム２が、
一組の走査電極４（これには走査電源６から適当な走査
電圧が与えられ、両者で走査手段を構成している）によ
ってＸ方向（例えば水平方向。以下同じ）に走査され
る。走査されて面状に広がったイオンビーム２は、マス
ク板８にあけられたスリット状の開口部８ａを通って、
ホルダ１１上に固定されたターゲット（例えばウェー
ハ）１０に照射される。
いイオン源から引き出され、かつ必要に応じて質量分
析、加速等が行われたスポット状のイオンビーム２が、
一組の走査電極４（これには走査電源６から適当な走査
電圧が与えられ、両者で走査手段を構成している）によ
ってＸ方向（例えば水平方向。以下同じ）に走査され
る。走査されて面状に広がったイオンビーム２は、マス
ク板８にあけられたスリット状の開口部８ａを通って、
ホルダ１１上に固定されたターゲット（例えばウェー
ハ）１０に照射される。
【０００４】ホルダ１１は、駆動装置１２によって前記
Ｘ方向と実質的に直交するＹ方向（例えば垂直方向。以
下同じ）に機械的に走査され、これとイオンビーム２の
前記走査との協働によって、ターゲット１０の全面に均
一にイオンビーム２が照射され、イオン注入が行われ
る。
Ｘ方向と実質的に直交するＹ方向（例えば垂直方向。以
下同じ）に機械的に走査され、これとイオンビーム２の
前記走査との協働によって、ターゲット１０の全面に均
一にイオンビーム２が照射され、イオン注入が行われ
る。
【０００５】ターゲット１０への注入量は、イオンビー
ム２のＸ方向の走査領域の一端部にあけられた開口部８
ｂの後方に設けたビーム電流計測器１４によって、走査
されたイオンビーム２の一部を受けてそのビーム電流Ｉ
s を計測することによって測定される。計測されたビー
ム電流Ｉs は、この例では変換器１６によってパルス信
号に変換する等して制御装置１８に送られる。
ム２のＸ方向の走査領域の一端部にあけられた開口部８
ｂの後方に設けたビーム電流計測器１４によって、走査
されたイオンビーム２の一部を受けてそのビーム電流Ｉ
s を計測することによって測定される。計測されたビー
ム電流Ｉs は、この例では変換器１６によってパルス信
号に変換する等して制御装置１８に送られる。
【０００６】制御装置１８は、この計測データに基づい
て、注入動作を制御する。具体的には、ターゲット１０
に対して規定量のイオン注入を行うための制御、例えば
駆動装置１２を制御してビーム電流Ｉs に比例した速度
でホルダ１１のＹ方向の走査が行われるようにしたり、
走査電源６の出力を制御したりする。
て、注入動作を制御する。具体的には、ターゲット１０
に対して規定量のイオン注入を行うための制御、例えば
駆動装置１２を制御してビーム電流Ｉs に比例した速度
でホルダ１１のＹ方向の走査が行われるようにしたり、
走査電源６の出力を制御したりする。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記イオン注入装置
は、ターゲット１０に照射されるイオンビーム２の内の
一部をサンプリングすることによって、全注入量をモニ
タする方式のものである。
は、ターゲット１０に照射されるイオンビーム２の内の
一部をサンプリングすることによって、全注入量をモニ
タする方式のものである。
【０００８】ところがこの方式では、一部から全体を求
めているので、一部に与えられた影響が拡大されて全体
に波及する。例えば、図３に示すように、ビーム電流計
測器（これは例えばファラデーカップ１４１とその前方
にあって負電圧が印加されるサプレッサ電極１４２とか
ら成る）１４の前方にあるマスク板８の開口部８ｂのエ
ッジ８ｅが、イオンビーム２によるスパッタ等で、長年
使用すると削れてくる。そうなると、開口部８ｂの面積
が大きくなるので、真のビーム電流が一定であっても、
ビーム電流計測器１４によって計測されるビーム電流は
大きくなってしまう。従って、制御装置１８による注入
制御においては、エッジ８ｅが削られていないときに比
べて、実際の注入量が少なく制御されてしまう。何故な
ら、実際のビームは同じなのに計測だけ多く計測するの
で、制御装置１８は注入時間を少なくしようとするから
である。
めているので、一部に与えられた影響が拡大されて全体
に波及する。例えば、図３に示すように、ビーム電流計
測器（これは例えばファラデーカップ１４１とその前方
にあって負電圧が印加されるサプレッサ電極１４２とか
ら成る）１４の前方にあるマスク板８の開口部８ｂのエ
ッジ８ｅが、イオンビーム２によるスパッタ等で、長年
使用すると削れてくる。そうなると、開口部８ｂの面積
が大きくなるので、真のビーム電流が一定であっても、
ビーム電流計測器１４によって計測されるビーム電流は
大きくなってしまう。従って、制御装置１８による注入
制御においては、エッジ８ｅが削られていないときに比
べて、実際の注入量が少なく制御されてしまう。何故な
ら、実際のビームは同じなのに計測だけ多く計測するの
で、制御装置１８は注入時間を少なくしようとするから
である。
【０００９】そこでこの発明は、走査されたイオンビー
ムの一部をビーム電流計測器によって計測する場合の計
測誤差を補正することによって、経年変化等に影響され
ることなく常に正確な注入量を実現することができるよ
うにしたイオン注入装置を提供することを主たる目的と
する。
ムの一部をビーム電流計測器によって計測する場合の計
測誤差を補正することによって、経年変化等に影響され
ることなく常に正確な注入量を実現することができるよ
うにしたイオン注入装置を提供することを主たる目的と
する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のイオン注入装置は、イオンビームをＸ方
向に電気的に走査する走査手段と、ターゲットをＸ方向
と実質的に直交するＹ方向に機械的に走査する駆動装置
と、イオンビームの走査領域の一端部に設けられていて
走査されたイオンビームの一部を受けてそのビーム電流
を計測する第１のビーム電流計測器と、イオンビームを
所定方向に電気的に偏向させる偏向手段と、この偏向手
段によって偏向されたイオンビームであって前記走査手
段によって走査されていないものの全体を受けてそのビ
ーム電流を計測する第２のビーム電流計測器と、前記第
１のビーム電流計測器で計測したビーム電流Ｉs と前記
第２のビーム電流計測器で計測したビーム電流Ｉとを用
いて、ｋ0 を一定の基準値とした場合、 （Ｉs ／Ｉ）ｋ＝ｋ0 となるような補正係数ｋを求める機能、前記第１のビー
ム電流計測器で計測したビーム電流Ｉs にこの補正係数
ｋを掛ける機能、およびこの演算によって得られた値ｋ
・Ｉs に基づいて注入動作を制御する機能を有する制御
装置とを備えることを特徴とする。
め、この発明のイオン注入装置は、イオンビームをＸ方
向に電気的に走査する走査手段と、ターゲットをＸ方向
と実質的に直交するＹ方向に機械的に走査する駆動装置
と、イオンビームの走査領域の一端部に設けられていて
走査されたイオンビームの一部を受けてそのビーム電流
を計測する第１のビーム電流計測器と、イオンビームを
所定方向に電気的に偏向させる偏向手段と、この偏向手
段によって偏向されたイオンビームであって前記走査手
段によって走査されていないものの全体を受けてそのビ
ーム電流を計測する第２のビーム電流計測器と、前記第
１のビーム電流計測器で計測したビーム電流Ｉs と前記
第２のビーム電流計測器で計測したビーム電流Ｉとを用
いて、ｋ0 を一定の基準値とした場合、 （Ｉs ／Ｉ）ｋ＝ｋ0 となるような補正係数ｋを求める機能、前記第１のビー
ム電流計測器で計測したビーム電流Ｉs にこの補正係数
ｋを掛ける機能、およびこの演算によって得られた値ｋ
・Ｉs に基づいて注入動作を制御する機能を有する制御
装置とを備えることを特徴とする。
【００１１】
【作用】上記構成によれば、経年変化等により、第１の
ビーム電流計測器によって計測するビーム電流Ｉs が変
化しても、その変化を補正する補正係数ｋを求めて、経
年変化等が起こる前と同じ値に補正されたビーム電流ｋ
・Ｉs で注入動作を制御することができる。従って、経
年変化等に影響されることなく、常に正確な注入量を実
現することができる。
ビーム電流計測器によって計測するビーム電流Ｉs が変
化しても、その変化を補正する補正係数ｋを求めて、経
年変化等が起こる前と同じ値に補正されたビーム電流ｋ
・Ｉs で注入動作を制御することができる。従って、経
年変化等に影響されることなく、常に正確な注入量を実
現することができる。
【００１２】
【実施例】図１は、この発明の一実施例に係るイオン注
入装置を部分的に示す図である。図２の従来例と同一ま
たは相当する部分には同一符号を付し、以下においては
当該従来例との相違点を主に説明する。
入装置を部分的に示す図である。図２の従来例と同一ま
たは相当する部分には同一符号を付し、以下においては
当該従来例との相違点を主に説明する。
【００１３】この実施例においては、前述したようなイ
オンビーム２のビームライン上に、イオンビーム２をこ
の例ではＹ方向に電気的に偏向させる一組の偏向電極２
０を設け、これに偏向電源２２から所要の電圧を印加す
るようにして、偏向手段を構成している。
オンビーム２のビームライン上に、イオンビーム２をこ
の例ではＹ方向に電気的に偏向させる一組の偏向電極２
０を設け、これに偏向電源２２から所要の電圧を印加す
るようにして、偏向手段を構成している。
【００１４】また、マスク板８の上部に、口径の大きな
第２の（前述したビーム電流計測器１４を第１とする）
ビーム電流計測器２４を設けて、偏向電極２０によって
偏向されたイオンビーム２（図１中に２点鎖線で示す）
であって走査電極４によって走査されていないもの（即
ちスポット状のイオンビーム２）の全体を受けてそのビ
ーム電流Ｉを計測するようにしている。これによって計
測されたビーム電流Ｉは、この例では変換器２６によっ
てパルス信号に変換する等して、従来の制御装置１８に
対応する制御装置２８に送られる。
第２の（前述したビーム電流計測器１４を第１とする）
ビーム電流計測器２４を設けて、偏向電極２０によって
偏向されたイオンビーム２（図１中に２点鎖線で示す）
であって走査電極４によって走査されていないもの（即
ちスポット状のイオンビーム２）の全体を受けてそのビ
ーム電流Ｉを計測するようにしている。これによって計
測されたビーム電流Ｉは、この例では変換器２６によっ
てパルス信号に変換する等して、従来の制御装置１８に
対応する制御装置２８に送られる。
【００１５】制御装置２８は、変換器１６を経由して前
述した第１のビーム電流計測器１４で計測したビーム電
流Ｉs も受け取り、これらに基づいて次に述べるような
演算を行う他、従来例と同様に駆動装置１２および走査
電源６を制御すると共に、偏向電源２２に電圧を出力さ
せたりさせなかったりする指示を与えることができる。
述した第１のビーム電流計測器１４で計測したビーム電
流Ｉs も受け取り、これらに基づいて次に述べるような
演算を行う他、従来例と同様に駆動装置１２および走査
電源６を制御すると共に、偏向電源２２に電圧を出力さ
せたりさせなかったりする指示を与えることができる。
【００１６】なお、変換器１６と２６は同時に働かせる
必要はないので、それらの代わりに一つの変換器を設
け、これをビーム電流計測器１４側とビーム電流計測器
２４側とに切り換えて用いるようにしても良い。
必要はないので、それらの代わりに一つの変換器を設
け、これをビーム電流計測器１４側とビーム電流計測器
２４側とに切り換えて用いるようにしても良い。
【００１７】制御装置２８は、ｋ0 を一定の基準値とし
た場合、ビーム電流計測器１４で計測したビーム電流Ｉ
s とビーム電流計測器２４で計測したビーム電流Ｉとを
用いて、 （Ｉs ／Ｉ）ｋ＝ｋ0 ・・・（１） となるような補正係数ｋを求める機能、ビーム電流計測
器１４で計測したビーム電流Ｉs にこの補正係数ｋを掛
ける機能およびこの演算によって得られたビーム電流ｋ
・Ｉs に基づいて注入動作を制御する機能を有してい
る。
た場合、ビーム電流計測器１４で計測したビーム電流Ｉ
s とビーム電流計測器２４で計測したビーム電流Ｉとを
用いて、 （Ｉs ／Ｉ）ｋ＝ｋ0 ・・・（１） となるような補正係数ｋを求める機能、ビーム電流計測
器１４で計測したビーム電流Ｉs にこの補正係数ｋを掛
ける機能およびこの演算によって得られたビーム電流ｋ
・Ｉs に基づいて注入動作を制御する機能を有してい
る。
【００１８】従って、当該イオン注入装置の初期状態の
ときに、例えばビーム電流計測器２４で計測したビーム
電流Ｉが１ｍＡ、ビーム電流計測器１４で計測したビー
ム電流Ｉs が０．１ｍＡとした場合、 ｋ0 ＝Ｉs ／Ｉ＝０．１／１＝０．１ として、これを基準値として制御装置２８に設定してお
く。
ときに、例えばビーム電流計測器２４で計測したビーム
電流Ｉが１ｍＡ、ビーム電流計測器１４で計測したビー
ム電流Ｉs が０．１ｍＡとした場合、 ｋ0 ＝Ｉs ／Ｉ＝０．１／１＝０．１ として、これを基準値として制御装置２８に設定してお
く。
【００１９】そして、ターゲット１０に対してイオン注
入を行うときは、まずその前に、イオンビーム２を偏向
電極２０によって偏向させてビーム電流計測器２４によ
ってビーム電流Ｉを計測し、次にイオンビーム２を走査
電極４によって走査してビーム電流計測器１４によって
ビーム電流Ｉs を計測し、これらのデータと予め設定さ
れた基準値ｋ0 とにより、上記（１）式に従って、その
ときの補正係数ｋを求める。例えば、初期状態から何年
か経過してビーム電流Ｉが１ｍＡ（これは初期状態のと
きの値に一致させる）、ビーム電流Ｉs が０．２ｍＡで
あった場合、 ｋ＝ｋ0 ・Ｉ／Ｉs ＝０．１×１／０．２＝０．５ が求まる。
入を行うときは、まずその前に、イオンビーム２を偏向
電極２０によって偏向させてビーム電流計測器２４によ
ってビーム電流Ｉを計測し、次にイオンビーム２を走査
電極４によって走査してビーム電流計測器１４によって
ビーム電流Ｉs を計測し、これらのデータと予め設定さ
れた基準値ｋ0 とにより、上記（１）式に従って、その
ときの補正係数ｋを求める。例えば、初期状態から何年
か経過してビーム電流Ｉが１ｍＡ（これは初期状態のと
きの値に一致させる）、ビーム電流Ｉs が０．２ｍＡで
あった場合、 ｋ＝ｋ0 ・Ｉ／Ｉs ＝０．１×１／０．２＝０．５ が求まる。
【００２０】そして、ターゲット１０に対する実際のイ
オン注入時は、ビーム電流計測器１４で計測されたビー
ム電流Ｉs にこの補正係数ｋを掛けて得られた値ｋ・Ｉ
s （上記例の場合は０．５×０．２＝０．１ｍＡ。これ
は初期状態時のビーム電流Ｉs と同じ値である。）に基
づいて注入動作が制御される。
オン注入時は、ビーム電流計測器１４で計測されたビー
ム電流Ｉs にこの補正係数ｋを掛けて得られた値ｋ・Ｉ
s （上記例の場合は０．５×０．２＝０．１ｍＡ。これ
は初期状態時のビーム電流Ｉs と同じ値である。）に基
づいて注入動作が制御される。
【００２１】従ってこのイオン注入装置においては、経
年変化等によりビーム電流計測器１４によって計測する
ビーム電流Ｉs が変化しても、その変化を補正する補正
係数ｋを求め、それによって、経年変化等が起こる前と
同じ値に補正されたビーム電流ｋ・Ｉs で注入動作を制
御することができる。従って、経年変化等に影響される
ことなく、常に正確な注入量を実現することができる。
年変化等によりビーム電流計測器１４によって計測する
ビーム電流Ｉs が変化しても、その変化を補正する補正
係数ｋを求め、それによって、経年変化等が起こる前と
同じ値に補正されたビーム電流ｋ・Ｉs で注入動作を制
御することができる。従って、経年変化等に影響される
ことなく、常に正確な注入量を実現することができる。
【００２２】なお、上記例とは逆に、ビーム電流計測器
２４をマスク板８の下部に設け、偏向電極２０によって
イオンビーム２をそちら側に偏向させるようにしても良
い。
２４をマスク板８の下部に設け、偏向電極２０によって
イオンビーム２をそちら側に偏向させるようにしても良
い。
【００２３】また、上記走査電極４や偏向電極２０の代
わりに、電磁的な走査手段や偏向手段を用いても良い。
わりに、電磁的な走査手段や偏向手段を用いても良い。
【００２４】また、この明細書においてＸ方向およびＹ
方向は、直交する２方向を表すだけであり、従って例え
ば、Ｘ方向を水平方向と見ても、垂直方向と見ても、更
にはそれらから傾いた方向と見ても良い。
方向は、直交する２方向を表すだけであり、従って例え
ば、Ｘ方向を水平方向と見ても、垂直方向と見ても、更
にはそれらから傾いた方向と見ても良い。
【００２５】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、経年変
化等により、第１のビーム電流計測器によって計測する
ビーム電流が変化しても、その変化を補正する補正係数
を求めて、経年変化等が起こる前と同じ値に補正された
ビーム電流で注入動作を制御することができるので、経
年変化等に影響されることなく、常に正確な注入量を実
現することができる。
化等により、第１のビーム電流計測器によって計測する
ビーム電流が変化しても、その変化を補正する補正係数
を求めて、経年変化等が起こる前と同じ値に補正された
ビーム電流で注入動作を制御することができるので、経
年変化等に影響されることなく、常に正確な注入量を実
現することができる。
【図１】 この発明の一実施例に係るイオン注入装置を
部分的に示す図である。
部分的に示す図である。
【図２】 従来のイオン注入装置の一例を部分的に示す
図である。
図である。
【図３】 図２中のビーム電流計測器周りの拡大断面図
である。
である。
２ イオンビーム ４ 走査電極 １０ ターゲット １２ 駆動装置 １４ 第１のビーム電流計測器 ２０ 偏向電極 ２４ 第２のビーム電流計測器 ２８ 制御装置
Claims (1)
- 【請求項１】 イオンビームをＸ方向に電気的に走査す
る走査手段と、ターゲットをＸ方向と実質的に直交する
Ｙ方向に機械的に走査する駆動装置と、イオンビームの
走査領域の一端部に設けられていて走査されたイオンビ
ームの一部を受けてそのビーム電流を計測する第１のビ
ーム電流計測器と、イオンビームを所定方向に電気的に
偏向させる偏向手段と、この偏向手段によって偏向され
たイオンビームであって前記走査手段によって走査され
ていないものの全体を受けてそのビーム電流を計測する
第２のビーム電流計測器と、前記第１のビーム電流計測
器で計測したビーム電流Ｉs と前記第２のビーム電流計
測器で計測したビーム電流Ｉとを用いて、ｋ0 を一定の
基準値とした場合、 （Ｉs ／Ｉ）ｋ＝ｋ0 となるような補正係数ｋを求める機能、前記第１のビー
ム電流計測器で計測したビーム電流Ｉs にこの補正係数
ｋを掛ける機能、およびこの演算によって得られた値ｋ
・Ｉs に基づいて注入動作を制御する機能を有する制御
装置とを備えることを特徴とするイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6879491A JP2678951B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6879491A JP2678951B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04282546A JPH04282546A (ja) | 1992-10-07 |
| JP2678951B2 true JP2678951B2 (ja) | 1997-11-19 |
Family
ID=13383986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6879491A Expired - Fee Related JP2678951B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2678951B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5500955B2 (ja) * | 2009-11-19 | 2014-05-21 | キヤノン株式会社 | イオンビームを用いた加工装置、その調整方法およびイオンビームを用いた加工方法 |
| US9299534B2 (en) * | 2014-01-31 | 2016-03-29 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Method and mechanism for erosion detection of defining apertures |
-
1991
- 1991-03-08 JP JP6879491A patent/JP2678951B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04282546A (ja) | 1992-10-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080801 |
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