JP2674447B2 - ワイヤ放電加工装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ワイヤ放電加工装置に
関するものであり、特に、加工液を供給することによ
り、加工中の被加工物の酸化及び錆の発生を防止して、
加工面の品質が改善できるワイヤ放電加工装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の水系加工液を用いたワイヤ放電加
工の場合、加工の特性上、被加工物は陽極となるため、
被加工物の表面に酸化層や錆が発生し易い。また、鉄
（Ｆｅ）系材料の被加工物中では、Ｓ５５Ｃ、ＮＡＫ材
などが、特に、錆易く、また、焼入処理を行なったもの
よりも、生材の方が錆易いことが知られている。この酸
化・錆の生成には、上記のような加工の特性や、材料の
影響以外にもさまざまな要因が関係し、被加工物の周囲
の環境の影響として、次のようなことが明らかとなって
いる。 （１）加工液の流れがなく静止状態にある場合は、流れ
のある場合に比較し錆が発生し易い。 （２）被加工物の表面に加工粉等の異種金属が付着する
と、被加工物に電食や錆が発生する。 （３）加工液の電導度が低いほど酸化・錆が進行し易
い。

【０００３】以下、従来の放電加工装置を図に基づいて
説明する。図４は従来のワイヤ放電加工装置を示す全体
構成図である。図において、１は被加工物、２は被加工
物１を固定する定盤、３ａ，３ｂはそれぞれ上部、下部
の加工液ノズル、４は放電加工装置機械本体の加工槽、
５は加工槽４に取付けられ、加工液を排出するドレン、
６は加工条件の変更や加工送り等を制御する数値制御装
置（以下、ＮＣ制御装置という）、７は加工槽４から排
出される汚液、８は汚液７を収容する汚液槽、９は汚液
７の加工粉を取除いた清液、１０は加工槽４に清液９を
供給する清液槽、１１は汚液７を濾過する濾過フィル
タ、１２は濾過フィルタ１１に汚液７を汲上げる汚液フ
ィルタポンプ、１３は加工槽４に加工液を充満させる充
満ポンプ、１４はワイヤ放電加工装置の加工部に加工液
として清液９を供給する加工液ポンプ、１５は加工液の
温度を室温と同等になるように制御する加工液温度制御
装置である。

【０００４】次に、上記従来のワイヤ放電加工装置の動
作について説明する。まず、被加工物１の加工準備とし
て、充満ポンプ１３を動作させ、汚液槽８から汚液７を
汲上げ加工槽４に充満させる。加工槽４に加工液（汚液
７）が充満し、被加工物１が浸漬すると加工が可能な状
態になる。被加工物１の加工が行われる加工部には、上
下方向より加工液ノズル３ａ，３ｂを通して加工液であ
る純水または高分子化合物などを添加した水系加工液が
供給され、加工が行なわれる。被加工物１の加工により
発生する加工粉を含んだ加工液は、加工槽４のドレン５
から排出され、汚液槽８に収容される。前記汚液槽８内
の汚液７は、汚液フィルタポンプ１２によって濾過フィ
ルタ１１に圧送され、加工粉等が濾過されて清液９とな
り、清液槽１０に貯留される。前記清液槽１０内の清液
９は、加工液ポンプ１４で汲上げられ、加工液温度制御
装置１５により室温と同程度に温度が調整され、加工液
ノズル３ａ，３ｂを通して再び加工部に供給され、加工
が継続される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来のワ
イヤ放電加工装置では、被加工物の加工部には加工液が
供給されているが、加工槽内では加工液の流れがほとん
どないため、被加工物の周囲の加工液は静止状態とな
り、次のような原因によって被加工物に錆が発生すると
いう問題があった。 （１）被加工物の加工部以外の加工液に流れがない部分
では、加工液中の溶存酸素が被加工物に作用し易く、被
加工物の表面が酸化し、酸化層が形成され、錆が発生す
る。 （２）放電加工により発生する加工粉が被加工物の上面
に堆積し、被加工物と加工粉が局部電池となることか
ら、被加工物が電解作用により腐食し、被加工物の表面
に電食や錆が発生する。

【０００６】このような錆の発生は、加工槽内で加工液
を循環させ、被加工物の周囲に加工液の流れを作ること
で防止できるが、加工槽内を循環させる加工液の流量の
確保と、加工条件に応じた加工液の切換えが重要であ
る。

【０００７】まず、加工槽内を循環させる加工液の流量
については、被加工物に堆積した加工粉を除去するため
に、ある程度多くの流量が必要である。ここで、加工槽
内を循環させる加工液には、加工粉を含んだ汚液と加工
粉が濾過された清液の２つが考えられる。汚液を循環さ
せる場合は、流量の確保に問題はないが、清液を循環さ
せる場合は、加工粉を濾過する際の濾過流量に制限があ
るため、循環させる加工液の流量を増やすことが難し
い。

【０００８】次に、加工槽内で流量の多い汚液を循環さ
せると仮定すると、荒加工の場合は、加工による加工粉
の発生量が多いため、加工槽内を循環する加工液に加工
粉が含まれていても加工に与える影響はなく、循環する
加工液の流量が多い方が被加工物に堆積する加工粉を除
去するには好都合である。しかし、仕上加工の場合は、
汚液を循環させると、加工粉を通して二次放電が発生
し、加工面が荒れるといった問題がある。つまり、仕上
加工の場合は、加工による加工粉の発生量が少なく、被
加工物の上面に堆積する加工粉も少ないので、循環させ
る加工液の流量は少なくてよく、溶存酸素が被加工物の
表面で作用しないだけの流量があれば良い。

【０００９】したがって、加工槽内を循環させる加工液
は、荒加工時には流量の多い汚液、仕上加工時には加工
粉の除去された清液と、加工液を切換えて供給すること
が望まれていた。その他の先行技術として、実開平４−
８６１２３号公報、特開平２−１６０４１９号公報等の
技術が公知である。実開平４−８６１２３号公報では、
加工槽内に注入した加工液中に被加工体及び電極を浸漬
して放電加工する際に、加工槽内に設けられる固形分除
去用フィルタと、加工槽内の加工液を吸い込み前記固形
分除去用フィルタに送給するポンプからなる加工液の濁
り防止装置を開示し、加工液の濁りを発生させる固形分
を有効的に除去して正常化する方法を示唆している。し
かし、荒加工時と仕上加工時に応じて加工液の種類を切
換えて供給するという技術思想を開示するものがない。
また、特開平２−１６０４１９号公報では、放電加工機
の加工槽に荒加工時と仕上加工時に応じて加工液の種類
を切換えて供給する技術を開示している。しかし、この
技術は、加工槽からフィルタを介して高水質加工液供給
源と低水質加工液供給源に帰還させるものであるから、
高水質加工液と低水質加工液に共通するフィルタを使用
するとなると、その経済的負担が大きくなり、実用的に
ならないものである。 即ち、特に、水を加工液とした場
合のワイヤ放電加工の荒加工においては、加工速度も速
く加工部分で大量に加工粉が発生するため、加工槽の中
に充満している加工液には大量に加工粉が含まれる。結
果的に、被加工物に加工粉が堆積し酸化層や錆が発生す
る可能性がある。一方、仕上加工においては、加工によ
る加工粉の発生が少なく、かつ、加工槽内に加工粉を含
んだ加工液を供給すると２次放電が発生し、加工面の品
質が悪化するから、加工粉を除去した清液を加工槽に循
環させる必要があるが、それらを経済的に実施する技術
が上記公報には開示されていない。

【００１０】そこで、本発明は従来の問題点を解決する
ためになされたもので、加工槽内の加工液を循環させる
ことにより、加工液中の溶存酸素が被加工物に作用する
のを防止できるとともに、加工粉が被加工物の上面に堆
積するのを防ぎ、被加工物に電食や錆が発生するのを防
止できる廉価なワイヤ放電加工装置の提供を課題とする
ものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明にかかる
ワイヤ放電加工装置は、被加工物とワイヤ電極との間に
加工液を介在させて放電加工を行なう放電加工手段と、
前記被加工物を加工液中に浸漬させる加工槽と、前記加
工槽から排出される汚液を収容する汚液槽と、前記汚液
槽の汚液を濾過した清液を貯留する清液槽と、前記汚液
槽の汚液を清液化する濾過フィルタを介して濾過し、そ
れを清液槽に送出するフィルタポンプと、前記汚液槽内
の汚液を直接前記加工槽に供給する第１のポンプと、前
記清液槽内の清液を直接前記加工槽に供給する第２のポ
ンプと、前記第１のポンプから前記加工槽への供給経路
と第２のポンプから前記加工槽への供給経路とを加工条
件に応じて切換える供給経路切換手段と、前記第１のポ
ンプの運転と第２のポンプの運転とを加工条件に応じて
切換える運転切換手段と、前記加工槽に配設され、前記
第１のポンプで汲上げられる汚液あるいは第２のポンプ
で汲上げられる清液を加工槽内へ噴出する噴出口とを具
備するものである。

【００１２】請求項２の発明にかかるワイヤ放電加工装
置は、被加工物とワイヤ電極との間に加工液を介在させ
て放電加工を行なう放電加工手段と、前記被加工物を加
工液中に浸漬させる加工槽と、前記加工槽から排出され
る汚液を収容する汚液槽と、前記汚液槽の汚液を濾過し
た清液を貯留する清液槽と、前記汚液槽の汚液を清液化
する濾過フィルタを介して濾過し、それを清液槽に送出
するフィルタポンプと、前記加工槽に配設された加工液
の吸引口と、前記加工槽内の加工液を前記吸引口から吸
込み直接前記加工槽に供給する第１のポンプと、前記清
液槽の清液を貯留する清液槽と、前記清液槽内の清液を
直接前記加工槽に供給する第２のポンプと、前記第１の
ポンプから前記加工槽への供給経路と第２のポンプから
前記加工槽への供給経路とを加工条件に応じて切換える
供給経路切換手段と、前記第１のポンプの運転と第２の
ポンプの運転とを加工条件に応じて切換える運転切換手
段と、前記加工槽に配設され、前記第１のポンプで汲上
げられる加工液あるいは第２のポンプで汲上げられる清
液を加工槽へ噴出する噴出口とを具備するものである。

【００１３】請求項３の発明にかかるワイヤ放電加工装
置は、被加工物とワイヤ電極との間に加工液を介在させ
て放電加工を行なう放電加工手段と、前記被加工物を加
工液中に浸漬させる加工槽と、前記加工槽から排出され
る汚液を収容する汚液槽と、前記汚液槽の汚液を濾過し
た清液を貯留する清液槽と、前記汚液槽の汚液を清液化
する濾過フィルタを介して濾過し、それを清液槽に送出
するフィルタポンプと、前記加工槽から排出される汚液
または前記加工槽内の加工液のうちいずれか一方の液を
直接前記加工槽に供給する第１の供給手段と、前記清液
槽の清液を直接前記加工槽に供給する第２の供給手段
と、前記第１の供給手段と第２の供給手段とを加工条件
に応じて切換える切換手段と、前記加工槽に配設され、
前記第１の供給手段または第２の供給手段によって供給
される汚液、加工液、あるいは清液のうちのいずれか１
つの液を加工槽内へ噴出する第１の噴出口と、前記第１
の噴出口から分岐して前記被加工物の近傍に配設され、
前記被加工物の表面に前記汚液、加工液、あるいは清液
のうちのいずれか１つの液を直接噴出する第２の噴出口
とを具備するものである。

【００１４】

【作用】請求項１の発明のワイヤ放電加工装置において
は、加工槽から排出される汚液を直接加工槽に供給する
第１のポンプの運転と、前記汚液を濾過した清液を直接
加工槽に供給する第２のポンプの運転とを加工条件に応
じて切換えるとともに、第１のポンプから加工槽への供
給経路と第２のポンプから加工槽への供給経路とを加工
条件に応じて切換え、第１のポンプで汲上げられる汚液
あるいは第２のポンプで汲上げられる清液を噴出口から
加工槽内へ噴出するものであるから、加工条件に応じて
汚液または清液が適宜切換えられて噴出されて加工槽内
を循環し、被加工物の上面に堆積する加工粉を除去する
とともに、加工液中の溶存酸素が被加工物に作用するの
を防止し、被加工物に酸化層・錆が発生するのを防止す
る。

【００１５】請求項２の発明のワイヤ放電加工装置にお
いては、加工槽内の加工液を吸引口から吸込み直接加工
槽に供給する第１のポンプの運転と、加工槽から排出さ
れる汚液を濾過した清液を直接加工槽に供給する第２の
ポンプの運転とを加工条件に応じて切換えるとともに、
第１のポンプから加工槽への供給経路と第２のポンプか
ら加工槽への供給経路とを加工条件に応じて切換え、第
１のポンプで汲上げられる加工液あるいは第２のポンプ
で汲上げられる清液を噴出口から加工槽へ噴出するもの
であるから、加工条件に応じて加工液または清液が適宜
切換えられて噴出されて加工槽内を循環し、被加工物の
上面に堆積する加工粉を除去するとともに、加工液中の
溶存酸素が被加工物に作用するのを防止し、被加工物に
酸化層・錆が発生するのを防止する。

【００１６】請求項３の発明のワイヤ放電加工装置にお
いては、加工槽から排出される汚液または加工槽内の加
工液のうちいずれか一方の液を直接加工槽に供給する第
１の供給手段と、前記汚液を濾過した清液を直接加工槽
に供給する第２の供給手段とを加工条件に応じて切換
え、第１の供給手段または第２の供給手段によって供給
される汚液、加工液、あるいは清液のうちのいずれか１
つの液を加工槽の第１の噴出口から加工槽内へ噴出する
とともに、被加工物の近傍に配設された第２の噴出口か
ら被加工物の表面に直接噴出するものであるから、被加
工物の上面に堆積する加工粉の除去をより効果的に行な
うとともに、加工液中の溶存酸素が被加工物に作用する
のを防止し、被加工物に酸化層・錆が発生するのを防止
する。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の各実施例について説明をす
る。 〈第一実施例〉図１は本発明の第一実施例であるワイヤ
放電加工装置を示す全体構成図である。図中、上記従来
例と同一符号及び記号は上記従来例の構成部分と同一ま
たは相当する構成部分を示す。図において、１６は加工
槽４で循環させる汚液７を汚液槽８から汲上げる汚液循
環ポンプ、１７は加工槽４で循環させる清液９を清液槽
１０から汲上げる清液循環ポンプ、１８，１９は加工槽
内で循環させる汚液７と清液９を加工条件に応じて切換
えるときに動作させる電磁弁、２０は加工槽に取付けら
れた噴出口であり、この噴出口２０から汚液７または清
液９が噴出することにより加工槽４内の加工液が循環す
る。

【００１８】次に、図１に示した本実施例のワイヤ放電
加工装置の動作について説明する。まず、被加工物１の
加工準備として、充満ポンプ１３を動作させ、汚液槽８
から汚液７を汲上げ加工槽４に充満させる。加工槽４に
加工液（汚液７）が充満し、被加工物１が浸漬すると加
工が可能な状態になる。被加工物１の加工が行われる加
工部には、上下方向より加工液ノズル３ａ，３ｂを通し
て加工液である純水または高分子化合物などを添加した
水系加工液が供給され、加工が行なわれる。被加工物１
の加工により発生する加工粉を含んだ加工液は、加工槽
４のドレン５から排出され、汚液槽８に収容される。前
記汚液槽８内の汚液７は、汚液フィルタポンプ１２によ
って濾過フィルタ１１に圧送され、加工粉等が濾過され
て清液９となり、清液槽１０に貯留される。前記清液槽
１０内の清液９は、加工液ポンプ１４で汲上げられ、加
工液温度制御装置１５によって室温と同程度に温度が調
整され、加工液ノズル３ａ，３ｂを通して再び被加工物
１の加工部に供給され、加工が継続される。

【００１９】上記のような動作中において、荒加工の場
合には、ＮＣ制御装置６は汚液循環ポンプ１６を動作さ
せ、電磁弁１８をＯＮ、電磁弁１９をＯＦＦにして、汚
液槽８から加工槽４に汚液７を汲上げ、噴出口２０から
汚液７を加工槽４内へ噴出し、該加工槽４内を循環させ
る。該加工槽４内を循環した汚液７は、ドレン５から排
出され汚液槽８に戻る。このときの汚液７の流量は、ド
レン５から排出可能な流量まで増やすことができる。次
に、仕上加工の場合には、ＮＣ制御装置６は清液循環ポ
ンプ１７を動作させ、電磁弁１８をＯＦＦ、電磁弁１９
をＯＮにして、清液槽１０から加工槽４に清液９を汲上
げ、噴出口２０から清液９を加工槽４内へ噴出し、該加
工槽４内を循環させる。こうして、荒加工時は汚液７、
仕上加工時は清液９と、加工条件に応じて該加工槽４内
で循環する加工液を切換えることで、仕上加工面に二次
放電等の影響を与えることなく、加工液中の溶存酸素の
作用の防止と、被加工物１の上面に堆積する加工粉の除
去が速やかに行なわれ、被加工物１の錆の発生を抑制す
る。

【００２０】また、図１のワイヤ放電加工装置では、充
満ポンプ１４は加工準備中に動作し、汚液循環ポンプ１
６は加工中に動作する。したがって、充満ポンプ１４と
汚液循環ポンプ１６が同時に動作することはないため、
１台のポンプで加工槽４に汚液７を充満する動作と循環
する動作を電磁弁等を用いて切換えて行なうこともでき
る。斯かる構成によれば、汚液循環ポンプ１６を省略で
きるため、装置が安価になる。

【００２１】このように、本実施例のワイヤ放電加工装
置は、被加工物１とワイヤ電極との間に加工液を介在さ
せて放電加工を行なう周知の放電加工手段と、前記被加
工物１を加工液に浸漬させる加工槽４と、前記加工槽４
のドレン５から排出される汚液７を収容する汚液槽８
と、前記汚液槽８の汚液７を濾過フィルタ１１及び汚液
フィルタポンプ１２で濾過した清液９を貯留する清液槽
１０と、前記汚液槽８内の汚液７を直接前記加工槽４に
供給する汚液循環ポンプ１６（第１のポンプ）と、前記
清液槽１０内の清液９を直接前記加工槽４に供給する清
液循環ポンプ１７（第２のポンプ）と、前記汚液循環ポ
ンプ１６（第１のポンプ）から前記加工槽４への供給経
路と清液循環ポンプ１７（第２のポンプ）から前記加工
槽４への供給経路とを電磁弁１８，１９を動作させて、
荒加工または仕上加工（加工条件）に応じてＮＣ制御装
置６で切換える供給経路切換手段と、前記汚液循環ポン
プ１６（第１のポンプ）の運転と清液循環ポンプ１７
（第２のポンプ）の運転とを荒加工または仕上加工（加
工条件）に応じてＮＣ制御装置６で切換える運転切換手
段と、前記加工槽４に配設され、前記汚液循環ポンプ１
６（第１のポンプ）で汲上げられる汚液７あるいは清液
循環ポンプ１７（第２のポンプ）で汲上げられる清液９
を加工槽４内へ噴出する噴出口２０とを備え、荒加工ま
たは仕上加工（加工条件）に応じて、前記加工槽４内で
汚液７あるいは清液９を循環させるものである。

【００２２】即ち、本実施例の放電加工装置は、加工槽
４から排出される汚液７を直接加工槽４に供給する汚液
循環ポンプ１６の運転と、前記汚液７を濾過した清液９
を直接加工槽４に供給する清液循環ポンプ１７の運転と
を荒加工または仕上加工（加工条件）に応じて切換える
とともに、汚液循環ポンプ１６から加工槽４への供給経
路と清液循環ポンプ１７から加工槽４への供給経路とを
荒加工または仕上加工（加工条件）に応じて切換え、汚
液循環ポンプ１６で汲上げられる汚液７あるいは清液循
環ポンプ１７で汲上げられる清液９を噴出口２０から加
工槽４内へ噴出するものである。

【００２３】したがって、荒加工または仕上加工（加工
条件）に応じて汚液７または清液９が適宜切換えられて
加工槽４内へ噴出され、加工槽４内を循環する。つま
り、荒加工時にはドレン５から排出可能な流量まで増大
可能な汚液７が加工槽４内を大量に循環し、そして、仕
上加工時には汚液７よりも少量の清液９が加工槽４内を
循環する。このため、荒加工の場合には、比較的大量の
汚液７が加工槽４内を循環し、荒加工により発生する加
工粉が被加工物１の上面に堆積するを防止できる。ま
た、仕上加工の場合は、被加工物１の上面に加工粉が堆
積するのを防止できる程度の量の清液９が加工槽４内を
循環し、加工粉を通して二次放電が発生するのを防止
し、加工面が荒れるのを防止できる。つまり、仕上加工
の場合は、溶存酸素が被加工物１の表面で作用しない程
度の流量の清液９を循環させ、加工液中の溶存酸素が被
加工物１に作用するのを防止し、被加工物１に酸化層・
錆が発生するのを防止できる。この結果、加工中の被加
工物１の酸化及び錆の発生を加工条件に拘らず適正に防
止でき、仕上加工面の品質が向上する。

【００２４】〈第二実施例〉次に、この発明の別の実施
例を図に基づいて説明する。図２は本発明の第二実施例
であるワイヤ放電加工装置を示す全体構成図である。図
中、上記従来例及び第一実施例と同一符号及び記号は上
記従来例及び第一実施例の構成部分と同一または相当す
る構成部分を示す。図において、２１は加工槽４に取付
けられた加工液の吸引口、２２は該加工槽４内の加工液
を吸引口２１から吸込んで直接加工槽４に戻す加工液循
環ポンプである。また、本実施例では、加工液循環ポン
プ２２と噴出口２０との間に電磁弁１８が介在する。つ
まり、本実施例のワイヤ放電加工装置は、上記第一実施
例の汚液循環ポンプ１６に代えて加工液循環ポンプ２２
を設け、加工槽４内の加工液を直接循環させるものであ
り、この他は、上記第一実施例と略同一の構成である。

【００２５】次に、図２のワイヤ放電加工装置の動作に
ついて説明する。まず、上記従来例及び第一実施例と同
様に、被加工物１の加工準備として、充満ポンプ１３を
動作させ、加工槽４に加工液（汚液７）を充満させて、
被加工物１を浸漬し、加工が可能な状態にする。被加工
物１の加工が行われる加工部には、上下方向より加工液
ノズル３ａ，３ｂを通して加工液である純水または高分
子化合物などを添加した水系加工液が供給され、加工が
行われる。被加工物１の加工により発生する加工粉を含
んだ加工液は、加工槽４のドレン５から排出され汚液槽
８に収容され、汚液フィルタポンプ１２によって濾過フ
ィルタ１１に圧送され、加工粉等が濾過されて清液９と
なり、清液槽１０に貯留される。この清液槽１０内の清
液９は、加工液ポンプ１４で汲上げられ、加工液温度制
御装置１５によって室温と同程度の温度に調整され、加
工液ノズル３ａ，３ｂを通して再び加工部に供給され、
加工が継続される。

【００２６】上記のような動作中において、荒加工の場
合には、ＮＣ制御装置６は加工液循環ポンプ２２を動作
させ、電磁弁１８をＯＮ、電磁弁１９をＯＦＦにして、
該加工槽４内の加工液を吸引口２１、加工液循環ポンプ
２２、電磁弁１８、噴出口２０という経路で直接循環さ
せる。したがって、該加工槽４内を循環する加工液の流
量は、ドレン５の排出流量に制限されることなく、加工
液循環ポンプ２２の容量一杯まで増やすことができる。
さらに、循環のための配管の経路が短縮でき、循環する
加工液の流量の損失を少なくできる。次に、仕上加工の
場合には、上記第一実施例と同様に、ＮＣ制御装置６は
清液循環ポンプ１７を動作させ、電磁弁１８をＯＦＦ、
電磁弁１９をＯＮにして、清液槽１０から加工槽４に清
液９を汲上げ、噴出口２０から清液９を加工槽４内へ噴
出し、該加工槽４内を循環させる。こうして、荒加工時
は該加工槽４内の加工液を直接循環させ加工液循環の流
量を増やし、仕上加工時は該加工槽４内で清液９を循環
させるように動作させ、加工条件に応じて該加工槽４内
で循環する加工液を切換えることで、仕上加工面に二次
放電等の影響を与えることなく、加工液中の溶存酸素の
作用の防止と、被加工物１の上面に堆積する加工粉の除
去を速やかに行ない、被加工物１の錆の発生を抑制す
る。

【００２７】このように、本実施例のワイヤ放電加工装
置は、被加工物１とワイヤ電極との間に加工液を介在さ
せて放電加工を行なう周知の放電加工手段と、前記被加
工物１を加工液に浸漬させる加工槽４と、前記加工槽４
のドレン５から排出される汚液７を収容する汚液槽８
と、前記加工槽２に配設された加工液の吸引口２１と、
前記加工槽４内の加工液を前記吸引口２１から吸込み直
接前記加工槽４に供給する加工液循環ポンプ２２（第１
のポンプ）と、前記加工槽４のドレン５から排出される
汚液７を濾過フィルタ１１及び汚液フィルタポンプ１２
で濾過した清液９を貯留する清液槽１０と、前記清液槽
１０内の清液９を直接前記加工槽４に供給する清液循環
ポンプ１７（第２のポンプ）と、前記加工液循環ポンプ
２２（第１のポンプ）から前記加工槽４への供給経路と
清液循環ポンプ１７（第２のポンプ）から前記加工槽４
への供給経路とを電磁弁１８，１９を動作させて、荒加
工または仕上加工（加工条件）に応じてＮＣ制御装置６
で切換える供給経路切換手段と、前記加工液循環ポンプ
２２（第１のポンプ）の運転と清液循環ポンプ１７（第
２のポンプ）の運転とを荒加工または仕上加工（加工条
件）に応じてＮＣ制御装置６で切換える運転切換手段
と、前記加工槽４に配設され、前記加工液循環ポンプ２
２（第１のポンプ）で汲上げられる加工液あるいは清液
循環ポンプ１７（第２のポンプ）で汲上げられる清液９
を加工槽４内へ噴出する噴出口２０とを備え、荒加工ま
たは仕上加工（加工条件）に応じて、前記加工槽４内で
加工液あるいは清液９を循環させるものである。

【００２８】即ち、本実施例の放電加工装置は、加工槽
４内の加工液を吸引口２１から吸込み直接加工槽４に供
給する加工液循環ポンプ２２の運転と、加工槽４から排
出される汚液７を濾過した清液９を直接加工槽４に供給
する清液循環ポンプ１７の運転とを荒加工または仕上加
工（加工条件）に応じて切換えるとともに、加工液循環
ポンプ２２から加工槽４への供給経路と清液循環ポンプ
１７から加工槽４への供給経路とを荒加工または仕上加
工（加工条件）に応じて切換え、加工液循環ポンプ２２
で汲上げられる加工液あるいは清液循環ポンプ１７で汲
上げられる清液９を噴出口２０から加工槽４へ噴出する
ものである。

【００２９】したがって、荒加工または仕上加工（加工
条件）に応じて加工液または清液９が適宜切換えられて
噴出され、加工槽４内を循環する。つまり、荒加工時に
は加工液循環ポンプ２２の容量に応じた大量の加工液が
加工槽４内を直接循環し、そして、仕上加工時には前記
加工液よりも少量の清液９が加工槽４内を循環する。こ
のため、荒加工の場合には、大量の汚液７が加工槽４内
を循環し、荒加工により発生する加工粉が被加工物１の
上面に堆積するを防止できる。また、仕上加工の場合
は、被加工物１の上面に加工粉が堆積するのを防止でき
る程度の量の清液９が加工槽４内を循環し、加工粉を通
して二次放電が発生するのを防止し、加工面が荒れるの
を防止できる。つまり、仕上加工の場合は、溶存酸素が
被加工物１の表面で作用しない程度の流量の清液９を循
環させ、加工液中の溶存酸素が被加工物１に作用するの
を防止し、被加工物１に酸化層・錆が発生するのを防止
できる。この結果、加工中の被加工物１の酸化及び錆の
発生を加工条件に拘らず適正に防止でき、仕上加工面の
品質が向上する。

【００３０】〈第三実施例〉図３は本発明の第三実施例
であるワイヤ放電加工装置を示す全体構成図である。図
中、上記従来例及び各実施例と同一符号及び記号は上記
従来例及び各実施例の構成部分と同一または相当する構
成部分を示す。図において、２３は噴出口２０から分岐
して被加工物１の近傍に配設された加工液の噴射口であ
る。つまり、本実施例は、第１の噴出口２０と第２の噴
射口２３を有するものである。この他は、上記第一実施
例と略同一の構成であり、詳細は図面上省略してある。

【００３１】次に、図３のワイヤ放電加工装置の動作に
ついて説明する。本実施例においても、上記第一実施例
と同様に加工が行なわれ、荒加工時は加工槽４に汚液循
環ポンプ１６より汚液７が供給され、噴出口２０から汚
液７が噴出し、該加工槽４内を汚液７が循環する。同様
に、仕上加工時は加工槽４に清液循環ポンプ１７より清
液９が供給され、噴出口２０から清液９が噴出し、該加
工槽４内を清液９が循環する。しかも、本実施例では、
噴出口２０から分岐された噴射口２３が被加工物１の近
傍に配設されているので、該加工槽４内の加工液循環動
作のときに、加工槽４内を循環させるために供給される
汚液７と清液９の一部が、加工中は常に被加工物１の上
面に直接噴射される。このため、被加工物１の上面に堆
積する加工粉の除去がより効果的に行なわれる。

【００３２】このように、本実施例のワイヤ放電加工装
置は、被加工物１とワイヤ電極との間に加工液を介在さ
せて放電加工を行なう周知の放電加工手段と、前記被加
工物１を加工液に浸漬させる加工槽４と、前記加工槽４
のドレン５から排出される汚液７を直接前記加工槽４に
供給する汚液循環ポンプ１６及び電磁弁１８（第１の供
給手段）と、前記汚液７を濾過した清液９を直接前記加
工槽４に供給する清液循環ポンプ１７及び電磁弁１９
（第２の供給手段）と、前記汚液循環ポンプ１６及び電
磁弁１８（第１の供給手段）と清液循環ポンプ１７及び
電磁弁１９（第２の供給手段）とを荒加工または仕上加
工（加工条件）に応じて切換える切換手段と、前記加工
槽４に配設され、前記汚液循環ポンプ１６及び電磁弁１
８（第１の供給手段）または清液循環ポンプ１７及び電
磁弁１９（第２の供給手段）によって供給される汚液７
あるいは清液９を加工槽４内へ噴出する第１の噴出口２
０と、前記第１の噴出口２０から分岐して前記被加工物
１の近傍に配設され、前記被加工物１の表面に前記汚液
７あるいは清液９を直接噴出する第２の噴出口２３とを
備え、荒加工または仕上加工（加工条件）に応じて、前
記加工槽４内で汚液７あるいは清液９を循環させるもの
である。

【００３３】即ち、本実施例の放電加工装置は、加工槽
４から排出される汚液７を直接加工槽４に供給する汚液
循環ポンプ１６及び電磁弁１８と、前記汚液７を濾過し
た清液９を直接加工槽４に供給する清液循環ポンプ１７
及び電磁弁１９とを荒加工または仕上加工（加工条件）
に応じて切換え、汚液循環ポンプ１６及び電磁弁１８ま
たは清液循環ポンプ１７及び電磁弁１９によって供給さ
れる汚液７あるいは清液９を加工槽４の第１の噴出口２
０から加工槽４内へ噴出するとともに、被加工物１の近
傍に配設された第２の噴出口２３から被加工物１の表面
に直接噴出するものであり、上記第一実施例のワイヤ放
電加工装置の噴出口２０を、被加工物１の近傍に分岐し
て配設し、前記被加工物１の表面に加工液を直接噴出し
て、前記被加工物１の上面に堆積する加工粉を除去する
ものである。

【００３４】したがって、荒加工または仕上加工（加工
条件）に応じて適宜切換えられて噴出される加工液また
は清液９が加工槽４内を循環するとともに、被加工物１
の表面にも直接噴出される。このため、被加工物１の上
面に堆積する加工粉の除去をより効果的に行なうことが
できる。しかも、上記各実施例と同様に、加工液中の溶
存酸素が被加工物１に作用するのを防止し、被加工物１
に酸化層・錆が発生するのを防止できる。この結果、加
工中の被加工物１の酸化及び錆の発生を加工条件に拘ら
ず適正に防止でき、仕上加工面の品質が向上する。

【００３５】なお、本実施例では、第１の供給手段で加
工槽４から排出される汚液７を加工槽４に供給し、第２
の供給手段で汚液７を濾過した清液９を加工槽４に供給
する構成について示したが、上記第二実施例で説明した
ように、第１の供給手段で加工槽４内の加工液を直接加
工槽４に供給するようにし、第１の供給手段と第２の供
給手段とを加工条件に応じて切換え、汚液７、加工液、
あるいは清液９のうちのいずれか１つの液を第１の噴出
口２０から加工槽４内へ噴出するとともに、第２の噴出
口２３から被加工物１の表面に直接噴出するようにして
も構わない。つまり、上記第二実施例のワイヤ放電加工
装置の噴出口２０を、被加工物１の近傍にも分岐して配
設し、前記被加工物１の表面に加工液を直接噴出して、
前記被加工物１の上面に堆積する加工粉を除去するよう
に構成してもよい。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明の
ワイヤ放電加工装置は、放電加工手段と、加工槽と、汚
液槽と、清液槽と、フィルタポンプと、第１のポンプ
と、第２のポンプと、供給経路切換手段と、運転切換手
段と、噴出口とを備え、加工槽から排出される汚液を直
接加工槽に供給する第１のポンプの運転と、前記汚液を
濾過した清液を直接加工槽に供給する第２のポンプの運
転とを加工条件に応じて切換えるとともに、第１のポン
プから加工槽への供給経路と第２のポンプから加工槽へ
の供給経路とを加工条件に応じて切換え、第１のポンプ
で汲上げられる汚液あるいは第２のポンプで汲上げられ
る清液を噴出口から加工槽内へ噴出することにより、荒
加工時は流量の多い汚液が、仕上加工時は加工粉が除去
された清液が加工槽内を循環して、被加工物の上面に堆
積する加工粉を除去できるとともに、加工液中の溶存酸
素が被加工物に作用するのを防止し、被加工物に酸化層
・錆が発生するのを防止できるので、加工中の被加工物
の酸化及び錆の発生を加工条件に拘らず適正に防止で
き、仕上加工面の品質が向上する。しかも、汚液槽の汚
液を清液化する濾過フィルタを介して濾過し、それを清
液槽に送出するフィルタポンプによって、汚液槽の汚液
を清液化するときのみ濾過フィルタを介して濾過すれば
よいから、廉価に清液が得られる。

【００３７】請求項２の発明のワイヤ放電加工装置は、
放電加工手段と、加工槽と、汚液槽と、清液槽と、フィ
ルタポンプ、吸引口と、第１のポンプと、第２のポンプ
と、供給経路切換手段と、運転切換手段と、噴出口とを
備え、加工槽内の加工液を吸引口から吸込み直接加工槽
に供給する第１のポンプの運転と、加工槽から排出され
る汚液を濾過した清液を直接加工槽に供給する第２のポ
ンプの運転とを加工条件に応じて切換えるとともに、第
１のポンプから加工槽への供給経路と第２のポンプから
加工槽への供給経路とを加工条件に応じて切換え、第１
のポンプで汲上げられる加工液あるいは第２のポンプで
汲上げられる清液を噴出口から加工槽へ噴出することに
より、荒加工時は加工液を直接循環させ加工液循環の流
量を増やし、仕上加工時は清液が加工槽内を循環して、
被加工物の上面に堆積する加工粉を除去できるととも
に、加工液中の溶存酸素が被加工物に作用するのを防止
し、被加工物に酸化層・錆が発生するのを防止できるの
で、加工中の被加工物の酸化及び錆の発生を加工条件に
拘らず適正に防止でき、仕上加工面の品質が向上する。
しかも、汚液槽の汚液を清液化する濾過フィルタを介し
て濾過し、それを清液槽に送出するフィルタポンプによ
って、汚液槽の汚液を清液化するときのみ濾過フィルタ
を介して濾過すればよいから、廉価に清液が得られる。

【００３８】請求項３の発明のワイヤ放電加工装置は、
放電加工手段と、加工槽と、汚液槽と、清液槽と、フィ
ルタポンプ、第１の供給手段と、第２の供給手段と、切
換手段と、第１の噴出口と、第２の噴出口とを備え、加
工槽から排出される汚液または加工槽内の加工液のうち
いずれか一方の液を直接加工槽に供給する第１の供給手
段と、前記汚液を濾過した清液を直接加工槽に供給する
第２の供給手段とを加工条件に応じて切換え、第１の供
給手段または第２の供給手段によって供給される汚液、
加工液、あるいは清液のうちのいずれか１つの液を加工
槽の第１の噴出口から加工槽内へ噴出するとともに、被
加工物の近傍に配設された第２の噴出口から被加工物の
表面に直接噴出することにより、被加工物の上面に堆積
する加工粉の除去をより効果的に行なえるとともに、加
工液中の溶存酸素が被加工物に作用するのを防止し、被
加工物に酸化層・錆が発生するのを防止できるので、加
工中の被加工物の酸化及び錆の発生を加工条件に拘らず
適正に防止でき、仕上加工面の品質が向上する。しか
も、汚液槽の汚液を清液化する濾過フィルタを介して濾
過し、それを清液槽に送出するフィルタポンプによっ
て、汚液槽の汚液を清液化するときのみ濾過フィルタを
介して濾過すればよいから、廉価に清液が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の第一実施例であるワイヤ放電加
工装置を示す全体構成図である。

【図２】図２は本発明の第二実施例であるワイヤ放電加
工装置を示す全体構成図である。

【図３】図３は本発明の第三実施例であるワイヤ放電加
工装置を示す全体構成図である。

【図４】図４は従来のワイヤ放電加工装置を示す全体構
成図である。

【符号の説明】

１ 被加工物 ４ 加工槽 ６ ＮＣ制御装置 ８ 汚液槽 １０ 清液槽 １６ 汚液循環ポンプ １７ 清液循環ポンプ １８，１９ 電磁弁 ２０，２３ 噴出口 ２１ 吸引口 ２２ 加工液循環ポンプ

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被加工物とワイヤ電極との間に加工液を
   介在させて放電加工を行なう放電加工手段と、 前記被加工物を加工液中に浸漬させる加工槽と、 前記加工槽から排出される汚液を収容する汚液槽と、 前記汚液槽の汚液を濾過した清液を貯留する清液槽と、前記汚液槽の汚液を清液化する濾過フィルタを介して濾
   過し、それを清液槽に送出するフィルタポンプと、 前記汚液槽内の汚液を直接前記加工槽に供給する第１の
   ポンプと、 前記清液槽内の清液を直接前記加工槽に供給する第２の
   ポンプと、 前記第１のポンプから前記加工槽への供給経路と第２の
   ポンプから前記加工槽への供給経路とを加工条件に応じ
   て切換える供給経路切換手段と、 前記第１のポンプの運転と第２のポンプの運転とを加工
   条件に応じて切換える運転切換手段と、 前記加工槽に配設され、前記第１のポンプで汲上げられ
   る汚液あるいは第２のポンプで汲上げられる清液を加工
   槽内へ噴出する噴出口とを具備することを特徴とするワ
   イヤ放電加工装置。
2. 【請求項２】 被加工物とワイヤ電極との間に加工液を
   介在させて放電加工を行なう放電加工手段と、 前記被加工物を加工液中に浸漬させる加工槽と、 前記加工槽に配設された加工液の吸引口と、 前記加工槽内の加工液を前記吸引口から吸込み直接前記
   加工槽に供給する第１のポンプと、前記加工槽から排出される汚液を収容する汚液槽と、 前記汚液槽の汚液を濾過した清液を貯留する清液槽と、 前記汚液槽の汚液を清液化する濾過フィルタを介して濾
   過し、それを清液槽に送出するフィルタポンプと、 前記清液槽内の清液を直接前記加工槽に供給する第２の
   ポンプと、 前記第１のポンプから前記加工槽への供給経路と第２の
   ポンプから前記加工槽への供給経路とを加工条件に応じ
   て切換える供給経路切換手段と、 前記第１のポンプの運転と第２のポンプの運転とを加工
   条件に応じて切換える運転切換手段と、 前記加工槽に配設され、前記第１のポンプで汲上げられ
   る加工液あるいは第２のポンプで汲上げられる清液を加
   工槽へ噴出する噴出口とを具備することを特徴とするワ
   イヤ放電加工装置。
3. 【請求項３】 被加工物とワイヤ電極との間に加工液を
   介在させて放電加工を行なう放電加工手段と、 前記被加工物を加工液中に浸漬させる加工槽と、前記加工槽から排出される汚液を収容する汚液槽と、 前記汚液槽の汚液を濾過した清液を貯留する清液槽と、 前記汚液槽の汚液を清液化する濾過フィルタを介して濾
   過し、それを清液槽に送出するフィルタポンプと、 前記加工槽から排出される汚液または前記加工槽内の加
   工液のうちいずれか一方の液を直接前記加工槽に供給す
   る第１の供給手段と、前記清液槽の清液を 直接前記加工槽に供給する第２の供
   給手段と、 前記第１の供給手段と第２の供給手段とを加工条件に応
   じて切換える切換手段と、 前記加工槽に配設され、前記第１の供給手段または第２
   の供給手段によって供給される汚液、加工液、あるいは
   清液のうちのいずれか１つの液を加工槽内へ噴出する第
   １の噴出口と、 前記第１の噴出口から分岐して前記被加工物の近傍に配
   設され、前記被加工物の表面に前記汚液、加工液、ある
   いは清液のうちのいずれか１つの液を直接噴出する第２
   の噴出口とを具備することを特徴とするワイヤ放電加工
   装置。