JP2670731B2

JP2670731B2 - ノズル洗浄方法及びその洗浄装置

Info

Publication number: JP2670731B2
Application number: JP4298461A
Authority: JP
Inventors: 光昌倉坂; 義政松尾; 芳仁葛原
Original assignee: 株式会社イナックス
Priority date: 1992-11-09
Filing date: 1992-11-09
Publication date: 1997-10-29
Anticipated expiration: 2012-10-29
Also published as: JPH06142571A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、タイル素地に釉薬を霧
掛け施釉する霧掛け装置における二流体ノズルの洗浄方
法及び洗浄装置の構成に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、霧掛け装置によりタイル素地に釉
薬を霧掛け施釉する技術は、公知のものとされており、
例えば、図５に示す如く、霧掛け装置Ｓ’は、二流体ノ
ズル１の先端部１ａから釉薬ｇとエアーａを噴出させ
て、タイル素地の表面に霧掛け施釉するように構成され
ている。前記釉薬ｇは、釉薬タンク２内に貯留されてお
り、チャンバー５を付設したポンプ３にて吸引、吐出さ
れ、釉薬配管４に介装されているレギュレター６や流量
調整弁７や圧力計８や止め弁９を介して、一定の圧力が
かけられた状態で二流体ノズル１に供給されるのであ
り、また、前記エアーａは、フィルター２０からエアー
ポンプ１３（コンプレッサー）にて吸引、圧縮され、エ
アータンク１２に蓄圧され、エアー配管１４に介装され
ている止め弁１９やレギュレター１６やエアーフィルタ
ー１１を介して、一定の圧力がかけられた状態で二流体
ノズル１に供給され、釉薬を霧状に噴出させていたので
ある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来技術
において、釉薬ｇが二流体ノズル１の先端部１ａに付着
し、「詰まり」を発生し、該「詰まり」は釉薬ｇの噴出
量にバラツキが生じ、タイル素地の表面に釉薬を一定に
施釉することができず、施釉ムラができ、焼成後のタイ
ル表面が凹凸になり、品質精度にバラツキが生じるので
ある。そこで、本発明は、霧掛け装置の二流体ノズルの
先端部を洗浄するように構成し、該二流体ノズルの先端
部に釉薬が付着せず、「詰まり」の発生を防止する二流
体ノズルの洗浄装置を構成することを目的とするのであ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】以上のような課題を解決
するための手段として、本発明は、二流体ノズルにより
釉薬を吹きつける構成において、エアー配管内に洗浄水
を適宜滴下し、含水エアーを釉薬噴出口に吐出して施釉
時にノズルを洗浄すべく構成し、該二流体ノズルとエア
ーポンプとの間に水滴下装置を設けたものである。

【０００５】

【作用】次に、作用について説明すると、先端部１ａか
ら釉薬ｇとエアーａとを噴出する二流体ノズル１を有す
る霧掛け装置Ｓにてタイル素地Ｔ・Ｔ・・・の表面に霧
掛け施釉する場合において、エアーａを二流体ノズル１
に供給するエアー配管１４に介装されている上向きのエ
アーフィルター１１に水滴下装置Ｍを接続することによ
り、前記エアーフィルター１１内に常時水ｗを洗浄水と
して滴下し、二流体ノズル１の先端部１ａのエアー噴出
口１４ａから釉薬噴出口４ａに水ｗを含んだエアーａを
吹きつけ、該水ｗを含んだエアーａにて釉薬噴出口４ａ
に付着した釉薬ｇを溶かしながら霧掛け施釉を行い、釉
薬噴出口４ａは施釉時には常に洗浄されていることとな
り詰まりの発生なくなるのである。

【０００６】

【実施例】本発明の実施例について説明すると、図１
は、本発明の実施例を示す霧掛け装置Ｓの配管図、図２
は、二流体ノズル１内の釉薬噴出口４ａとエアー噴出口
１４ａを示す斜視図、図３は、二流体ノズル１にてタイ
ル素地Ｔに釉薬ｇを霧掛け施釉している状態を示す斜視
図、図４は、二流体ノズル１にて複数列のタイル素地Ｔ
・Ｔ・・・に釉薬ｇを霧掛け施釉している状態を示す正
面図である。

【０００７】本発明の実施例を図１に示す霧掛け装置Ｓ
において説明すると、霧掛け装置Ｓは、図３に示す如
く、二流体ノズル１は設定形状にプレス成形させた後の
タイル素地Ｔ・Ｔ・・・が搬送される搬送ベルト１５・
１５の所定位置上に配置され、搬送されてきたタイル素
地Ｔ・Ｔ・・・の表面に二流体ノズル１の先端部１ａか
ら釉薬ｇとエアーａを噴出させて霧状にして、霧掛け施
釉を行うように構成されている。前記二流体ノズル１内
には、図２に示す如く、釉薬配管４とエアー配管１４を
内装して、この二流体ノズル１の先端部１ａには、釉薬
配管４の釉薬噴出口４ａとエアー配管１４のエアー噴出
口１４ａが接近して配置され、該エアー噴出口１４ａの
吐出方向は釉薬噴出口４ａに向けられて配設されてい
る。

【０００８】前記釉薬ｇは、釉薬タンク２内に貯留され
ており、吸引時に釉薬タンク２内のフィルター１０にて
濾過され、吸入管４ｂを介してチャンバー５が付設され
ているポンプ（ダイアフラムポンプ）３にて吸引されて
脈動なく吐出され、釉薬配管４に介装されているレギュ
レター６や流量調整弁７や圧力計８や止め弁９を介して
略一定の圧力で二流体ノズル１内に供給され、釉薬噴出
口４ａから噴出されるのである。なお、前記釉薬ｇは、
釉薬の原料、顔料を調合し、水を加えて微粉砕装置にて
細摩し、粉砕混合したものを容器に貯留し、施釉工程に
搬送してきたものである。

【０００９】また、前記エアーａは、フィルター２０を
介してエアーポンプ１３にて吸引、圧縮され、エアータ
ンク１２に蓄圧され、該エアータンク１２から一定の圧
力がかけられた状態で吐出され、エアー配管１４に介装
されている止め弁１９やレギュレター１６やエアーフィ
ルター１１を介して、二流体ノズル１内に供給され、エ
アー噴出口１４ａから噴出されるのである。なお、前記
それぞれのレギュレター６・１６により、釉薬ｇとエア
ーａが所定の圧力を得られるように圧力調整することが
でき、また、前記流量調整弁７により、釉薬ｇの所定の
噴出量を設定することができるように構成されている。

【００１０】そして、前記エアー配管１４に介装されて
いるエアーフィルター１１には、該エアーフィルター１
１が上向きに設置された状態で、水滴下装置Ｍの水配管
２４が接続されている。該水滴下装置Ｍは、前記上向き
にしたエアーフィルター１１内に常時水ｗを洗浄水とし
て滴下するように構成されており、該水ｗは、水タンク
２２内に貯留されており、吸入管２４ｂを介してポンプ
（エアードポンプ）２３にて吸引され、該ポンプ２３に
て一定の圧力が掛けられた状態で吐出され、水配管２４
に介装されている可変絞り弁２７を介して、エアーフィ
ルター１１内に滴下されるのである。なお、水ｗの流量
調整は、可変絞り弁２７にて調整することができ、ま
た、水ｗの圧力調整は、エアーフィルター１１内へのエ
アーａの供給量にて調整することができるように構成さ
れている。

【００１１】以上の如く構成することにより、二流体ノ
ズル１の先端部１ａのエアー噴出口１４ａから釉薬噴出
口４ａに水ｗを含んだエアーａを吹きつけることができ
るのであり、該水ａを含んだエアーａにて釉薬噴出口４
ａに付着した釉薬ｇを溶かしながら、タイル素地Ｔの表
面に釉薬ｇを霧掛け施釉を行うことができるのである。
また、図４に示す如く、二流体ノズル１を移動させるこ
とにより、複数列に設けられた搬送装置の搬送ベルト１
５・１５・・・に載置され、搬送されてきたタイル素地
Ｔ・Ｔ・・・の表面にも霧掛け施釉を行うことができる
のである。

【００１２】そして、前記霧掛け装置Ｓの霧掛けにて施
釉されたタイル素地Ｔ・Ｔ・・・は、搬送装置等を介し
て焼成工程に搬送され、タイルとして形成されるのであ
る。なお、本実施例において、水滴下装置Ｍは、エアー
フィルター１１に接続されているが、特に限定するもの
ではなく、二流体ノズル１とエアーポンプ１３との間の
エアー配管１４の適宜位置で、該エアー配管１４内に水
を滴下することができる位置であればよいのである。

【００１３】

【発明の効果】本発明は、以上のように構成したので、
以下のような効果を奏するのである。即ち、二流体ノズ
ルの先端部に水を含んだエアーを吹きつけることができ
ることにより、該水を含んだエアーにて二流体ノズルの
先端部に付着した釉薬を溶かしながら、タイル素地の表
面に釉薬を霧掛け施釉を行うことができるので、施釉時
に二流体ノズルの先端部を洗浄することができて「詰ま
り」の発生を防止することができ、ノズルの洗浄工程を
なくし、メンテナンスも減少できて作業効率を高めるこ
とができたのである。そして、ノズル部の付着物がなく
なるので、釉薬の噴出量を常に一定にすることができ、
タイル素地の表面に釉薬を一定に施釉することができる
のである。また、タイル素地の表面に釉薬を一定に施釉
することができるので、施釉ムラがなくなり、焼成後の
タイル表面の凹凸の発生を防止し、品質精度を安定させ
ることができるのでのある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例を示す霧掛け装置Ｓの配管図で
ある。

【図２】二流体ノズル１内の釉薬噴出口４ａとエアー噴
出口１４ａを示す斜視図である。

【図３】二流体ノズル１にてタイル素地Ｔに釉薬ｇを霧
掛け施釉している状態を示す斜視図である。

【図４】二流体ノズル１にて複数列のタイル素地Ｔ・Ｔ
・・・に釉薬ｇを霧掛け施釉している状態を示す正面図
である。

【図５】従来の実施例を示す霧掛け装置Ｓ’の配管図で
ある。

【符号の説明】

１二流体ノズル４釉薬配管４ａ釉薬噴出口１１エアー１４エアー配管１４ａエアー噴出口２２水タンク２３ポンプ２４水配管２７可変絞り弁Ｍ水滴下装置ａエアーｇ釉薬ｗ水

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】二流体ノズルにより釉薬を吹きつける構
成において、エアー配管内に洗浄水を適宜滴下し、含水
エアーを釉薬噴出口に吐出して施釉時にノズルを洗浄す
ることを特徴とするノズル洗浄方法。
【請求項２】二流体ノズルにより釉薬を吹きつける構
成において、二流体ノズルとエアーポンプとの間に水滴
下装置を設けたことを特徴とするノズル洗浄装置。