JP2661285B2 - 光ディスク原盤露光方法 - Google Patents
光ディスク原盤露光方法Info
- Publication number
- JP2661285B2 JP2661285B2 JP1261559A JP26155989A JP2661285B2 JP 2661285 B2 JP2661285 B2 JP 2661285B2 JP 1261559 A JP1261559 A JP 1261559A JP 26155989 A JP26155989 A JP 26155989A JP 2661285 B2 JP2661285 B2 JP 2661285B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- laser beam
- optical system
- beams
- head
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- Optical Head (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ディスク原盤露光方法に関する。
〔従来の技術〕 従来の光ディスク原盤路露光方法は、レーザビームを
固定光学系上で、２つのビームに分け、その各々に対し
て、アナログ変調、およびディジタル変調をかけ、移動
光学系上の光ヘッドを通して、フォトレジスト基板を露
光していた。
固定光学系上で、２つのビームに分け、その各々に対し
て、アナログ変調、およびディジタル変調をかけ、移動
光学系上の光ヘッドを通して、フォトレジスト基板を露
光していた。
次に、従来例について、図面を参照して詳細に説明す
る。
る。
第７図は従来の一例を説明するためのブロック図であ
る。
る。
第７図に示す光ディスク原盤露光方法は、レーザ発振
器２から出射されたレーザビーム３を、ビームスプリッ
タ12によって、レーザビーム26と、レーザビーム27とに
分割する。回転しているフォトレジスト基板１の回転中
心軸と、ヘッドレンズ13の中心軸との相対距離をヘッド
位置検出部４によって検出する。予めヘッド位置に対す
るレーザビーム９およびレーザビーム14の露光量が設定
されている露光量設定部30から、前記ヘッド位置検出部
４のヘッド位置信号ａにより光変調器駆動信号ｄと、光
変調器駆動信号ｅとが出力される。
器２から出射されたレーザビーム３を、ビームスプリッ
タ12によって、レーザビーム26と、レーザビーム27とに
分割する。回転しているフォトレジスト基板１の回転中
心軸と、ヘッドレンズ13の中心軸との相対距離をヘッド
位置検出部４によって検出する。予めヘッド位置に対す
るレーザビーム９およびレーザビーム14の露光量が設定
されている露光量設定部30から、前記ヘッド位置検出部
４のヘッド位置信号ａにより光変調器駆動信号ｄと、光
変調器駆動信号ｅとが出力される。
レーザビーム９とレーザビーム14とは、各々、光変調
器駆動信号ｄにより駆動される光変調器28および、光変
調器駆動信号ｅにより駆動される光変調器29にて露光量
が調整され、露光ビーム９および露光ビーム14となる。
器駆動信号ｄにより駆動される光変調器28および、光変
調器駆動信号ｅにより駆動される光変調器29にて露光量
が調整され、露光ビーム９および露光ビーム14となる。
露光ビーム9,14は移動光学系A2上のビームスプリッタ
12にて合成され、各々、ヘッドレンズ13を透過し、フォ
トレジスト基板１上に公知のフォーカスサーボ手段によ
り合焦集光され露光を行なう。
12にて合成され、各々、ヘッドレンズ13を透過し、フォ
トレジスト基板１上に公知のフォーカスサーボ手段によ
り合焦集光され露光を行なう。
しかしながら、このような上述した従来の光ディスク
原盤露光方法は、固定光学系上で、レーザビームを２つ
に分割し、移動光学系の光のヘッドレンズを通してフォ
トレジスト基板の露光を行なっているので、２つのレー
ザビーム各々での固定光学系と、移動光学系との間の、
アライメント状態の違いで、フォトレジスト基板上での
２つのレーザビーム間隔等が、ヘッドの位置によって変
動したり、固定光学系と移動光学系との間のアライメン
ト調整が困難であるという欠点がある。
原盤露光方法は、固定光学系上で、レーザビームを２つ
に分割し、移動光学系の光のヘッドレンズを通してフォ
トレジスト基板の露光を行なっているので、２つのレー
ザビーム各々での固定光学系と、移動光学系との間の、
アライメント状態の違いで、フォトレジスト基板上での
２つのレーザビーム間隔等が、ヘッドの位置によって変
動したり、固定光学系と移動光学系との間のアライメン
ト調整が困難であるという欠点がある。
本発明の光ディスク原盤露光方法は、固定光学系に入
射された１本のレーザビームの振幅および偏光面を変化
させて得られるレーザビームを移動光学系上で、偏光面
の異なる２本のレーザビームに分離して露光するように
構成される。
射された１本のレーザビームの振幅および偏光面を変化
させて得られるレーザビームを移動光学系上で、偏光面
の異なる２本のレーザビームに分離して露光するように
構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明
する。
する。
第１図は本発明の一実施例を説明するためのブロック
図である。
図である。
第１図に示す光ディスク原盤露光方法は、露光時に、
回転しているフォトレジスト基板１の回転中心軸と、ヘ
ッドレンズ13の中心軸との相対位置をヘッド位置検出部
４によって検出する。
回転しているフォトレジスト基板１の回転中心軸と、ヘ
ッドレンズ13の中心軸との相対位置をヘッド位置検出部
４によって検出する。
予めヘッド位置に対する２ビーム各々の露光量が設定
されている２ビーム露光量設定部５に印加されるヘッド
位置検出部４からのヘッド位置信号ａにより、２ビーム
の露光量の和に対するレーザビーム変調部駆動信号ｂ
と、２ビームの露光量の比に対するレーザビーム偏光面
可変部駆動信号ｃとが出力される。
されている２ビーム露光量設定部５に印加されるヘッド
位置検出部４からのヘッド位置信号ａにより、２ビーム
の露光量の和に対するレーザビーム変調部駆動信号ｂ
と、２ビームの露光量の比に対するレーザビーム偏光面
可変部駆動信号ｃとが出力される。
レーザ発振器２から出射されたレーザビーム３は、レ
ーザビーム変調部駆動信号ｂにより駆動されるレーザビ
ーム変調部ｂで強度ｐの調整がなされ、さらに、レーザ
ビーム偏光面可変部駆動信号ｃにより駆動されるレーザ
ビーム偏光面可変部７で、偏光面の調整がなされて露光
ビーム20となる。
ーザビーム変調部駆動信号ｂにより駆動されるレーザビ
ーム変調部ｂで強度ｐの調整がなされ、さらに、レーザ
ビーム偏光面可変部駆動信号ｃにより駆動されるレーザ
ビーム偏光面可変部７で、偏光面の調整がなされて露光
ビーム20となる。
露光ビーム20は、移動光学系A1上にある偏光ビームス
プリッタ８によって、露光ビーム20の偏光面に対する分
配比にて、露光ビーム９と露光ビーム14とに分割され
る、 移動光学系A1上のミラー10とミラー11とでヘッドレン
ズ13への入射角度が調整された露光ビーム９は、ビーム
スプリッタ12にて露光ビーム14と合成され、ヘッドレン
ズ13を透過し、フォトレジスト基板１上に照射され、露
光が行なわれる。
プリッタ８によって、露光ビーム20の偏光面に対する分
配比にて、露光ビーム９と露光ビーム14とに分割され
る、 移動光学系A1上のミラー10とミラー11とでヘッドレン
ズ13への入射角度が調整された露光ビーム９は、ビーム
スプリッタ12にて露光ビーム14と合成され、ヘッドレン
ズ13を透過し、フォトレジスト基板１上に照射され、露
光が行なわれる。
第２図（ａ），（ｂ）は第１図に示す２ビーム露光量
設定部５に印加されるヘッド位置信号ａと２ビーム各々
の露光量に対するレーザビーム変調部駆動信号ｂおよび
レーザビーム偏光面可変部駆動信号ｃとの相関関係を説
明するための相関図である。
設定部５に印加されるヘッド位置信号ａと２ビーム各々
の露光量に対するレーザビーム変調部駆動信号ｂおよび
レーザビーム偏光面可変部駆動信号ｃとの相関関係を説
明するための相関図である。
第２図（ａ），（ｂ）は各々ヘッド位置信号ａに対す
る露光ビーム9,14強度ｐの設定値を示す。
る露光ビーム9,14強度ｐの設定値を示す。
ヘッド位置信号a1のとき露光ビーム９の強度ｐの設定
値はp1であり、露光ビーム14の強度ｐの設定値はp2とな
り、ヘッド位置信号a2のとき露光ビーム９の強度ｐの設
定値はp1であり、露光ビーム14の強度ｐの設定値はp3と
なる。
値はp1であり、露光ビーム14の強度ｐの設定値はp2とな
り、ヘッド位置信号a2のとき露光ビーム９の強度ｐの設
定値はp1であり、露光ビーム14の強度ｐの設定値はp3と
なる。
第３図は第１図に示すレーザビーム変調部６でのレー
ザビーム変調部駆動信号ｂと出射レーザビーム強度との
相関を示す相関図であり、相関曲線24のようになる。従
って、第２図（ａ），（ｂ）より、ヘッド位置a1,a2に
対する露光ビーム9,14の強度ｐの設定値の和は各々p1＋
p2,p1＋p3であり、第３図よりレーザビーム変調部駆動
信号ｂは各々、b1,b2となる。
ザビーム変調部駆動信号ｂと出射レーザビーム強度との
相関を示す相関図であり、相関曲線24のようになる。従
って、第２図（ａ），（ｂ）より、ヘッド位置a1,a2に
対する露光ビーム9,14の強度ｐの設定値の和は各々p1＋
p2,p1＋p3であり、第３図よりレーザビーム変調部駆動
信号ｂは各々、b1,b2となる。
第４図は第１図に示すレーザビーム偏光面可変部７で
のレーザビーム偏光面可変部駆動信号ｃと、露光ビーム
20の偏光角θとの相関を示す相関図であり、相関曲線25
のようになる。従って、第２図（ａ），（ｂ）よりヘッ
ド位置信号a1,a2に対する露光ビーム9,14の強度ｐの設
定値の比は各々p1/p2,p1/p3であり、各々の比に対する
レーザビームの偏光角θ1,θ２を次の（１），（２）式
のようになる。
のレーザビーム偏光面可変部駆動信号ｃと、露光ビーム
20の偏光角θとの相関を示す相関図であり、相関曲線25
のようになる。従って、第２図（ａ），（ｂ）よりヘッ
ド位置信号a1,a2に対する露光ビーム9,14の強度ｐの設
定値の比は各々p1/p2,p1/p3であり、各々の比に対する
レーザビームの偏光角θ1,θ２を次の（１），（２）式
のようになる。
それゆえ、第４図から、偏光角θ1,θ２に対し、レー
ザビーム偏光面可変部駆動信号ｃはc1,c2となる。
ザビーム偏光面可変部駆動信号ｃはc1,c2となる。
第５図は第１図に示す露光ビーム20の偏光角23を規定
する規定図である。
する規定図である。
レーザビームの進行方向をＺ軸18の方向とし、それに
直交し、光学系合15に水平な方向をＹ軸17の方向、そし
て、光学系合15に垂直な方向をＸ軸16の方向とするレー
ザビームの電場ベクトル 次の（３）式のようになる。
直交し、光学系合15に水平な方向をＹ軸17の方向、そし
て、光学系合15に垂直な方向をＸ軸16の方向とするレー
ザビームの電場ベクトル 次の（３）式のようになる。
ここで、i,jは、Ｘ方向、Ｙ方向の単位ベクトル、Ex,
Eyは、Ｘ方向、Ｙ方向の成分、θは、 とｙ方向とのなす角であり、これが露光ビーム20の偏光
角23となる。
Eyは、Ｘ方向、Ｙ方向の成分、θは、 とｙ方向とのなす角であり、これが露光ビーム20の偏光
角23となる。
また、レーザビームの強度Ｉは次の（４）式のように
なる。
なる。
ここでは、簡単のためｋ＝１とする。
また、レーザ発振器から出射されるレーザビームは、
Ｘ方向の直線偏光であるとする。
Ｘ方向の直線偏光であるとする。
ここで、第１図に示すレーザビーム変調部駆動信号
b1,b2によって駆動するレーザビーム変調部６を出射す
るレーザビームの電場ベクトル 次の（５），（６）式のようになる。
b1,b2によって駆動するレーザビーム変調部６を出射す
るレーザビームの電場ベクトル 次の（５），（６）式のようになる。
さらに、レーザビーム偏光面可変駆動信号c1,c2によ
って駆動するレーザビーム偏光面可変部７によって、電
気電場ベクトル 各々、偏光角θがθ1,θ２となり、この時の露光ビーム
20の電場ベクトル 次の（７），（８）式のようになる。
って駆動するレーザビーム偏光面可変部７によって、電
気電場ベクトル 各々、偏光角θがθ1,θ２となり、この時の露光ビーム
20の電場ベクトル 次の（７），（８）式のようになる。
第６図は、第１図に示す移動光学系A1上の偏光ビーム
スプリッタ８の上面図である。
スプリッタ８の上面図である。
偏光ビームスプリッタ８により、露光ビーム20はX,Y
方向成分に分けられ、それぞれ、露光ビーム14,9にな
る。ここでヘッド位置信号a1に対する露光ビーム20の電
場ベクトルは、 であり、露光ビーム9,14の強度I1,I2は次の（９），（1
0）式のようになる。
方向成分に分けられ、それぞれ、露光ビーム14,9にな
る。ここでヘッド位置信号a1に対する露光ビーム20の電
場ベクトルは、 であり、露光ビーム9,14の強度I1,I2は次の（９），（1
0）式のようになる。
となる。
また、ヘッド位置信号a2に対する露光ビーム20の電場
ベクトルE2′に対し、同様にして、露光ビーム9,14の強
度ｐは各々p1,p3となる。
ベクトルE2′に対し、同様にして、露光ビーム9,14の強
度ｐは各々p1,p3となる。
例えば、レーザビーム変調部６はA/O変調器、そし
て、レーザビーム偏光面可変部７はE/O変調器を用いる
ことにより構成できる。
て、レーザビーム偏光面可変部７はE/O変調器を用いる
ことにより構成できる。
本発明の光ディスク原盤露光方法は、移動光学系上に
てレーザビームを２つに分割することにより、ヘッドレ
ンズを通してフォトレジスト基板に照射される２ビーム
各々に対して固定光学系と移動光学系とのアライメント
状態を同一にできるため、２つのレーザビームの間隔が
ヘッドの位置によらず同一にできるとともに、固定光学
系と移動光学系とのアライメント調整は１本のレーザビ
ームについて行なえばよいため調整も簡単に行なうこと
ができるという効果がある。
てレーザビームを２つに分割することにより、ヘッドレ
ンズを通してフォトレジスト基板に照射される２ビーム
各々に対して固定光学系と移動光学系とのアライメント
状態を同一にできるため、２つのレーザビームの間隔が
ヘッドの位置によらず同一にできるとともに、固定光学
系と移動光学系とのアライメント調整は１本のレーザビ
ームについて行なえばよいため調整も簡単に行なうこと
ができるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を説明するためのブロック
図、第２図（ａ），（ｂ）は第１図に示す２ビーム露光
量設定部に印加されるヘッド位置信号とレーザビーム変
調部駆動信号およびレーザビーム偏光面可変部駆動信号
との関係を説明するためのタイミング図、第３図は第１
図に示すレーザビーム変調部でのレーザビーム変調部駆
動信号と出射レーザビームの強度との相関を示す相関
図、第４図は第１図に示すレーザビーム偏光面可変部で
のレーザビーム偏光面可変部駆動信号と露光ビームの偏
光角との相関を示す相関図、第５図は第４図に示す露光
ビームの偏光角を規定する規定図、第６図は第１図に示
す移動光学系上の偏光ビームスプリッタの上面図、第７
図は従来の一例を説明するためのブロック図である。 A1,A2……移動光学系,B1,B2……固定光学系， １……フォトレジスト基板、２……レーザ発振器、３…
…レーザビーム、４……ヘッド位置検出部、５……２ビ
ーム露光量設定部、６……レーザビーム変調部、７……
レーザビーム偏光面可変部、８……偏光ビームスプリッ
タ、9,14,20……露光ビーム、10,11……ミラー、12……
ビームスプリッタ、13……ヘッドレンズ、15……光学系
台、16……Ｘ軸、17……Ｙ軸、18……Ｚ軸、19……Ｘ方
向単位ベクトル、21……Ｙ方向単位ベクトル、22……電
場ベクトル、23,θ……偏光角、24,25……相関曲線、2
6,27……レーザビーム、28,29……光変調器、30……露
光量設定部、a,a1,a2……ヘッド位置信号、b,b1,b2……
レーザビーム変調部駆動信号、c,c1,c2……レーザビー
ム偏光面可変部駆動信号、d,e……光変調器駆動信号、p
1,p2,p3……露光ビーム強度、ｐ……強度。
図、第２図（ａ），（ｂ）は第１図に示す２ビーム露光
量設定部に印加されるヘッド位置信号とレーザビーム変
調部駆動信号およびレーザビーム偏光面可変部駆動信号
との関係を説明するためのタイミング図、第３図は第１
図に示すレーザビーム変調部でのレーザビーム変調部駆
動信号と出射レーザビームの強度との相関を示す相関
図、第４図は第１図に示すレーザビーム偏光面可変部で
のレーザビーム偏光面可変部駆動信号と露光ビームの偏
光角との相関を示す相関図、第５図は第４図に示す露光
ビームの偏光角を規定する規定図、第６図は第１図に示
す移動光学系上の偏光ビームスプリッタの上面図、第７
図は従来の一例を説明するためのブロック図である。 A1,A2……移動光学系,B1,B2……固定光学系， １……フォトレジスト基板、２……レーザ発振器、３…
…レーザビーム、４……ヘッド位置検出部、５……２ビ
ーム露光量設定部、６……レーザビーム変調部、７……
レーザビーム偏光面可変部、８……偏光ビームスプリッ
タ、9,14,20……露光ビーム、10,11……ミラー、12……
ビームスプリッタ、13……ヘッドレンズ、15……光学系
台、16……Ｘ軸、17……Ｙ軸、18……Ｚ軸、19……Ｘ方
向単位ベクトル、21……Ｙ方向単位ベクトル、22……電
場ベクトル、23,θ……偏光角、24,25……相関曲線、2
6,27……レーザビーム、28,29……光変調器、30……露
光量設定部、a,a1,a2……ヘッド位置信号、b,b1,b2……
レーザビーム変調部駆動信号、c,c1,c2……レーザビー
ム偏光面可変部駆動信号、d,e……光変調器駆動信号、p
1,p2,p3……露光ビーム強度、ｐ……強度。
Claims (1)
- 【請求項１】フォトレジスト基板上に少なくとも２本の
露光用レーザビームを合焦集光する光ヘッドを含む光学
系を移動光学系とし、該２本の露光用レーザビームでフ
ォトレジスト基板上の露光を行う光ディスク原盤露光方
法であって、固定光学系に入射された１本のレーザビー
ムの振幅および偏光面を、前記光ヘッドから得られるヘ
ッド位置信号にもとづいて、変化させて得られたレーザ
ビームを移動光学系上で、偏光面の異なる２本のレーザ
ビームに分離して露光することを特徴とする光ディスク
原盤露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1261559A JP2661285B2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 光ディスク原盤露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1261559A JP2661285B2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 光ディスク原盤露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03122844A JPH03122844A (ja) | 1991-05-24 |
| JP2661285B2 true JP2661285B2 (ja) | 1997-10-08 |
Family
ID=17363583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1261559A Expired - Lifetime JP2661285B2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 光ディスク原盤露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2661285B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0495243A (ja) * | 1990-08-08 | 1992-03-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤の作成装置 |
-
1989
- 1989-10-06 JP JP1261559A patent/JP2661285B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03122844A (ja) | 1991-05-24 |
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