JP2656733B2 - 薄膜磁気抵抗再生ヘッドの磁気的再初期設定方法及びその装置 - Google Patents

薄膜磁気抵抗再生ヘッドの磁気的再初期設定方法及びその装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気抵抗(MR)ヘッ
ドを有する媒体駆動装置の製造に関し、特に、駆動装置
の製造における薄膜磁気抵抗素子の磁気状態の設定に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】一定の材料からなる薄膜が示す磁気抵抗
(MR)効果に基づいて動作する磁気抵抗再生ヘッドが
従来技術で開示されている。MR変換器を組み込んだ再
生ヘッドは、MR変換素子によって感知される磁束の量
及び方向の関数としての、MR変換素子の抵抗変化を通
じて、磁界信号を検出する。
【0003】駆動装置の記録密度が高くなるのに応じ
て、小型化したMR変換器の効率的な大量生産のための
バッチ式製造方法が開発されてきた。典型的には、MR
変換器のバッチ式製造方法では、ウェハ・レベルの加工
において既知の薄膜製造技術を用いて1枚のウェハ上に
複数のMR変換器を製造する。ウェハは次に、n個のM
R変換器を有する各列に切断され、列レベルで研摩さ
れ、次に各列が個々のスライダに切断される。各スライ
ダはMR再生ヘッドを含むヘッド構造を有する。
【0004】MR変換器の動作を最適にする特定の磁気
状態を有するMR変換器を製造するために、構造の細部
及び製造パラメータを選択的に変えることが知られてい
る。即ち、MR変換器は、軟または硬バイアス要素を含
むことができ、また、ウェハ・レベルの加工において一
定のステップで磁界を印加する、バッチ式製造方法によ
って製造される。これらの構成要素は、磁化方向、磁界
の配向などの薄膜MR層(MRストライプ)の磁気特性
を設定する。例えば、C.D.ミー(Mee)等著"MAGNET
IC RECORDING, Vol.1" ,McGraw-Hill, New York, 1987,
pp.270-302を参照されたい。
【0005】MRストライプの磁気特性は、MR再生ヘ
ッドに磁界を印加することにより初期設定される。現
在、初期設定は、製造及び組み立ての環境及び要件に応
じて、ウェハ・レベル及び列レベルで行われる。
【0006】しかしながら、列レベルの加工の最中また
はその後に行われるいくつかの加工操作によって、MR
変換器の磁気状態が変わることが判明している。即ち、
本発明者等は、列レベルの加工の最中または後に行われ
るMR変換器への意図的及び偶然的な障害が、薄膜磁気
抵抗材料層における磁区の形成を引き起こし、軟バイア
スMR変換器における遷移層の磁化配向を変え、また、
硬バイアスMR変換器における磁化層を配向解除しまた
消磁することがあると結論付けた。これらの影響は、単
独及び集合的に、MR変換器の磁気状態を変えることが
できる。本発明者等は、磁気状態の変化が、MR変換器
の動作の品質を著しく低下させ得ることを発見した。こ
れに関連して、列レベルでの試験で高振幅応答を示した
MR変換器が、列状態から切断されて媒体駆動装置に取
り付けられた後、低振幅応答に落ちてしまうことがあり
得る。
【0007】ウェハ・レベルの処理中にMR再生ヘッド
に対して最初に確立された磁気状態を媒体駆動装置のレ
ベルで再初期設定する、媒体駆動装置の製造方法は、従
来技術では開示されていない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の主な
る目的は、MR再生ヘッドを駆動装置のサブユニット・
アセンブリに組み込んだ後、ウェハ・レベル及び列レベ
ルでの製造操作に引き続いて、MR再生ヘッドの磁気状
態を再初期設定するための装置及び方法を提供すること
にある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、MR再
生ヘッドの磁気状態が、MR再生ヘッドをヘッド・サス
ペンション・アセンブリ(HSA)のフレキシャ(flex
ure)に取付けた後に磁界("初期設定磁界")を印加す
ることによって再初期設定される。
【0010】本発明の再初期設定の装置及び方法では、
HSAレベルでMR再生ヘッドに印加される初期設定磁
界を提供するために、高エネルギー磁石を用いる。初期
設定磁界は、HSAに取り付けられたMR再生ヘッド
に、特定の方向から印加される。この特定の方向とは、
通常、MRストライプに平行で、かつMRストライプを
通る電流の方向と反対の方向である。
【0011】図1は、MR(磁気抵抗)ストライプ10
を横切って矢線13で示す方向に磁気記録媒体12を動
かすことによって生じる、磁束に対するMRストライプ
10の応答を示している。図1に示すように、MRスト
ライプ10は、磁気記録媒体12に垂直に配向する平面
構造を有する。MRストライプ10に接続されたリード
線14及び15は、一定の直流電流(IDC)をMRス
トライプ中に流す。知られているように、MRストライ
プ10は、矢線16で示した初期磁化方向を持つ軟磁性
材料である。図1に示すMRストライプの実施例では、
磁化方向16は、MRストライプ10が組み込まれたM
R変換器の初期磁気状態によって決定される。図1で
は、磁化方向はたまたま、IDCの方向と反対である。
他の設計では、磁化方向が電流の方向からそれていても
よい。
【0012】知られているように、MR再生ヘッドは、
MRストライプ10にバイアスをかける他の特徴を含ん
でいてもよい。MRストライプにバイアスがかかると
き、MRストライプの磁化は、電流の方向から角度θの
矢線17の方向をとる。
【0013】動作に当っては、磁気記録媒体12を矢線
13の方向に動かすことによって生ずる磁束が、矢線1
8及び19によって示されるように、MRストライプ1
0における磁化方向を角度±Δθだけ変える。このため
に、MRストライプの抵抗率が変化する。抵抗率の変化
は、θの変化と既知の関係にあり、リード線14及び1
5の間の電流IDCを一定に保つために必要な電圧Vの
変化によって測定することができる。
【0014】図2は、MRストライプを備えるMR再生
ヘッドを含むヘッド構造が取り付けられるヘッド・スラ
イダ・アセンブリ(HSA)の端部を示す拡大等角投影
図である。この図は、スライダの後端部(TE)側に向
かって見たものである。
【0015】通常、ディスク駆動装置で使用するために
製造されるHSA20は、フレキシャ22の表面に取り
付けられたスライダ21を有する。スライダ21は、セ
ラミック・ウェハから始まる、通常のバッチ式製造技法
を用いて製造される。そのセラミック・ウェハの上に、
既知の技術に従って、MR再生ヘッドを備えるヘッド構
造が複数個製造される。(図1及び2は、本発明の実施
を制限するものではなく、ヘッド構造は薄膜書込み素子
をも含むことができる。)ウェハはそれから列に切断
し、次に各列をそれぞれヘッド構造を有する個々のスラ
イダに切断する(さいの目に切る)。図2において、ス
ライダ21は、MR変換器25を含むMR再生ヘッド2
4を備えるヘッド構造を有する。MR変換器の一部分
が、図3に拡大してあり、硬バイアス磁石要素27及び
29によって部分的に決定される、初期磁化方向28を
有するMRストライプ26を含む。図3の硬バイアスさ
れたMR変換器の構造は、本発明を限定するものではな
い。事実、MR変換器の構造は、その初期磁気状態が、
構造の細部と製造パラメータの選択した組合せによって
予め決定されるものなら、どんなものでもよい。選択さ
れた組合せは、MR変換器に対して特定の磁気状態を課
するためのものであり、その1つの特性が磁化方向であ
る。
【0016】HSA組み立て後に測定したMR変換器の
動作が、列レベルの加工の前及びその最中に測定した同
じMR変換器の動作と大きく異なることがあることを、
本発明者等は発見した。事実、バッチ中のMR変換器の
2〜3%ほどが、列レベルの測定値とHSAレベルの測
定値の間で出力の著しい減少を示すことがあることを、
本発明者等は発見した。本発明は、そのような動作の低
減が、HSAレベルまでの製造及び組み立て操作に起因
する、MR変換器への様々な偶然的または意図的なある
いはその両方の障害によって引き起こされる、品質が低
下したMR変換器の磁気状態の変化に由来するものであ
るという本発明者等の認識に基づいている。MR変換器
をフレキシャに取り付けた後に初期設定磁界をMR変換
器に印加することにより、品質が低下したMR変換器の
磁気状態を再設定または再初期設定すると、MR変換器
の磁気状態を復元でき、その動作をウェハ・レベルの加
工の終りに測定した水準にまで回復できることを本発明
者等は発見した。
【0017】従って、本発明は、図4に示すような初期
設定磁界を、フレキシャに取り付けられたスライダ上に
おいて、MR変換器のMRストライプの初期磁化方向に
ほぼ平行な方向に印加することによって、MR再生ヘッ
ドの磁気状態を再初期設定することを含んでいる。図4
において、初期設定磁界はHIで示されている。
【0018】フレキシャが磁性体で形成されている場合
には、HIを印加すると、フレキシャに残留磁界が残り
得ることを、本発明者等は認識している。したがって、
必要ならば、消磁コイル30(図4に図式的に示す)を
用いて、MRストライプの磁化方向に直角な方向にフレ
キシャ消磁磁界HDを印加することにより、フレキシャ
を消磁することが可能になった。消磁コイル30によ
り、オン及びオフにスイッチできる交流発電機から、徐
々に弱くなる交流電圧が、フレキシャに印加される。消
磁磁界の方向は図4に示されている。
【0019】初期設定磁界HIの強さは、MR変換器の
磁気状態を基本的に設定する、MR変換器の各要素に影
響を与えることができる十分な強さでなければならな
い。これに関連して、MR変換器に硬バイアスがかけら
れる場合には、HIの磁界の強さは、MR変換器におけ
る最も強い硬磁性材料の最大保磁磁界よりもより大きく
あるべきである。450〜4500ガウスの範囲の強さ
を持つ磁界は、硬バイアスされた磁石を用いる設計の全
範囲にわたって、硬バイアスされたMR変換器において
望ましい結果を生じることを、本発明者等は発見した。
さらに、MR変換器に係わる熱的、電気的、及び機械的
な製造操作は全て、ディスク駆動装置の製造のこのステ
ップの前に完了しているので、駆動装置製造のHSAレ
ベルにおいて再初期設定を行うのは有益であることを、
本発明者等は発見した。また、MR変換器の操作の大部
分は完了しているであろう。
【0020】本出願の出願人によって用いられるディス
ク駆動装置製造工程においては、ヘッド・スライダ・ア
センブリを製造するために、スライダをフレキシャに取
り付ける製造レベルを、「HSAレベル」と呼んでい
る。この製造方法において、HSAは通常、隣り合う2
つの列にそれぞれ10個ずつ、合計20個のHSAを保
持するプラスチック・トレイに入れて加工される。ディ
スク駆動装置製造工程のスループットを維持するため
に、本発明者等に課せられた1つの大きな課題は、1つ
のプラスチック・トレイ上に同時にのせられたできるだ
け多くのHSAに対して、本発明の再初期設定工程を実
施することであった。(本明細書では、HSAが1つの
トレイ内で加工されるとき、これを「トレイ・レベル」
の操作という。)トレイ内の所与の限られた空間内で高
振幅の磁界を実現した結果、トレイ・レベルで注目に値
する装置構成と実施がもたらされた。
【0021】ディスク駆動装置製造のHSAレベルでの
MR変換器の磁気状態を再初期設定するためのトレイ・
レベルの装置は、一対の軟磁性体磁極片の間に、HSA
の端部を受け入れるための、空隙の形の磁化空間を有す
る、図5に示された磁化装置に基づく。初期設定磁界
は、磁極片によって空隙中に誘導される。空隙は、その
中で均一な磁界が形成される、明確な空間領域を提供す
る。磁極片の両面間の空隙の大きさは、トレイ内におけ
るMR再生ヘッド上のMRストライプの配置、HSAの
後端部のサイズ、及び初期設定磁界の振幅と配向許容差
によって決定される。
【0022】図6及び7は、図5の磁化装置を用いた次
善の方法を示している。即ち、初期設定磁界が空隙内に
存在する間に、MR再生ヘッドが空隙領域に入れられそ
こから取り出される場合には、ヘッドはフリンジ磁界を
横切ることになり、HSAレベルにおける再初期設定の
完全な効果が抑制される。MR変換器が空隙の公称中心
に留まっている間に図7に示すように磁極片を離して
も、好ましくないフリンジ磁界によって不均一性が生じ
る可能性がある。
【0023】
【実施例】本発明によるMR変換器の磁気状態を再初期
設定するための1つの新規な方法は、永久磁石を使っ
て、これを磁化装置に挿入しそこから取り出すものであ
る。これは、図8及び9に示されており、ここでは移動
可能な磁石60が、磁極片ハウジング62内に取り付け
られた2つの分離した軟磁性磁極片61に対してスライ
ド可能に配置されている。磁極片は軟磁性材料により形
成されており、ハウジングは、磁極片61間で移動可能
な磁石60をそこに移すことのできる第1の位置を定義
する。移動可能な磁石60が第1の位置にあるとき、軟
磁性磁極片61は、磁石の磁界の束を空隙領域65に通
す。移動可能な磁石60は、軟磁性材料で形成された磁
気シールド63内の第2の位置に移ることができ、この
磁気シールド63は、移動可能な磁石60が第2の位置
にあるとき、磁石60の磁界を閉じ込める。第2の位置
にあるとき、移動可能な磁石の磁界は殆どあるいは全く
軟磁性磁極片61に到達しない。移動可能な磁石60は
磁石リンク64に結合され、磁石リンク64は、磁石6
0を、自動製造ラインに組み込むことのできるソレノイ
ドなど通常の2ストローク式電気機械装置に機械的に連
結するために設けられている。
【0024】図8及び9に示すように、その後端部67
にMR変換器を取り付けたHSA66は、移動可能な磁
石が第2の位置にある間に空隙65内に置くことができ
る。MR変換器を空隙65内に置いた後、移動可能な磁
石60は、第1の位置に移り、この位置では、その磁界
が空隙内を通り、MR変換器の磁気状態を再初期設定す
る。次に、移動可能な磁石は第2の位置に移り、HSA
と磁極片は離れる。このようにして、空隙内の磁界は、
その大きさが、移動可能な磁石60が第2の位置にある
ときのゼロから、移動可能な磁石60が第1の位置にあ
るときの最大値へ変化し、また、移動可能な磁石が第2
の位置へ戻ったとき、最大値からゼロへ変化するだけで
ある。フリンジ磁界を横切ってMR変換器が移動するこ
とが避けられ、その結果、MR変換器の磁気状態の最適
な再初期設定がもたらされる。
【0025】図8及び9に示した磁化装置は、「セル」
とも呼ばれる。セルの磁極片は、移動可能な磁石60の
磁界に応答するが、移動可能な磁石60が第2の位置に
あるときは大きな残留磁界を示さないような、大きな保
磁力を持たない軟磁性材料で形成することが好ましい。
磁極片61の向かい合う面は、初期設定磁界をHSAの
後端部67に局在化し、HSA66のフレキシャ全体が
磁界に包まれないようにする。磁気シールドは、磁極片
の軟磁性材料から形成することが好ましい。
【0026】図10ないし14は、単一のセル70を用
いた本発明の方法を示している。図10において、移動
可能な磁石は、最初、磁界シールド63内に存在する。
したがって、空隙65内には磁界は存在しない。この状
態で、セル70(またはHSA66)が移動して、HS
Aの後端部とMR変換器とが図11に示す位置にくる。
この位置にあるとき、空隙の公称中心は、MR変換器に
おけるMRストライプの磁化方向と整列する。図11で
示す位置にセル(またはHSA)が移動した後に、移動
可能な磁石60は、磁石リンク64を経て図12に示す
磁極片61間の第1の位置に移動する。したがって、高
振幅の初期設定磁界が空隙65内に生成され、MR変換
器の磁気状態の再初期設定が達成される。移動可能な磁
石は、次に、図13に示す磁気シールド63内の第2の
位置に戻り、これに対応して空隙内の磁界がゼロにな
る。最後に、セルとHSAが図14に示すように離れ
る。
【0027】移動可能な磁石60を磁極片61間の第1
の位置に置くと、空隙65内の磁界の強さが直接制御さ
れることを、本発明者等は発見した。したがって、セル
の磁界の強さは調整可能であり、望ましい磁界の強さを
変えるためには、機械式のストローク制限手段があれば
よい。コイルに必要な空間及び電圧源の供給を確保する
ことができれば、代わりに、移動可能な磁石60を一定
モードまたはパルスモードで動作できる固定電磁石で置
き換えられることを本発明者等は企図している。
【0028】図10ないし14の5段階の手順は、磁界
の誘導なしにHSAが空隙内に入れられまた取り出され
るとき、最適条件の結果を生み出すことが理解されよ
う。これにより、図6及び7を参照して上述した望まし
くない結果が避けられる。しかしながら、環境が許すな
らば、HSAが空隙内に入れられまた取り出される間磁
界を維持することにより、本発明が実施できることを本
発明者等は企図している。
【0029】当業者には理解されるように、ロボット式
位置決め装置を用いてHSAを1個ずつステーションに
送ることにより、単一セルの磁化装置を使ってHSAを
再初期設定することができる。これは、本発明による処
理をトレイ・レベルに限定するものではない。無論、手
動操作のセルも実施できる。
【0030】図15は、トレイ・レベルでの処理の場合
の20個のHSAの配置を示している。即ち、トレイ8
0は、トレイ・レベルでの処理のための20個のHSA
に対する取付支持体を提供する。20個のHSAのうち
の1つを参照符号81によって示す。トレイ80は、そ
の1つを参照符号82で示す複数の水平支持部材と、そ
の1つを参照符号83で示す複数の垂直横架部材とを含
む。水平支持部材、垂直横架部材、及びHSAは、外周
部材84に囲まれる。水平支持部材、垂直横架部材及び
外周部材は同一平面上にあり、トレイは底面及び上面を
有さない。したがって、HSAの後端部には、トレイ8
0のいずれの側からも接近可能である。図15に示すよ
うにトレイ80を用いると、多数の小さなHSAを所定
の向きで隣り合って置くことが可能になり、またトレイ
内に磁極片を挿入することが可能になる。
【0031】図16及び17は、トレイを受けるための
凹部93を有する平板92上に多数のセル91を並べ
た、トレイ・レベルの装置90を示している。図16に
示すように、セル91は、1列に10セルずつ取り付け
られている。各セル列は、マルチ・ストローク駆動装置
94によって矢線95で示す2つの方向に駆動される移
動可能な部材(図示せず)の上に一緒に載せられてい
る。下方向に駆動されたとき、各セル列はトレイ・レベ
ルの装置90の内部に引き込まれる。上方向に駆動され
たとき、各セル列は、図16に示す位置に移動し、磁極
片が、凹部93によって画定される空間内で上方に向か
って突き出た状態となる。図17に示すように、20個
のHSAが取り付けられたトレイ97は、トレイを凹部
と整列させて、各セル列を上方に凹部内に駆動させたと
き、それぞれのセルの空隙が対応するHSAの後端部と
正確に整列し、これにより全てのHSAで同時に再初期
設定ステップを実行できるようにするため、凹部93の
外周部と係合する下側リップ98を有する。再初期設定
は、マルチ・ストローク駆動装置94が各セルの移動可
能な磁石を上方に磁極片の間に移動させて空隙内に初期
設定磁界を誘導するときに行われる。次に、マルチ・ス
トローク駆動装置94は、移動可能な磁石を磁気シール
ド内に引き込み、それから、各セル列を下方にトレイ・
レベルの装置90内に引き込む。トレイ97はその後、
凹部93から引き出される。
【0032】図16及び17に示す装置内の初期設定セ
ルが小型であり、隣接して配置されている場合には、2
0個の空隙を同時にトレイ内に挿入し、かつトレイ内に
取り付けられた全てのHSAに取り付けられているMR
変換器の磁気状態を同時に初期設定することが可能であ
る。しかしながら、隣接するセル間の望ましくない磁界
の漏れは、どの空隙内の磁界をも著しく減じさせてしま
う。ある応用例では、MR変換器の磁気状態を再設定す
るのに低い磁界強度が必要なこともあり、この強さで
は、隣接するセルの漏れ磁界が、空隙の磁界の強さを受
け入れられない水準にまで低下させることはない。しか
しながら、他の場合には、磁界の漏れのために、磁界が
初期設定に必要な水準に達することが妨げられることも
ある。隣接するセルの磁界の漏れによる空隙内の磁界の
強度の低下を防ぐために、図18に示すように、隣接す
るセルの磁極片間に「ブースト」永久磁石を加えること
もできる。ブースト磁石とセル磁石があいまって、各空
隙内に高磁界を提供する。ブースト磁石は、セル磁石を
動かす磁石リンクに連結することができ、したがって、
セル磁石と縦列状態で動かすことができる。
【0033】また、セルが比較的大きな間隔で配置され
ている場合には、ブースト磁石を省略してもよい。ただ
し、こうすると、磁石のストローク当たり処理できるH
SAの数が減ってしまう。またこうすると、1つのトレ
イ内に取り付けられたHSAに2つの経路が設けられた
ときに、第1の経路の間に初期設定されたMR再生ヘッ
ドが第2の経路から悪影響を受けるのを防止するための
シールドが必要となる。
【0034】図19及び20は、セルが図16及び17
のトレイ・レベルの装置90で示したよりも相対的に大
きな間隔で配置されている、トレイ・レベルの装置11
0を示している。トレイ・レベルの装置110は、2つ
の親指状部材111aの間に凹部を有し、その中でトレ
イ119が2つの位置の間を動く。トレイ119は、そ
の外周部にタブ119aを有する。タブ119aは、親
指状部材111aに嵌合され、親指状部材111aは、
軸支延長部材111b上に取り付けられている。トレイ
119は、トレイの下側リップと嵌合するための張出し
部材113を有する、トレイ支持フレーム117に嵌合
される。トレイ支持フレーム117は、軸118上に沿
って2つの位置の間を移動可能である。トレイが左に寄
る第1の位置では、トレイ119の各列の5個のHSA
が、それぞれのセル列112の5個のセルによって再初
期設定される位置にくる。図20を見ると最もよく分か
るように、それぞれのセル列は、5個のセル115及び
6個のシールド116を含む。すなわち、トレイ119
が第1の位置のとき、トレイ内の各列の5個のHSA
は、各セル列112の対応する5個のセル内で発生する
初期設定磁界によって再初期設定される。例えば、トレ
イ119が第1の位置のとき、トレイ119の後側の列
内の参照番号118aによって示される5個のHSAと
トレイの前側の列内の上記に対応する5個のHSAは、
それらの後端部が、セルの空隙内で再初期設定のための
位置にくる。第1の位置のとき、最初の10個のHSA
が再初期設定される間、参照番号118bで示される後
側の列内のHSAと前側の列内のこれらに対応するHS
Aとからなる、次の10個のHSAは、その後端部が2
つのセル列のシールド116によってシールドされる。
第2の位置のとき、トレイ119は右に寄り、その結
果、トレイ119の後側の列内の参照番号118aによ
って示される5個のHSAとトレイの前側の列内の上記
に対応する5個のHSAは、それらの後端部がシールド
され、参照番号118bで示される後側の列内のHSA
と前側の列内のこれらに対応するHSAからなる残りの
10個のHSAは、10個のセルによって再初期設定さ
れる位置にくる。
【0035】図21は、本発明を実施するために用いら
れる、トレイ・レベルの磁気回路の2つの実施例を示し
ている。参照番号120で示される回路において、軟磁
性磁極片が各HSAの間に配置され、この結果HSAの
後端部を横切って十分に均一に磁束が通る。永久磁石1
21及び122が軟磁性戻り回路123に接続されて、
磁化回路が閉じる。磁極片は、1ストロークで定位置に
移動し、空隙の中心がMR変換器と整列する。それか
ら、永久磁石と戻り回路が、磁極片と整列するように移
動し、再初期設定が行われる。それから、永久磁石と戻
り回路が取り外され、次に磁極片が取り外される。参照
番号124で示された実施例は、一連の磁気回路も含ん
でいる。ただし、最初の実施例の大きな端部永久磁石1
21及び122の代わりに使用される磁石は小さく、磁
極片間に分散されている。
【0036】本発明の工業的応用例に影響を与える種々
の問題を考慮して、前に例示し記述したものとは異なる
再初期設定磁化装置を選択することがある。例えば、本
発明者等は、再初期設定磁界の発生のために固定電磁石
の使用を企図していることを指摘した。永久磁石を用い
る装置の重要な利点は、移動可能な磁石が第1の位置か
ら第2の位置に移動するとき、この装置の大きな空隙が
大きなリアクタンスを示し、そのために磁極片の軟磁性
材料内の残留磁界が大きく減少することから生じるもの
であると認められる。通常の電磁石の設計では、コイル
巻線を中実のC字形コアに巻きつけ、1個または複数の
HSAをコアによって形成される空隙内に置き、コイル
巻線に電流を流して、空隙内に磁界を誘導する。電流を
除去しても、中実のC字形コアは、磁極片の材料の保磁
力のために、弱い馬蹄形磁石として働き続ける。電磁石
のコアに大きな空隙を設けると、この設計の高い磁界強
度の能力が低下してしまう。
【0037】適度に小さな空隙を有する電磁石が使用で
きる1つの設計が、図22に示されている。この設計で
は、電磁石は、移動可能な反残留磁界コア片を有してお
り、この反残留磁界コア片は、電磁石に付勢する前に第
1の位置に移動し、電磁石のスイッチを切ったとき第2
の位置に移動する。第1の位置に反残留磁界コア片があ
るとき、1個または複数のHSAを空隙内に置き、電流
を流し次いで切り、その後、移動可能な反残留磁界コア
片を第2の位置に移動させると、残留磁界が減少し、H
SAの除去が可能になる。別法として、電流をコイル巻
線に流し、再初期設定磁界が空隙に誘導された後に、残
留磁界に逆らう小さな逆電流をコイル巻線に供給するこ
とにより、残留磁界を減少させ、または十分に抑制する
ことができる。
【0038】本発明を実施するための第3の代替実施例
は、図23に大きなソレノイドの形で概略的に示されて
いる。ソレノイドは、自己支持形の、または支持体に巻
きつけた形のコイル巻線のシリンダを備えることができ
る。ソレノイドの内部は、HSAのトレイを受けること
ができる磁化空間を形成する。HSAのトレイは、磁化
空間内に置かれる。コイル巻線に電流を流すことによ
り、通常、HSAが位置するシリンダ内の磁化空間に広
がる磁界が誘導され、それによって、それらのMR素子
が初期設定される。
【0039】図24は、20個のHSAのサスペンショ
ンを同時に消磁する、トレイ・レベルの消磁装置を示
す。これが必要となるのは、磁化されたサスペンション
からの浮遊磁界が、取り付けられたMR素子のバイアス
・レベルの妨害や、MR素子の近くの望ましくない磁気
粒子の集合などのような、望ましくない効果を生ずる場
合である。
【0040】消磁装置は、軟磁性材料から形成されるコ
アを有する。コアは、基部140、外部磁極141、第
2の外部磁極142、及び中央磁極143を有する。中
央磁極は、3つの幅広タブ143a、4つの比較的幅狭
タブ143b、及びスロット143cを有する。
【0041】電磁石を形成するために、中央磁極143
の回りにコイル145を巻きつける。コイルは、交流電
圧源(図示せず)に接続するために用いられる接続ワイ
ヤ146及び147を有する。交流電圧源は、適当な消
磁磁界を提供するために、振幅がゆっくりと減少する交
流電圧を供給する。
【0042】20個のHSAを載せたトレイ148を、
中央磁極143の全てのタブを貫通する長いスロット
(図示せず)を有する、非磁性の傾斜した支持体149
上に置く。その1つを前に図15に参照符号83によっ
て示した、トレイの垂直横架部材が、中央磁極143の
スロット143c内に貫入する。機械式ガイド(図示せ
ず)が、トレイを消磁装置の磁極構造内に下ろし、トレ
イをその中で支持するために用いられる。
【0043】トレイ148を挿入したとき、中央磁極1
43の3つの幅広タブ143aの両側に、それぞれ2つ
のHSAが存在する。中央磁極143の4つの幅狭タブ
143bの両側に、それぞれ1つのHSAが存在する。
中央磁極の終端部143dは、トレイの外側に延び、各
列の端部にあるHSAに作用する磁界の強さが減らない
ような構造であり、また外側のHSAの位置において
も、中央磁極と外部磁極の間で磁界の方向が十分に垂直
に保たれるような構造である。支持体149の傾きは、
HSAがトレイ中に寝かされたときの角度を補償するよ
うに形成されており、その結果、磁界はスライダの長手
方向に沿ったものとなる。
【0044】146と147の間に交流が流れると、磁
束は、中央磁極143中に押し込まれる。磁束の半分
は、中央磁極を離れて外部磁極141に向かって流れ、
磁束の他の半分は、逆に外部磁極142に向かって流れ
る。中央磁極143は、外部磁極よりも高い垂直の広が
りを有し、外部磁極を越えて外部磁極の外縁へと進む磁
束を提供している。これによって、外部磁極の内表面の
磁界の強さが、中央磁極の外表面の磁界の強さにほぼ等
しくなる。
【0045】2つの外部磁極を設けることにより、レー
ス・トラック・コイルの両側が利用され、また、磁極ト
レイ幅を横切って、単純なU字形の電磁石のアンプ・タ
ーンの半分が利用されるようになる。また2つの外部磁
極の使用により、磁界の強さが、装置の近くから離れる
と急速に低下し、したがって近くの他の装置への影響が
防止される。
【0046】交流の消磁電流がゼロになったとき、支持
体149とトレイ148が持ち上げられ、次のトレイが
支持体上に置かれて、同じ工程が繰り返される。
【0047】図25は、前に例示し記述した、単一また
は複数のセルの実施例のいずれかによって実行される再
初期設定ステップを組み込んだ、ディスク駆動装置製造
工程の諸ステップを示している。まず、ディスクとヘッ
ド・アセンブリを含む構造要素を製造する。MR再生ヘ
ッドを含むヘッド・アセンブリを、既知の方法を用い
て、1つのウェハ上に製造する。ヘッドの製造後、ステ
ップ151から始めて、以下の処理によってスライダを
製造する。ステップ151で、多数のヘッド・アセンブ
リが形成されたウェハを列に切断する。ステップ152
で、例えば、エア・ベアリング面を研磨することによっ
て列を処理する。ステップ153で、列を個々に切断す
ることにより個々のスライダを製造する。各スライダ
は、MR再生ヘッドを備えるヘッド構造を有する。ステ
ップ154から始めて、ディスク駆動装置サブユニット
・アセンブリを製造する。即ち、スライダをフレキシャ
に取り付けて、ヘッド・サスペンション・アセンブリを
製造する。ステップ155で、ステップ154で製造さ
れたHSAのMR再生ヘッドを、上述の教示に従って個
々にまたはトレイ・レベルで、その磁気状態を設定す
る。次いで、ステップ156で、HSAのサスペンショ
ンを単独にまたはトレイ・レベルで消磁する。最後にス
テップ157で、HSA及び他のサブユニット・アセン
ブリをディスク駆動装置に組み込む。
【0048】本発明の最適のモード及び好ましい実施例
では、MR素子の初期設定は、ウェハ・レベルまたは列
レベルで、あるいはHSAレベルに先行する各レベルで
一度行われるので、本発明の方法及び装置を「再初期設
定」の文脈で開示した。本発明は、再初期設定に限定さ
れるものではなく、事実、上に述べた方法による初期設
定を延期して、HSAレベルで行うことができることも
企図されている。したがって、本発明は、媒体駆動装置
製造のHSAレベルでの薄膜磁気抵抗再生ヘッドの磁気
的初期設定にも適用できる。
【0049】明らかに、以上の教示に照らせば、当業者
には本発明の他の実施例及び変更例がすぐに思い付くで
あろう。したがって、本発明は、そのような実施例及び
変更例をすべて含む、頭記の特許請求の範囲によっての
み限定される。
【0050】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。
【0051】(1)磁界空間と上記磁界空間内に磁界を
誘導するための手段とを備えた磁化装置を使用して、磁
気抵抗デバイスの磁気状態を設定する方法であって、単
一の基板上に、それぞれある磁気状態を有する磁気抵抗
素子を含む、複数の薄膜磁気抵抗デバイスを形成するス
テップと、上記単一の基板を切断して、上記薄膜磁気抵
抗デバイスを複数の個々の部片に分離するステップと、
上記個々の部片を媒体駆動装置のサスペンション・アセ
ンブリ上に取り付けるステップと、少なくとも1つの上
記サスペンション・アセンブリについて、上記磁化装置
によって上記磁界空間内に誘導される磁界内に上記磁気
抵抗素子が配置されるように上記サスペンション・アセ
ンブリを上記磁化装置に対して配置することにより、上
記サスペンション・アセンブリに取り付けられた磁気抵
抗デバイスにおける磁気抵抗素子の磁気状態を設定する
ステップと、を含む方法。 (2)上記磁界空間が空隙を含み、上記設定ステップ
が、上記磁気抵抗素子が上記磁化装置の上記空隙内に位
置するように上記サスペンション・アセンブリを位置決
めするステップと、次いで、上記空隙に磁界を誘導する
ステップと、を含むことを特徴とする、上記(1)に記
載の方法。 (3)上記設定ステップがさらに、磁界が誘導された後
に、上記空隙から磁界を除去するステップと、上記サス
ペンション・アセンブリを移動させて、上記磁気抵抗素
子を上記空隙から取り出すステップと、を含むことを特
徴とする、上記(2)に記載の方法。 (4)上記磁界が、上記磁気抵抗素子の初期磁化方向に
対して第1の配向を有し、さらに、上記磁気抵抗素子の
初期磁化方向にほぼ直角の磁界方向を有する徐々に弱く
なる磁界を上記サスペンション・アセンブリに印加する
ことにより、上記サスペンション・アセンブリを消磁す
るステップを含むことを特徴とする、上記(1)に記載
の方法。 (5)上記設定ステップが、複数のサスペンション・ア
センブリの複数の磁気抵抗素子に対してほぼ同時に実行
されることを特徴とする、上記(1)に記載の方法。 (6)上記設定ステップが、上記磁気抵抗素子が上記磁
界空間内に配置されるように上記サスペンション・アセ
ンブリを配置するステップと、上記磁界空間内に上記磁
界を誘導するステップと、上記磁界空間から上記磁界を
除去し、それに続いて、上記磁界空間から上記サスペン
ション・アセンブリを取り除くステップとを含むことを
特徴とする、上記(1)に記載の方法。 (7)上記設定ステップが、複数のサスペンション・ア
センブリの複数の磁気抵抗素子に対してほぼ同時に実行
されることを特徴とする、上記(6)に記載の方法。 (8)磁気抵抗デバイスの磁気状態を磁気的に設定する
ための装置であって、磁界空隙を形成する、対向する非
磁化磁極部材と、上記非磁化磁極部材に対してスライド
可能に配置され、磁界を有する磁化部材と、上記磁化部
材に連結された、上記磁化部材を上記磁極部材間で、す
なわち、上記磁極部材が磁界を上記磁化部材から上記空
隙へと導く、上記空隙側の第1の位置と、上記磁極部材
が上記磁界を上記磁化部材から上記空隙へと導かない、
上記空隙からはなれた側の第2の位置との間で、移動さ
せる手段と、磁気抵抗デバイスを上記磁化部材の動きに
調和して、上記空隙の中へまたは外へ移動させる手段と
を含む装置。 (9)上記磁化部材が永久磁石を含むことを特徴とす
る、上記(8)に記載の装置。 (10)上記永久磁石を受け、上記永久磁石の磁界を磁
界シールドに閉じ込める磁気シールドを含む手段を、上
記第2の位置に含むことを特徴とする、上記(9)に記
載の装置。 (11)上記移動手段が、磁気抵抗(MR)変換器を動
かす手段であることを特徴とする、上記(8)に記載の
装置。 (12)上記磁気抵抗デバイスが磁気抵抗変換器である
ことを特徴とする、上記(8)に記載の装置。 (13)上記磁極部材が軟磁性材料から形成されること
を特徴とする、上記(8)に記載の装置。 (14)上記磁化部材が、450〜4500ガウスの範
囲の磁界の強さを有する永久磁石であることを特徴とす
る、上記(13)に記載の装置。 (15)さらに、上記磁化部材を受け、上記磁化部材の
磁界を磁界シールドに閉じ込める該磁界シールドを含む
手段を、上記第2の位置に含むことを特徴とする、上記
(14)に記載の装置。 (16)上記磁界シールドが軟磁性材料から形成される
ことを特徴とする、上記(15)に記載の装置。 (17)上記移動手段が、媒体駆動装置のヘッド・サス
ペンション・アセンブリ(HSA)を動かす手段である
ことを特徴とする、上記(16)に記載の装置。 (18)上記磁気抵抗デバイスが、HSAに取り付けら
れた磁気抵抗(MR)変換器であることを特徴とする、
上記(17)に記載の装置。 (19)上記磁化部材が永久磁石を含むことを特徴とす
る、上記(18)に記載の装置。 (20)磁気抵抗デバイスの磁気状態を磁気的に設定す
るための装置であって、磁化空間を形成するための第1
手段と、上記第1手段に連結された、上記磁化空間内に
磁界を生成するための第2手段と、媒体駆動装置内に磁
気抵抗デバイスを取り付けるためのサスペンション手段
と、上記磁界が上記磁気抵抗デバイス内の所定の磁化方
向にほぼ平行となるように、上記磁化空間内で、上記サ
スペンション手段に取り付けられた上記磁気抵抗デバイ
スを配向させるために、上記サスペンション手段を上記
第1手段に対して位置決めする手段と、を含む装置。 (21)さらに、初期磁化方向にほぼ直角な磁界方向を
有する徐々に弱くなる磁界を上記サスペンション手段に
印加することにより、上記サスペンション手段を消磁す
るステップを含むことを特徴とする、上記(20)に記
載の装置。 (22)上記磁界が、450〜4500ガウスの範囲の
磁界の強さを有することを特徴とする、上記(20)に
記載の装置。 (23)上記磁気抵抗デバイスが、1つまたは複数の硬
バイアス素子を有し、上記磁界が、該硬バイアス素子の
最大保磁磁界よりも大きな磁界の強さを有することを特
徴とする、上記(20)に記載の装置。 (24)上記第1手段が上記磁化空間を形成する空隙を
形成する対向する磁極部材を有し、さらに、上記空隙内
に上記磁界を誘導するために上記磁界を上記磁極部材に
結合する手段を含むことを特徴とする、上記(20)に
記載の装置。 (25)磁気抵抗デバイスを取り付けた、媒体駆動装置
のサスペンション・アセンブリを消磁するための装置で
あって、上記媒体駆動装置のサスペンション・アセンブ
リを受ける第1手段と、空隙を形成する消磁磁極部材
と、上記媒体駆動装置のサスペンション・アセンブリが
上記空隙内に配置されるように、上記第1手段を磁極片
に対して位置決めする第2手段と、消磁手段に連結され
た、上記空隙内に消磁磁界を誘導する手段とを含む装
置。
【0052】
【発明の効果】本発明の装置、及び方法によって、ヘッ
ド・サスペンション・アセンブリに組み込んだ後に磁気
抵抗素子部分を再初期設定することにより、磁気抵抗部
分の磁気状態が再び最適化され、多数の均質な薄膜磁気
抵抗再生ヘッドが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】磁気記録媒体から情報を読み取るための磁気抵
抗(MR)素子を含む回路の概略図。
【図2】ディスク駆動装置用のヘッド・サスペンション
・アセンブリ(HSA)の後端部の、MR再生ヘッドを
有するスライダが取り付けられる部分を示す等角投影
図。
【図3】図2に示したMR変換器部分の拡大概略図。
【図4】MR再生ヘッドを含むHSAへの初期設定磁界
及び消磁磁界の印加を示す図。
【図5】本発明によるHSAに取り付けられたMR再生
ヘッドの磁気状態の再初期設定を示す平面図。
【図6】初期設定磁界とHSAに取り付けられたMR再
生ヘッドとの間の相対的な動きを示す図。
【図7】初期設定磁界とHSAに取り付けられたMR再
生ヘッドとの間の相対的な動きを示す図。
【図8】本発明による初期設定磁界を印加するための装
置を示す側面図。
【図9】本発明による初期設定磁界を印加するための装
置の斜視図。
【図10】初期設定磁界を印加するための装置と、HS
Aに取り付けられたMR再生ヘッドとの初期状態を示す
図。
【図11】初期設定磁界を印加するために、装置の所定
の位置にMRヘッドを置いた過程を示す図。
【図12】装置の磁石を移動させて、MRヘッドに初期
設定磁界を印加している過程を示す図。
【図13】MRヘッドに初期設定磁界を印加した後、装
置の磁石を再び移動させて空隙内の磁界をゼロにする過
程を示す図。
【図14】初期設定磁界が印加されたMRヘッドを装置
から離す過程を示す図。
【図15】複数のHSAを保持するためのトレイを示す
上面斜視図。
【図16】本発明による多数同時再初期設定を実施する
ための第1の製造装置を示す図。
【図17】本発明による多数同時再初期設定を実施する
ための第1の製造装置を示す図。
【図18】隣接する再初期設定セルの間の磁界漏れの抑
制を示す概略図。
【図19】本発明による多数同時再初期設定を実施する
ための第2の製造装置を示す図。
【図20】本発明による多数同時再初期設定を実施する
ための第2の製造装置を示す図。
【図21】HSAの製造時に、複数のHSAに対して多
数同時再初期設定を実施するための2つの磁気回路を示
す概略図。
【図22】本発明による再初期設定を実施するための代
替装置の一例を示す概略図。
【図23】本発明による再初期設定を実施するための代
替装置のさらに他の一例を示す概略図。
【図24】再初期設定の後、HSAのサスペンションの
多数同時消磁を実施するための製造装置の斜視図。
【図25】MR再生ヘッドの磁気再初期設定ステップを
含むディスク駆動装置製造方法の流れ図。
【符号の説明】
10 MRストライプ 12 磁気記録媒体 14 リード線 15 リード線 20 HSA(ヘッド・サスペンション・アセンブリ) 21 スライダ 24 MR再生ヘッド 25 MR変換器 26 MRストライプ 27 硬バイアス磁石 28 初期磁化方向 29 硬バイアス磁石 30 消磁コイル 60 磁石 61 磁極片 62 磁極片ハウジング 63 磁気シールド 64 磁石リンク 65 空隙 66 HSA(ヘッド・サスペンション・アセンブリ) 67 HSA後端部 70 セル 80 トレイ 81 HSA(ヘッド・サスペンション・アセンブリ) 82 水平支持部材 83 垂直横架部材 84 外周部材 90 トレイ・レベルの装置 91 セル 92 平板 93 凹部(くぼみ) 94 マルチ・ストローク駆動装置 97 トレイ 98 下部リップ 110 トレイ・レベルの装置 111a 新指状部材 111b 軸支延長部材 112 セル列 113 張り出し部材 115 セル 116 シールド 117 トレイ支持フレーム 118 軸 119 トレイ 120 回路 121 磁石 122 磁石 123 戻り回路 140 基部 141 第1外部磁極 142 第2外部磁極 143 中央磁極 145 コイル 146 リード線 147 リード線 148 トレイ 149 支持体
フロントページの続き (72)発明者 ニコラス・クリストファー・アプッツォ アメリカ合衆国55904 ミネソタ州ロチ ェスター、ローガン・ストリート・サウ ス・イースト 5362 (72)発明者 ジェフリー・バーナード・ブラウン アメリカ合衆国55901 ミネソタ州ロチ ェスター、エイティーンス・アベニュ ー・ノース・ウェスト 2416 (72)発明者 アール・アルバート・カニンガム アメリカ合衆国55901 ミネソタ州ロチ ェスター、サーティーンス・アベニュ ー・ノース・ウェスト 2429 (72)発明者 デービッド・マルコム・ハノン アメリカ合衆国94301 カリフォルニア 州パロ・アルト、ウェブスター・ストリ ート 1342 (72)発明者 レイモンド・パトリック・マレット アメリカ合衆国05482 バーモント州シ ェルバーン、ファームステッド・ドライ ブ 13 (72)発明者 ポウル・シェルダン・テイラー アメリカ合衆国55901 ミネソタ州ロチ ェスター、トゥエンティナインス・スト リート・ノース・ウェスト 531 (72)発明者 スティーブン・ハリー・ヴォス アメリカ合衆国55906 ミネソタ州ロチ ェスター、セブンティフィフス・ストリ ート・ノース・イースト 2841 (72)発明者 アルバート・ジョン・ワラシュ アメリカ合衆国95037 カリフォルニア 州モーガン・ヒル、ベレイア・コート 685

Claims (25)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】磁界空間と上記磁界空間内に磁界を誘導す
    るための手段とを備えた磁化装置を使用して、磁気抵抗
    デバイスの磁気状態を設定する方法であって、 単一の基板上に、それぞれある磁気状態を有する磁気抵
    抗素子を含む、複数の薄膜磁気抵抗デバイスを形成する
    ステップと、 上記単一の基板を切断して、上記複数の薄膜磁気抵抗デ
    バイスを個々の磁気抵抗デバイスに分離するステップ
    と、 上記個々の磁気抵抗デバイスを媒体駆動装置のサスペン
    ション・アセンブリ上に取り付けるステップと、 少なくとも1つの上記サスペンション・アセンブリにつ
    いて、上記磁化装置によって上記磁界空間内に誘導され
    る磁界内に上記磁気抵抗素子が配置されるように上記サ
    スペンション・アセンブリを上記磁化装置に対して配置
    することにより、上記サスペンション・アセンブリに取
    り付けられた磁気抵抗デバイスにおける磁気抵抗素子の
    磁気状態を設定するステップと、 を含む方法。
  2. 【請求項2】上記磁界空間が空隙を含み、上記設定ステ
    ップが、 上記磁気抵抗素子が上記磁化装置の上記空隙内に位置す
    るように上記サスペンション・アセンブリを位置決めす
    るステップと、次いで、 上記空隙に磁界を誘導するステップと、 を含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】上記設定ステップがさらに、磁界が誘導さ
    れた後に、 上記空隙から磁界を除去するステップと、 上記サスペンション・アセンブリを移動させて、上記磁
    気抵抗素子を上記空隙から取り出すステップと、 を含むことを特徴とする、請求項2に記載の方法。
  4. 【請求項4】上記磁界が、上記磁気抵抗素子の初期磁化
    方向に対して第1の配向を有し、 さらに、上記磁気抵抗素子の初期磁化方向にほぼ直角の
    磁界方向を有する徐々に弱くなる磁界を上記サスペンシ
    ョン・アセンブリに印加することにより、上記サスペン
    ション・アセンブリを消磁するステップを含むことを特
    徴とする、請求項1に記載の方法。
  5. 【請求項5】上記設定ステップが、複数のサスペンショ
    ン・アセンブリの複数の磁気抵抗素子に対してほぼ同時
    に実行されることを特徴とする、請求項1に記載の方
    法。
  6. 【請求項6】上記設定ステップが、 上記磁気抵抗素子が上記磁界空間内に配置されるように
    上記サスペンション・アセンブリを配置するステップ
    と、 上記磁界空間内に上記磁界を誘導するステップと、 上記磁界空間から上記磁界を除去し、それに続いて、上
    記磁界空間から上記サスペンション・アセンブリを取り
    除くステップとを含むことを特徴とする、請求項1に記
    載の方法。
  7. 【請求項7】上記設定ステップが、複数のサスペンショ
    ン・アセンブリの複数の磁気抵抗素子に対してほぼ同時
    に実行されることを特徴とする、請求項6に記載の方
    法。
  8. 【請求項8】磁気抵抗デバイスの磁気状態を磁気的に設
    定するための装置であって、 磁界空隙を形成する、対向する非磁化磁極部材と、 上記非磁化磁極部材に対してスライド可能に配置され、
    磁界を有する磁化部材と、 上記磁化部材に連結された、上記磁化部材を上記磁極部
    材間で、すなわち、上記磁極部材が磁界を上記磁化部材
    から上記空隙へと導く、上記空隙側の第1の位置と、上
    記磁極部材が上記磁界を上記磁化部材から上記空隙へと
    導かない、上記空隙からはなれた側の第2の位置との間
    で、移動させる手段と、 磁気抵抗デバイスを上記磁化部材の動きに調和して、上
    記空隙の中へまたは外へ移動させる手段とを含む装置。
  9. 【請求項9】上記磁化部材が永久磁石を含むことを特徴
    とする、請求項8に記載の装置。
  10. 【請求項10】上記永久磁石を受け、上記永久磁石の磁
    界を磁界シールドに閉じ込める磁気シールドを含む手段
    を、上記第2の位置に含むことを特徴とする、請求項9
    に記載の装置。
  11. 【請求項11】上記移動手段が、磁気抵抗(MR)変換
    器を動かす手段であることを特徴とする、請求項8に記
    載の装置。
  12. 【請求項12】上記磁気抵抗デバイスが磁気抵抗変換器
    であることを特徴とする、請求項8に記載の装置。
  13. 【請求項13】上記磁極部材が軟磁性材料から形成され
    ることを特徴とする、請求項8に記載の装置。
  14. 【請求項14】上記磁化部材が、450〜4500ガウ
    スの範囲の磁界の強さを有する永久磁石であることを特
    徴とする、請求項13に記載の装置。
  15. 【請求項15】さらに、上記磁化部材を受け、上記磁化
    部材の磁界を磁界シールドに閉じ込める該磁界シールド
    を含む手段を、上記第2の位置に含むことを特徴とす
    る、請求項14に記載の装置。
  16. 【請求項16】上記磁界シールドが軟磁性材料から形成
    されることを特徴とする、請求項15に記載の装置。
  17. 【請求項17】上記移動手段が、媒体駆動装置のヘッド
    ・サスペンション・アセンブリ(HSA)を動かす手段
    であることを特徴とする、請求項16に記載の装置。
  18. 【請求項18】上記磁気抵抗デバイスが、HSAに取り
    付けられた磁気抵抗(MR)変換器であることを特徴と
    する、請求項17に記載の装置。
  19. 【請求項19】上記磁化部材が永久磁石を含むことを特
    徴とする、請求項18に記載の装置。
  20. 【請求項20】磁気抵抗デバイスの磁気状態を磁気的に
    設定するための装置であって、 磁化空間を形成するための第1手段と、 上記第1手段に連結された、上記磁化空間内に磁界を生
    成するための第2手段と、 媒体駆動装置内に磁気抵抗デバイスを取り付けるための
    サスペンション手段と、 上記磁界が上記磁気抵抗デバイス内の所定の磁化方向に
    ほぼ平行となるように、上記磁化空間内で、上記サスペ
    ンション手段に取り付けられた上記磁気抵抗デバイスを
    配向させるために、上記サスペンション手段を上記第1
    手段に対して位置決めする手段と、 を含む装置。
  21. 【請求項21】さらに、初期磁化方向にほぼ直角な磁界
    方向を有する徐々に弱くなる磁界を上記サスペンション
    手段に印加することにより、上記サスペンション手段を
    消磁するステップを含むことを特徴とする、請求項20
    に記載の装置。
  22. 【請求項22】上記磁界が、450〜4500ガウスの
    範囲の磁界の強さを有することを特徴とする、請求項2
    0に記載の装置。
  23. 【請求項23】上記磁気抵抗デバイスが、1つまたは複
    数の硬バイアス素子を有し、上記磁界が、該硬バイアス
    素子の最大保磁磁界よりも大きな磁界の強さを有するこ
    とを特徴とする、請求項20に記載の装置。
  24. 【請求項24】上記第1手段が上記磁化空間を形成する
    空隙を形成する対向する磁極部材を有し、 さらに、上記空隙内に上記磁界を誘導するために上記磁
    界を上記磁極部材に結合する手段を含むことを特徴とす
    る、請求項20に記載の装置。
  25. 【請求項25】磁気抵抗デバイスを取り付けた、媒体駆
    動装置のサスペンション・アセンブリを消磁するための
    装置であって、 上記媒体駆動装置のサスペンション・アセンブリを受け
    る第1手段と、 空隙を形成する消磁磁極部材と、 上記媒体駆動装置のサスペンション・アセンブリが上記
    空隙内に配置されるように、上記第1手段を磁極片に対
    して位置決めする第2手段と、 消磁手段に連結された、上記空隙内に消磁磁界を誘導す
    る手段とを含む装置。
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