JP2638806B2 - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JP2638806B2 JP2638806B2 JP62121641A JP12164187A JP2638806B2 JP 2638806 B2 JP2638806 B2 JP 2638806B2 JP 62121641 A JP62121641 A JP 62121641A JP 12164187 A JP12164187 A JP 12164187A JP 2638806 B2 JP2638806 B2 JP 2638806B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は紫外領域の光に有効な反射防止膜に関する。
従来技術 最近、紫外領域（例えば365nm）の光源を利用した投
影型露光の半導体露光装置が実用化されている。投影型
露光の半導体露光装置の解像力は光源波長に比例するた
め、光源の短波長化が図られ、193nm、248nmあるいは30
8nm等の紫外線が用いられている。
影型露光の半導体露光装置が実用化されている。投影型
露光の半導体露光装置の解像力は光源波長に比例するた
め、光源の短波長化が図られ、193nm、248nmあるいは30
8nm等の紫外線が用いられている。
しかし、上記露光装置は通常15〜20枚の多数のレンズ
から構成される照明系、縮小系を有するため、それらの
系における各レンズ面での反射によるゴースト等が像に
おいて照度むらを発生させる。係る反射を防止するため
には上記の光を吸収しない材料で反射防止膜を設けるこ
とが考えられるが、従来のカメラレンズ等に用いられる
反射防止膜はほとんどの場合紫外領域において吸収があ
り、これらの反射防止材料をそのまま流用することはで
きない。
から構成される照明系、縮小系を有するため、それらの
系における各レンズ面での反射によるゴースト等が像に
おいて照度むらを発生させる。係る反射を防止するため
には上記の光を吸収しない材料で反射防止膜を設けるこ
とが考えられるが、従来のカメラレンズ等に用いられる
反射防止膜はほとんどの場合紫外領域において吸収があ
り、これらの反射防止材料をそのまま流用することはで
きない。
一方、波長160〜230nmの真空紫外領域の光に有効な反
射防止膜が、例えば特開昭61−77001号公報、特開昭61
−77002号公報あるいは特開昭61−77003号公報に開示さ
れている。上記技術は真空紫外領域の光を透過する低屈
折率（ｎ＜1.5）物質と中間屈折率（ｎ＝1.6〜1.8）物
質を使用し、所定の厚さで３層あるいは５層に積層した
反射防止膜に関するものである。
射防止膜が、例えば特開昭61−77001号公報、特開昭61
−77002号公報あるいは特開昭61−77003号公報に開示さ
れている。上記技術は真空紫外領域の光を透過する低屈
折率（ｎ＜1.5）物質と中間屈折率（ｎ＝1.6〜1.8）物
質を使用し、所定の厚さで３層あるいは５層に積層した
反射防止膜に関するものである。
また、曲面を有するレンズの中心部と周辺部では、１
個１個単独で反射防止膜を形成する場合は別として、量
産を目的に反射防止膜を形成する場合は、レンズの曲率
半径あるいはレンズと蒸発源の距離に依存して異なった
厚さの膜が形成されるため、レンズの中心部の反射防止
有効波長域と周辺部それとは異なる。従って、有効波長
域の狭い反射防止膜の場合、レンズ全面で同一波長域に
有効な反射防止膜を１度に多数のレンズ上に設けること
は、レンズ曲率は大きくなればなるほど、また反射防止
有効波長域が狭くはればなるほど困難となる。
個１個単独で反射防止膜を形成する場合は別として、量
産を目的に反射防止膜を形成する場合は、レンズの曲率
半径あるいはレンズと蒸発源の距離に依存して異なった
厚さの膜が形成されるため、レンズの中心部の反射防止
有効波長域と周辺部それとは異なる。従って、有効波長
域の狭い反射防止膜の場合、レンズ全面で同一波長域に
有効な反射防止膜を１度に多数のレンズ上に設けること
は、レンズ曲率は大きくなればなるほど、また反射防止
有効波長域が狭くはればなるほど困難となる。
発明が解決しようとする問題点 本発明は上記のような事情に鑑みなされたものであっ
て、その目的とするところは、広範囲の紫外領域の光に
対して有効な反射防止膜を提供することを目的とする。
て、その目的とするところは、広範囲の紫外領域の光に
対して有効な反射防止膜を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 すなわち、本発明は入射媒質側から基板側へ順に、基
板よりも低い屈折率を有する低屈折率物質からなる第１
層、屈折率が1.5〜1.8の中間屈折率物質からなる第２
層、基板よりも低い屈折率を有する低屈折率物質からな
る第３層、及び屈折率が1.5〜1.8の中間屈折率物質から
なる第４層の４層構造からなり、160nm〜400nmの波長域
に対して有効な反射防止膜に関する。
板よりも低い屈折率を有する低屈折率物質からなる第１
層、屈折率が1.5〜1.8の中間屈折率物質からなる第２
層、基板よりも低い屈折率を有する低屈折率物質からな
る第３層、及び屈折率が1.5〜1.8の中間屈折率物質から
なる第４層の４層構造からなり、160nm〜400nmの波長域
に対して有効な反射防止膜に関する。
本発明の反射防止膜は160〜400nmの広範囲の紫外領域
の光に対して有効に機能する。
の光に対して有効に機能する。
本発明の反射防止膜は第１図に示したように、入射媒
質側から、基板（５）より小さい屈折率を有する低屈折
率物質（以下単に低屈折率物質という）からなる膜を第
１層（１）、基板より大きい屈折率を有する中間屈折率
物質（以下単に中間屈折率物質という）からなる膜を第
２層（２）、低屈折率物質からなる膜を第３層（３）、
中間屈折率物質からなる膜を第４層（４）としてレンズ
基板（５）上に形成した構成である。
質側から、基板（５）より小さい屈折率を有する低屈折
率物質（以下単に低屈折率物質という）からなる膜を第
１層（１）、基板より大きい屈折率を有する中間屈折率
物質（以下単に中間屈折率物質という）からなる膜を第
２層（２）、低屈折率物質からなる膜を第３層（３）、
中間屈折率物質からなる膜を第４層（４）としてレンズ
基板（５）上に形成した構成である。
本発明に使用できるレンズ基板（５）としては、屈折
率1.47〜1.60からなる物質、具体的にはSiO2、CaF2、BK
−７等から構成されるものを使用することができる。
率1.47〜1.60からなる物質、具体的にはSiO2、CaF2、BK
−７等から構成されるものを使用することができる。
低屈折率物質としては屈折率が1.6以下の物質、例え
ばMgF2、CaF2あるいはSiO2等を使用することができ、特
にMgF2が好ましい。
ばMgF2、CaF2あるいはSiO2等を使用することができ、特
にMgF2が好ましい。
中間屈折率物質としては屈折率が1.5と1.8の間の値を
有する物質、例えばLaF3、NdF3、SiO2、Al2O3、MgO、Y2
O3等を使用することができ、特にLaF3、Al2O3が好まし
い。
有する物質、例えばLaF3、NdF3、SiO2、Al2O3、MgO、Y2
O3等を使用することができ、特にLaF3、Al2O3が好まし
い。
本発明において、レンズ基板の種類にもよるが低屈折
率物質としてMgF2、中間屈折率物質としてLaF3もしくは
Al2O3を組み合わせて使用するのが好ましい。
率物質としてMgF2、中間屈折率物質としてLaF3もしくは
Al2O3を組み合わせて使用するのが好ましい。
またSiO2は低屈折率物質および中間屈折率物質の両方
に有効であるが、本発明の効果を得るためには低屈折率
物質として中間屈折率物質として両方にSiO2を使用する
ことはできない。
に有効であるが、本発明の効果を得るためには低屈折率
物質として中間屈折率物質として両方にSiO2を使用する
ことはできない。
基板上の第４層は基板が構成される物質と異なる中間
屈折率物質を、厚さ約0.50λ０（λ０は設計主波長）に
形成する。本発明においては第４層の厚さは±0.05λ０
の範囲の誤差であれば許容できる。その誤差が±0.05λ
０より大きくなると反射防止効果が劣化する。
屈折率物質を、厚さ約0.50λ０（λ０は設計主波長）に
形成する。本発明においては第４層の厚さは±0.05λ０
の範囲の誤差であれば許容できる。その誤差が±0.05λ
０より大きくなると反射防止効果が劣化する。
第３層は第４層上に、厚さ約0.50λ０の低屈折率物質
によって形成される。その厚さは0.05λ０の範囲の誤差
であれば許容できる。その誤差が±0.05λ０より大きく
なると反射防止効果が劣化する。
によって形成される。その厚さは0.05λ０の範囲の誤差
であれば許容できる。その誤差が±0.05λ０より大きく
なると反射防止効果が劣化する。
第３層形成のための低屈折率物質は基板と同一物質を
使用することは可能である。
使用することは可能である。
第２層は第３層上に、厚さ約0.25λ０の中間屈折率物
質によって形成される。その膜層は±0.05λ０の範囲の
誤差であれば許容できる。その誤差が±0.05λ０より大
きくなると反射防止効果が劣化する。
質によって形成される。その膜層は±0.05λ０の範囲の
誤差であれば許容できる。その誤差が±0.05λ０より大
きくなると反射防止効果が劣化する。
第２層形成のための中間屈折率物質は第４層形成に使
用した中間屈折率物質と同じ物質あるいは異なる物質の
いずれも使用可能であるが、材料の種類をなるべく少な
くして製造面で扱いやすくするため等の理由により第４
層と同一の物質を使用するこのが好ましい。
用した中間屈折率物質と同じ物質あるいは異なる物質の
いずれも使用可能であるが、材料の種類をなるべく少な
くして製造面で扱いやすくするため等の理由により第４
層と同一の物質を使用するこのが好ましい。
第１層は第２層上に、低屈折率物質から厚さ約0.25λ
０に形成される。その膜厚は±0.05λ０の範囲の誤差で
あれば許容できる。その誤差が±0.05λ０より大きくな
ると反射防止効果が劣化する。
０に形成される。その膜厚は±0.05λ０の範囲の誤差で
あれば許容できる。その誤差が±0.05λ０より大きくな
ると反射防止効果が劣化する。
第１層形成のための低屈折率物質は第３層形成に使用
した低屈折率物質と同じ物質あるいは異なる物質のいず
れも使用可能であるが、材料の種類をなるべく少なくし
て製造面で扱いやすくする等の理由により第３層と同一
の物質を用いることが好ましい。
した低屈折率物質と同じ物質あるいは異なる物質のいず
れも使用可能であるが、材料の種類をなるべく少なくし
て製造面で扱いやすくする等の理由により第３層と同一
の物質を用いることが好ましい。
第１層から第４層の製造方法としては、公知の方法、
例えばイオンプレーティング法、スパッタリング法等の
真空蒸着法を使用することができる。
例えばイオンプレーティング法、スパッタリング法等の
真空蒸着法を使用することができる。
真空蒸着法で反射防止膜を形成する場合、蒸着源はレ
ンズから十分距離をおいて設置するのが好ましく、その
場合、曲面を有するレンズは、レンズ中心部と周辺部で
は、レンズ中心部でのコート膜厚（d1）とレンズ周辺部
でのコート膜厚（d2）がd2≒d1cosθ２（θ２はレンズ
周辺上での中心軸とコート膜上の法線のなす角度）の関
係で、膜が形成されるため、周辺部の方が薄い膜が形成
される。そのため、レンズ中心部と周辺部では反射防止
に有効な波長域が異なってくる。しかし、本発明の反射
防止膜は本質的に広範囲の波長域の紫外線に対して有効
であるため、中心部と周辺部において反射防止に有効な
波長域に重なりが生じる。従って、レンズ全面の反射防
止に有効な波長域が結果として狭くなるが、反射防止膜
はその狭くなった波長域で、あるいはその範囲の特定の
波長域で有効に利用することができる。この利点は特
に、本発明の反射防止膜を、レンズ曲率の大きいレンズ
上に形成する時、あるいは工業的に量産する時に有効で
ある。
ンズから十分距離をおいて設置するのが好ましく、その
場合、曲面を有するレンズは、レンズ中心部と周辺部で
は、レンズ中心部でのコート膜厚（d1）とレンズ周辺部
でのコート膜厚（d2）がd2≒d1cosθ２（θ２はレンズ
周辺上での中心軸とコート膜上の法線のなす角度）の関
係で、膜が形成されるため、周辺部の方が薄い膜が形成
される。そのため、レンズ中心部と周辺部では反射防止
に有効な波長域が異なってくる。しかし、本発明の反射
防止膜は本質的に広範囲の波長域の紫外線に対して有効
であるため、中心部と周辺部において反射防止に有効な
波長域に重なりが生じる。従って、レンズ全面の反射防
止に有効な波長域が結果として狭くなるが、反射防止膜
はその狭くなった波長域で、あるいはその範囲の特定の
波長域で有効に利用することができる。この利点は特
に、本発明の反射防止膜を、レンズ曲率の大きいレンズ
上に形成する時、あるいは工業的に量産する時に有効で
ある。
実施例 レンズ基板上に、表１から表８に示した膜構成の反射
防止膜を作製した。
防止膜を作製した。
得られたレンズの反射防止特性を第２図〜第９図に示
した。
した。
以上の間うにして得られた膜構成１〜８の反射防止膜
を有するレンズの反射防止特性を第２図〜第９図に示し
た。
を有するレンズの反射防止特性を第２図〜第９図に示し
た。
本発明の反射防止膜は、例えば第２図から明らかなよ
うに波長210〜340nmの広範囲の波長域で反射率１％以下
に押さえることができた。
うに波長210〜340nmの広範囲の波長域で反射率１％以下
に押さえることができた。
発明の効果 本発明の反射防止膜は広範囲の紫外線波長領域におい
て有効である。
て有効である。
本発明の反射防止膜を特定の波長あるいは狭い波長域
で用いる場合は、本発明の反射防止膜を、レンズ曲率の
大きいレンズに形成するとき、あるいは工業的に量産す
るとき等に製造的な有利さが得られる。
で用いる場合は、本発明の反射防止膜を、レンズ曲率の
大きいレンズに形成するとき、あるいは工業的に量産す
るとき等に製造的な有利さが得られる。
第１図は本発明の反射防止膜の構成例を示す模式的断面
図である。 第２図から第９図は反射防止特性を示す図である。 １……第１層、２……第２層 ３……第３層、４……第４層 ５……レンズ基板
図である。 第２図から第９図は反射防止特性を示す図である。 １……第１層、２……第２層 ３……第３層、４……第４層 ５……レンズ基板
Claims (1)
- 【請求項１】入射媒質側から基板側へ順に、基板よりも
低い屈折率を有する低屈折率物質からなる第１層、基板
よりも高い屈折率を有する中間屈折率物質からなる第２
層、基板よりも低い屈折率を有する低屈折率物質からな
る第３層、及び基板よりも高い屈折率を有する中間屈折
率物質からなる第４層の４層構造からなる反射防止膜で
あって、基板は160nm〜400nmの波長域に対する屈折率が
1.47以上1.60以下の範囲にあり、低屈折率物質は前記波
長域に対する屈折率が1.60以下の範囲にあり、中間屈折
率物質は前記波長域に対する屈折率が1.50以上1.80以下
の範囲にあり、第１層及び第２層が設計主波長（λ０）
に対してそれぞれ約0.25λ０の光学的膜厚を有し、第３
層及び第４層が設計主波長（λ０）に対してそれぞれ約
0.50λ０の光学的膜厚を有する反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62121641A JP2638806B2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62121641A JP2638806B2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63285501A JPS63285501A (ja) | 1988-11-22 |
| JP2638806B2 true JP2638806B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=14816283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62121641A Expired - Fee Related JP2638806B2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2638806B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3924806B2 (ja) * | 1996-06-10 | 2007-06-06 | 株式会社ニコン | 反射防止膜 |
| JP3624082B2 (ja) * | 1997-11-13 | 2005-02-23 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜及びその製造方法 |
| JP4562157B2 (ja) * | 2000-11-16 | 2010-10-13 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜および光学素子 |
| DE10064143A1 (de) | 2000-12-15 | 2002-06-20 | Zeiss Carl | Reflexionsminderungsbeschichtung für Ultraviolettlicht bei großen Einfallswinkeln |
| JP3639822B2 (ja) * | 2002-07-12 | 2005-04-20 | 株式会社トプコン | 赤外反射防止膜 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07107563B2 (ja) * | 1986-10-31 | 1995-11-15 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜 |
-
1987
- 1987-05-18 JP JP62121641A patent/JP2638806B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63285501A (ja) | 1988-11-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |