JP2635107B2 - 室温硬化性組成物 - Google Patents
室温硬化性組成物Info
- Publication number
- JP2635107B2 JP2635107B2 JP63164391A JP16439188A JP2635107B2 JP 2635107 B2 JP2635107 B2 JP 2635107B2 JP 63164391 A JP63164391 A JP 63164391A JP 16439188 A JP16439188 A JP 16439188A JP 2635107 B2 JP2635107 B2 JP 2635107B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- parts
- room temperature
- curable composition
- substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/452—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences
- C08G77/455—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences containing polyamide, polyesteramide or polyimide sequences
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S528/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S528/901—Room temperature curable silicon-containing polymer
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、新規なシロキサン−アミドブロックコポリ
マーを含有して成る室温硬化性組成物に関し、更に詳し
くは耐油性に優れると共に高い機械的強度を与える室温
硬化性組成物に関する。
マーを含有して成る室温硬化性組成物に関し、更に詳し
くは耐油性に優れると共に高い機械的強度を与える室温
硬化性組成物に関する。
周知の様に、シリコーンポリマーは、他の有機系ポリ
マーとは非常に異なり、独特な特徴をもっている。例え
ばゴムの場合、高温下でも長期間にわたってゴム弾性を
維持することが可能であり、また−70℃の低温中に曝さ
れてもゴム弾性を失わず、加えて温度によるゴム物性の
変化が小さいことである。また電気特性も広範囲にわた
る温度領域で安定した値を示し、耐アーク性の耐コロナ
性等、耐候性に優れており、長期間屋外曝露したり、紫
外線照射したり、オゾン雰囲気下に曝されても、ゴム物
性に劣化が見られない。以上の様にゴム弾性材料として
優れた特性をもったシリコーンポリマーは、あらゆる工
業分野に浸透し、欠くことの出来ない材料として評価さ
れるようになった。
マーとは非常に異なり、独特な特徴をもっている。例え
ばゴムの場合、高温下でも長期間にわたってゴム弾性を
維持することが可能であり、また−70℃の低温中に曝さ
れてもゴム弾性を失わず、加えて温度によるゴム物性の
変化が小さいことである。また電気特性も広範囲にわた
る温度領域で安定した値を示し、耐アーク性の耐コロナ
性等、耐候性に優れており、長期間屋外曝露したり、紫
外線照射したり、オゾン雰囲気下に曝されても、ゴム物
性に劣化が見られない。以上の様にゴム弾性材料として
優れた特性をもったシリコーンポリマーは、あらゆる工
業分野に浸透し、欠くことの出来ない材料として評価さ
れるようになった。
しかしながら、シリコーンポリマーは強度的に他の有
機系ポリマーと較べても劣る。たとえば室温硬化性シリ
コーンゴム組成物としてビルディングの外壁等にも使わ
れているが、弱いゴム強度のために構造材料としては用
い難く、専らシール材として用いられている。このよう
にシリコーンゴムはその強度が弱いことから汎用樹脂や
エンジニアリングプラスチックとしての性格は持ち合わ
せておらず、その使用はもっぱら特殊な用途に限定され
てしまうという欠点がある。
機系ポリマーと較べても劣る。たとえば室温硬化性シリ
コーンゴム組成物としてビルディングの外壁等にも使わ
れているが、弱いゴム強度のために構造材料としては用
い難く、専らシール材として用いられている。このよう
にシリコーンゴムはその強度が弱いことから汎用樹脂や
エンジニアリングプラスチックとしての性格は持ち合わ
せておらず、その使用はもっぱら特殊な用途に限定され
てしまうという欠点がある。
また、室温硬化性シリコーンゴム組成物は、その現場
成形性から、自動車のエンジンの周辺シール用に、不定
型ガスケットとして用いられており、在庫管理や作業
性、またシール性や耐熱性の面でも好評を得ている。し
かしながら、その耐油性は十分なものでなく、最近の添
加剤を多量に含むギヤオイル等に対しては、オイル洩れ
が起こり問題化している。
成形性から、自動車のエンジンの周辺シール用に、不定
型ガスケットとして用いられており、在庫管理や作業
性、またシール性や耐熱性の面でも好評を得ている。し
かしながら、その耐油性は十分なものでなく、最近の添
加剤を多量に含むギヤオイル等に対しては、オイル洩れ
が起こり問題化している。
シリコーンゴムのこれらの欠点に対して、特開昭59−
80463号公報では、耐油性の改善についてのみ検討され
ており、また特開昭60−219284号公報では、耐油性の改
善と共に低弾性率化について検討がなされているが、高
強度化については不十分であった。
80463号公報では、耐油性の改善についてのみ検討され
ており、また特開昭60−219284号公報では、耐油性の改
善と共に低弾性率化について検討がなされているが、高
強度化については不十分であった。
本発明の目的は、室温硬化性シリコーン組成物が持つ
上記の欠点を解消し、耐油性に優れ、しかも高い機械的
強度を与える室温硬化性組成物を提供することである。
上記の欠点を解消し、耐油性に優れ、しかも高い機械的
強度を与える室温硬化性組成物を提供することである。
本発明者らは、以上の目的を達成すべく鋭意検討した
結果、室温硬化性組成物のベースポリマーに一般式
（１）で表わされるシロキサン−アミドブロックコポリ
マーを用いると、優れた耐油性と高い機械的物性を示す
室温硬化性組成物が得られることを見出し、本発明をな
すに到った。
結果、室温硬化性組成物のベースポリマーに一般式
（１）で表わされるシロキサン−アミドブロックコポリ
マーを用いると、優れた耐油性と高い機械的物性を示す
室温硬化性組成物が得られることを見出し、本発明をな
すに到った。
即ち本発明は、 （ａ） 一般式（１）で表わされるシロキサン−アミド
ブロックコポリマー 100重量部 （式中、Ｙは−SiR5 aX3-aで示される加水分解性基含有
オルガノシリル基、R5はR3と同様の１価の基、Ｘはケイ
素原子に結合した加水分解性基または水酸基、R1は および から成る群より選ばれた２価の基、R2は置換または非置
換の２価の炭化水素基、R3,R5はそれぞれ互いに同一ま
たは相異なる置換または非置換の１価の炭化水素基、R4
は置換または非置換の２価の芳香族炭化水素基、R6は水
素原子、R3と同様の１価の基または−SiR8 bX3-bで示さ
れるオルガノシリル基、R7は炭素原子数１〜８個からな
り、その内部に酸素または硫黄原子を含むエーテル結合
を含有していてもよい置換または非置換の２価の炭化水
素基、R8はR3と同様の１価の基、ａは0,1,2の整数、ｂ
は0,1,2,3の整数、m,nはそれぞれ１以上の数） （ｂ） 架橋剤 ０〜25重量部 および （ｃ） 硬化触媒 0.01〜３重量部 から成ることを特徴とする室温硬化性組成物に関する。
ブロックコポリマー 100重量部 （式中、Ｙは−SiR5 aX3-aで示される加水分解性基含有
オルガノシリル基、R5はR3と同様の１価の基、Ｘはケイ
素原子に結合した加水分解性基または水酸基、R1は および から成る群より選ばれた２価の基、R2は置換または非置
換の２価の炭化水素基、R3,R5はそれぞれ互いに同一ま
たは相異なる置換または非置換の１価の炭化水素基、R4
は置換または非置換の２価の芳香族炭化水素基、R6は水
素原子、R3と同様の１価の基または−SiR8 bX3-bで示さ
れるオルガノシリル基、R7は炭素原子数１〜８個からな
り、その内部に酸素または硫黄原子を含むエーテル結合
を含有していてもよい置換または非置換の２価の炭化水
素基、R8はR3と同様の１価の基、ａは0,1,2の整数、ｂ
は0,1,2,3の整数、m,nはそれぞれ１以上の数） （ｂ） 架橋剤 ０〜25重量部 および （ｃ） 硬化触媒 0.01〜３重量部 から成ることを特徴とする室温硬化性組成物に関する。
本発明の（ａ）成分である一般式（１）で表わされる
シロキサン−アミドブロックコポリマーは、例えば一般
式（２）で表わされるジアミノシロキサンと一般式
（３）で表わされるジカルボン酸ジハライド並びに一般
式（４）で表わされるエポキシシランとから製造され
る。
シロキサン−アミドブロックコポリマーは、例えば一般
式（２）で表わされるジアミノシロキサンと一般式
（３）で表わされるジカルボン酸ジハライド並びに一般
式（４）で表わされるエポキシシランとから製造され
る。
一般式（２） （式中、R2は置換または非置換の２価の炭化水素基、R3
は置換または非置換の１価の炭化水素基、ｍは１以上の
数） 一般式（３） （式中、R4は置換又は非置換の２価の芳香族炭化水素
基、Ｚはハロゲン原子） 一般式（４） R9−SiR5 aX3-a （４） （式中、R5は置換または非置換の１価の炭化水素基、R9
は で示されるエポキシ基含有有機基、R7は炭素原子数１〜
８個からなり、その内部に酸素または硫黄原子を含むエ
ーテル結合を含有してもよい置換または非置換の２価の
炭化水素基、Ｘはケイ素原子に結合した加水分解性基ま
たは水酸基、ａは0,1,2の整数） ここで、一般式（２）で表わされるジアミノシロキサ
ン中のR2は置換または非置換の２価の炭化水素基であ
り、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレ
ン基、フェニレン基、トリレン基、ジメチルフェニレン
基などが例示される。またR3は置換または非置換の１価
の炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、フェニル基、
トリル基、キシリル基、ハロフェニル基、ハロトリル
基、シアノエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基
などが例示される。又、ｍは１以上の数であり、斯かる
ジアミノシロキサンとしては例えば などであり、これらの１種類または２種類以上が用いら
れる。
は置換または非置換の１価の炭化水素基、ｍは１以上の
数） 一般式（３） （式中、R4は置換又は非置換の２価の芳香族炭化水素
基、Ｚはハロゲン原子） 一般式（４） R9−SiR5 aX3-a （４） （式中、R5は置換または非置換の１価の炭化水素基、R9
は で示されるエポキシ基含有有機基、R7は炭素原子数１〜
８個からなり、その内部に酸素または硫黄原子を含むエ
ーテル結合を含有してもよい置換または非置換の２価の
炭化水素基、Ｘはケイ素原子に結合した加水分解性基ま
たは水酸基、ａは0,1,2の整数） ここで、一般式（２）で表わされるジアミノシロキサ
ン中のR2は置換または非置換の２価の炭化水素基であ
り、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレ
ン基、フェニレン基、トリレン基、ジメチルフェニレン
基などが例示される。またR3は置換または非置換の１価
の炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、フェニル基、
トリル基、キシリル基、ハロフェニル基、ハロトリル
基、シアノエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基
などが例示される。又、ｍは１以上の数であり、斯かる
ジアミノシロキサンとしては例えば などであり、これらの１種類または２種類以上が用いら
れる。
さらに、一般式（３）表されたジカルボン酸ジハライ
ド中の置換または非置換の２価の芳香族炭化水素基であ
るR4としては、フェニレン基、トリレン基、ジメチルフ
ェニレン基、ハロゲン化フェニレン基、ナフタレン基、
ジフェニルエーテル基、ジフェニルメタン基、ジフェニ
ルスルホン基、ジフェニルスルフィド基などが例示さ
れ、またＺに含まれる基には塩素、フッ素、臭素などの
ハロゲン原子が例示される。斯かるジカルボン酸ジハラ
イドとしては、テレフタル酸、イソフタル酸、1,4−ナ
フタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン
酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4′−ジフェニル
メタンジカルボン酸、3,3′−ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸、4,4′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、
3,3′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4′−ジフ
ェニルメタンジカルボン酸、3,3′−ジフェニルメタン
ジカルボン酸、4,4′−ジフェニルスルフィドジカルボ
ン酸、3,3′−ジフェニルスルフィドジカルボン酸など
のジクロライド、ジフルオライドおよびジブロマイドが
例示され、これらの１種類または混合物が用いられる。
ド中の置換または非置換の２価の芳香族炭化水素基であ
るR4としては、フェニレン基、トリレン基、ジメチルフ
ェニレン基、ハロゲン化フェニレン基、ナフタレン基、
ジフェニルエーテル基、ジフェニルメタン基、ジフェニ
ルスルホン基、ジフェニルスルフィド基などが例示さ
れ、またＺに含まれる基には塩素、フッ素、臭素などの
ハロゲン原子が例示される。斯かるジカルボン酸ジハラ
イドとしては、テレフタル酸、イソフタル酸、1,4−ナ
フタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン
酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4′−ジフェニル
メタンジカルボン酸、3,3′−ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸、4,4′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、
3,3′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4′−ジフ
ェニルメタンジカルボン酸、3,3′−ジフェニルメタン
ジカルボン酸、4,4′−ジフェニルスルフィドジカルボ
ン酸、3,3′−ジフェニルスルフィドジカルボン酸など
のジクロライド、ジフルオライドおよびジブロマイドが
例示され、これらの１種類または混合物が用いられる。
そして、一般式（４）で表されたエポキシシラン中の
R9としては、γ−グリシドキシプロピル基、β−（3,4
−エポキシシクロヘキシル）エチル基などが例示され、
またR5としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、ハロフェニ
ル基などが例示される。さらにＸはケイ素原子に結合し
た加水分解性基または水酸基であり、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、β−メトキシエトキシ基、イソ
プロペニルオキシ基、ジエチルアミノキシ基、アセトキ
シ基などが例示される。
R9としては、γ−グリシドキシプロピル基、β−（3,4
−エポキシシクロヘキシル）エチル基などが例示され、
またR5としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、ハロフェニ
ル基などが例示される。さらにＸはケイ素原子に結合し
た加水分解性基または水酸基であり、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、β−メトキシエトキシ基、イソ
プロペニルオキシ基、ジエチルアミノキシ基、アセトキ
シ基などが例示される。
斯かるエポキシシランとしては、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
メチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジ
メチルエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
ス（メチルエチルケトオキシム）シラン、γ−グリシド
キシプロピルトリアセトキシシラン、β−（3,4−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−
（3,4−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメト
キシシラン、β−（3,4−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラン、β−
（3,4−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアセトキ
シシランなどを例示することができる。
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
メチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジ
メチルエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
ス（メチルエチルケトオキシム）シラン、γ−グリシド
キシプロピルトリアセトキシシラン、β−（3,4−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−
（3,4−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメト
キシシラン、β−（3,4−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラン、β−
（3,4−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアセトキ
シシランなどを例示することができる。
上記一般式（１）で表わされるシロキサン−アミドブ
ロックコポリマーの製造においては、一般式（２）で表
わされるジアミノシロキサンと一般式（３）で表わされ
るジカルボン酸ジハライドとを重縮合反応させ、反応終
了後水洗、乾燥して得られた重合物に、一般式（４）で
示されるエポキシシランを添加し、重合物両末端のアミ
ノ基とエポキシシラン中のエポキシ基との間で開環付加
反応させることで行われる。
ロックコポリマーの製造においては、一般式（２）で表
わされるジアミノシロキサンと一般式（３）で表わされ
るジカルボン酸ジハライドとを重縮合反応させ、反応終
了後水洗、乾燥して得られた重合物に、一般式（４）で
示されるエポキシシランを添加し、重合物両末端のアミ
ノ基とエポキシシラン中のエポキシ基との間で開環付加
反応させることで行われる。
ここで、ジアミノシロキサンとジカルボン酸ジハライ
ドとの仕込量比は、後のエポキシシラン添加による反応
を行うためには、それぞれ等モル量ではなく、前者の方
が若干過剰であることが必要である。具体的には、ジカ
ルボン酸ジハライド１モル当たり1.005〜2.0モルのジア
ミノシロキサンを仕込み、反応させる。さらに好ましく
は1.01〜1.5モルの範囲内である。ジアミノシロキサン
の仕込量が1.005モル未満では、得られたコポリマーの
両末端が必ずしもアミノ基になるとは限らず、また逆に
2.0モルを越えると、コポリマーの物性が良好になる分
子量迄生長することが困難になるためである。
ドとの仕込量比は、後のエポキシシラン添加による反応
を行うためには、それぞれ等モル量ではなく、前者の方
が若干過剰であることが必要である。具体的には、ジカ
ルボン酸ジハライド１モル当たり1.005〜2.0モルのジア
ミノシロキサンを仕込み、反応させる。さらに好ましく
は1.01〜1.5モルの範囲内である。ジアミノシロキサン
の仕込量が1.005モル未満では、得られたコポリマーの
両末端が必ずしもアミノ基になるとは限らず、また逆に
2.0モルを越えると、コポリマーの物性が良好になる分
子量迄生長することが困難になるためである。
また、エポキシシラン中のエポキシ基の開環付加反応
によって該シロキサン−アミドブロックコポリマー量末
端付近に側鎖として水酸基が生成するが、この水酸基の
修飾は以下に示されたシリル化剤などによって必要に応
じて行うことができる。
によって該シロキサン−アミドブロックコポリマー量末
端付近に側鎖として水酸基が生成するが、この水酸基の
修飾は以下に示されたシリル化剤などによって必要に応
じて行うことができる。
〔（CH3）3Si〕2NH,（CH3）3SiN（C2H5）2, （CH3）3SiCl, 〔（CH3）3SiNH〕2C＝0, 本発明において、得られるシロキサン−アミドブロッ
クコポリマーは、ジアミノシロキサンの種類およびシロ
キサン単位の長さ、並びにジカルボン酸ジハライド、エ
ポキシシランの種類またはこれらの仕込量比などによっ
てその性質に幅広いバリエーションを持たせることがで
きる。
クコポリマーは、ジアミノシロキサンの種類およびシロ
キサン単位の長さ、並びにジカルボン酸ジハライド、エ
ポキシシランの種類またはこれらの仕込量比などによっ
てその性質に幅広いバリエーションを持たせることがで
きる。
しかしながら、得られるシロキサン−アミドブロック
コポリマーは、加工性に優れると共にポリアミドの特性
である優れた機械的性質や耐熱性などの特性を充分に備
えることが望ましい。
コポリマーは、加工性に優れると共にポリアミドの特性
である優れた機械的性質や耐熱性などの特性を充分に備
えることが望ましい。
反応条件について、さらに詳細に述べるならば、重縮
合温度は10℃〜100℃の範囲であり、反応を容易にする
ために無機溶媒または有機溶媒、および塩基触媒を使用
することが好ましい。無機溶媒としては、水酸化ナトリ
ウム、炭酸ナトリウムなどの水溶液が例示され、また有
機溶媒としてはトルエン、キシレン、クロルベンゼン、
ジクロルベンゼン、ヘキサン、オクタン、ジエチルケト
ン、ジブチルケトン、シクロヘキサノン、クロロホル
ム、1,2−ジクロルエタン、1,1,2,2−テトラクロルエタ
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどが例示され、
これらの１種類または混合物が用いられる。又、塩基触
媒としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルメチル
アミンなどが例示される。
合温度は10℃〜100℃の範囲であり、反応を容易にする
ために無機溶媒または有機溶媒、および塩基触媒を使用
することが好ましい。無機溶媒としては、水酸化ナトリ
ウム、炭酸ナトリウムなどの水溶液が例示され、また有
機溶媒としてはトルエン、キシレン、クロルベンゼン、
ジクロルベンゼン、ヘキサン、オクタン、ジエチルケト
ン、ジブチルケトン、シクロヘキサノン、クロロホル
ム、1,2−ジクロルエタン、1,1,2,2−テトラクロルエタ
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどが例示され、
これらの１種類または混合物が用いられる。又、塩基触
媒としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルメチル
アミンなどが例示される。
また、重合物両末端のアミノ基へのエポキシシランの
開環付加反応温度は50℃〜120℃の範囲が好ましい。
開環付加反応温度は50℃〜120℃の範囲が好ましい。
本発明の（ｂ）成分は、（ａ）成分を架橋させて網状
構造を与える架橋剤であり、通常の室温硬化性シリコー
ンゴム組成物の架橋剤として公知のものである。
構造を与える架橋剤であり、通常の室温硬化性シリコー
ンゴム組成物の架橋剤として公知のものである。
これは一般式R9 dSiZ4-d（式中、R9は１価の炭化水素
基、Ｚは加水分解性基、ｄは０〜２の整数を示す）で表
されるシランまたはその部分加水分解縮合物である。R9
としては（ａ）成分中の有機基R3として例示したものと
同じもの、および などで示されるイミノアルキル基などが挙げられる。Ｚ
で示される加水分解性基は、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基などのアルコキシ基；イソプロペニル基、
１−エチル−２−メチルビニルオキシ基などのアルケニ
ルオキシ基、ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケ
トオキシム基、ジエチルケトオキシム基などのケトオキ
シム基；アセトキシ基、オクタノイルオキシ基、ベンゾ
イルオキシ基などのアシロキシ基；ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロヘキシルア
ミノ基などのアミノ基；ジメチルアミノキシ基、ジエチ
ルアミノキシ基などのアミノキシ基;N−メチルアセトア
ミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズ
アミド基などのアミド基などが例示される。具体的に
は、エチルシリケート、プロピルシリケート、メチルト
リメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、メチ
ルトリス（メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリス
（メトキシエトキシ）シラン、メチルトリプロペノキシ
シラン、メチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、メチルトリ（アセトンオキシム）シラ
ン、ビニルトリ（アセトンオキシム）シラン、メチルト
リ（メチルエチルケトキシム）シンラン、ビニルトリ
（メチルエチルケトキシム）シラン、およびその部分加
水分解物が例示される。また、ヘキサメチル−ビス（ジ
エチルアミノキシ）シクロテトラシロキサン、テトラメ
チルジブチル−ビス（ジエチルアミノキシ）シクロテト
ラシロキサン、ヘプタメチル（ジエチルアミノキシ）シ
クロテトラシロキサン、ペンタメチル−トリス（ジエチ
ルアミノキシ）シクロテトラシロキサン、ヘキサメチル
−ビス（メチルエチルアミノキシ）シクロテトラシロキ
サン、テトラメチル−ビス（ジエチルアミノキシ）−モ
ノ（メチルエチルアミノキシ）シクロテトラシロキサン
のような環状シロキサンなどが例示される。これらを使
用する際には、１種類に限定される必要はなく、２種類
以上の併用も可能である。
基、Ｚは加水分解性基、ｄは０〜２の整数を示す）で表
されるシランまたはその部分加水分解縮合物である。R9
としては（ａ）成分中の有機基R3として例示したものと
同じもの、および などで示されるイミノアルキル基などが挙げられる。Ｚ
で示される加水分解性基は、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基などのアルコキシ基；イソプロペニル基、
１−エチル−２−メチルビニルオキシ基などのアルケニ
ルオキシ基、ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケ
トオキシム基、ジエチルケトオキシム基などのケトオキ
シム基；アセトキシ基、オクタノイルオキシ基、ベンゾ
イルオキシ基などのアシロキシ基；ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロヘキシルア
ミノ基などのアミノ基；ジメチルアミノキシ基、ジエチ
ルアミノキシ基などのアミノキシ基;N−メチルアセトア
ミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズ
アミド基などのアミド基などが例示される。具体的に
は、エチルシリケート、プロピルシリケート、メチルト
リメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、メチ
ルトリス（メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリス
（メトキシエトキシ）シラン、メチルトリプロペノキシ
シラン、メチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、メチルトリ（アセトンオキシム）シラ
ン、ビニルトリ（アセトンオキシム）シラン、メチルト
リ（メチルエチルケトキシム）シンラン、ビニルトリ
（メチルエチルケトキシム）シラン、およびその部分加
水分解物が例示される。また、ヘキサメチル−ビス（ジ
エチルアミノキシ）シクロテトラシロキサン、テトラメ
チルジブチル−ビス（ジエチルアミノキシ）シクロテト
ラシロキサン、ヘプタメチル（ジエチルアミノキシ）シ
クロテトラシロキサン、ペンタメチル−トリス（ジエチ
ルアミノキシ）シクロテトラシロキサン、ヘキサメチル
−ビス（メチルエチルアミノキシ）シクロテトラシロキ
サン、テトラメチル−ビス（ジエチルアミノキシ）−モ
ノ（メチルエチルアミノキシ）シクロテトラシロキサン
のような環状シロキサンなどが例示される。これらを使
用する際には、１種類に限定される必要はなく、２種類
以上の併用も可能である。
この（ｂ）成分の添加量は、（ａ）成分100重量部に
対して０〜25重量部の範囲が適当である。（ａ）成分そ
れ自体が架橋性をもつコポリマーである場合には（ｂ）
成分は必須ではないが、１包装型にする場合には保存安
定性の面から、ある程度添加する方が好ましい。25重量
部を越えると、（ｂ）成分が遊離して硬化時に表層部分
や島部分を形成して、硬化物の物性を損ねたり、さらに
は硬化時の収縮が大きくなったりして不適切である。
対して０〜25重量部の範囲が適当である。（ａ）成分そ
れ自体が架橋性をもつコポリマーである場合には（ｂ）
成分は必須ではないが、１包装型にする場合には保存安
定性の面から、ある程度添加する方が好ましい。25重量
部を越えると、（ｂ）成分が遊離して硬化時に表層部分
や島部分を形成して、硬化物の物性を損ねたり、さらに
は硬化時の収縮が大きくなったりして不適切である。
本発明に用いられる硬化触媒（Ｃ）としては、鉄オク
トエート、コバルトオクトエート、マンガンオクトエー
ト、亜鉛オクトエート、スズナフテネート、スズカプリ
レート、スズオレエートのようなカルボン酸金属塩；ジ
ブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクトエー
ト、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジオレエ
ート、ジフェニルスズジアセテート、酸化ジブチルス
ズ、ジブチルスズジメトキシド、ジブチルビス（トリエ
トキシシロキシ）スズ、ジオクチルスズジラウレートの
ような有機スズ化合物が例示されるが、微量の存在で大
きな触媒能をもつことから、有機スズ化合物であること
が好ましい。硬化触媒（Ｃ）の添加量は、（ａ）成分10
0重量部に対して、0.01〜３重量部である。0.01重量部
未満では硬化に長時間を必要としたり、硬化内部におけ
る硬化不良が生じたりする。他方、３重量部を越える場
合は保存安定性が低下したり、硬化物の耐熱性が劣化し
たりするので適切ではない。
トエート、コバルトオクトエート、マンガンオクトエー
ト、亜鉛オクトエート、スズナフテネート、スズカプリ
レート、スズオレエートのようなカルボン酸金属塩；ジ
ブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクトエー
ト、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジオレエ
ート、ジフェニルスズジアセテート、酸化ジブチルス
ズ、ジブチルスズジメトキシド、ジブチルビス（トリエ
トキシシロキシ）スズ、ジオクチルスズジラウレートの
ような有機スズ化合物が例示されるが、微量の存在で大
きな触媒能をもつことから、有機スズ化合物であること
が好ましい。硬化触媒（Ｃ）の添加量は、（ａ）成分10
0重量部に対して、0.01〜３重量部である。0.01重量部
未満では硬化に長時間を必要としたり、硬化内部におけ
る硬化不良が生じたりする。他方、３重量部を越える場
合は保存安定性が低下したり、硬化物の耐熱性が劣化し
たりするので適切ではない。
本発明においては、必要に応じて充填剤およびその他
の添加剤を、本発明の目的を阻害しない範囲内で適宜使
用することができる。
の添加剤を、本発明の目的を阻害しない範囲内で適宜使
用することができる。
充填剤としては、補強性のものや非補強性の増量的な
もの、さらには導電性のもの、放熱性のもの、耐熱性の
もの等が含まれる。
もの、さらには導電性のもの、放熱性のもの、耐熱性の
もの等が含まれる。
また、添加剤としては、接着向上剤、顔料、チクソト
ロピー性付与剤、押出作業性を改良するための粘度調整
剤、紫外線防止剤、防カビ剤、溶剤、耐熱性向上剤、難
燃化剤などの各種添加剤を加えることも可能である。
ロピー性付与剤、押出作業性を改良するための粘度調整
剤、紫外線防止剤、防カビ剤、溶剤、耐熱性向上剤、難
燃化剤などの各種添加剤を加えることも可能である。
本発明の組成物は、以上のすべての成分及び必要に応
じて各種添加剤を、湿気を遮断した状態で混合すること
により得られる。
じて各種添加剤を、湿気を遮断した状態で混合すること
により得られる。
得られた組成物は、密閉容器中でそのまま保存し、使
用時に空気中の水分にさらすことによってはじめて硬化
される、いわゆる１包装型室温硬化性組成物として用い
ることができる。
用時に空気中の水分にさらすことによってはじめて硬化
される、いわゆる１包装型室温硬化性組成物として用い
ることができる。
また、本発明の組成物においては、これらの成分を適
宜別々の容器に分けて保存し、使用時にこれらを混合す
る、いわゆる２包装型室温硬化性組成物として用いるこ
ともできる。
宜別々の容器に分けて保存し、使用時にこれらを混合す
る、いわゆる２包装型室温硬化性組成物として用いるこ
ともできる。
本発明によって得られた室温硬化性組成物は、機械的
特性が改質され、高い機械的強度を与えると共に耐油性
に優れているものである。
特性が改質され、高い機械的強度を与えると共に耐油性
に優れているものである。
本発明の組成物は、これらの特性の獲得により従来の
室温硬化性シリコーンゴム組成物の用途に加えて、汎用
樹脂やエンジニアリングプラスチックに到る領域、さら
には新規な領域の用途をも開拓する高機能材料として極
めて有益なものである。
室温硬化性シリコーンゴム組成物の用途に加えて、汎用
樹脂やエンジニアリングプラスチックに到る領域、さら
には新規な領域の用途をも開拓する高機能材料として極
めて有益なものである。
以下において、実施例を挙げ、本発明を具体的に説明
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。尚、実施例中、部はいずれも重量部を表わすものと
する。
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。尚、実施例中、部はいずれも重量部を表わすものと
する。
参考例１（シロキサン−アミドブロックコポリマーの合
成） 次式のジアミノプロピルシロキサン40.3部 トリエチルアミン22.5部、およびＮ−メチル−２−ピロ
リドン2.8部を脱水キシレン38.3部に加え、窒素雰囲気
下で攪拌混合した。次に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
2.8部を含んだ脱水キシレン38.3部にテレフタル酸ジク
ロライド13.7部を溶解し、このものを先の攪拌中にある
混合液に室温下で滴下した。滴下終了後、室温下におい
て１時間攪拌し、さらに80℃の温度で８時間攪拌し重合
を行った。そして、得られた重合物を数回水洗の後、減
圧乾燥を行った。この生成物は、GPC、1H−NMRスペクト
ルおよび赤外吸収スペクトルより、次式で表わされるシ
ロキサン−アミドブロックコポリマーであることが確認
された。
成） 次式のジアミノプロピルシロキサン40.3部 トリエチルアミン22.5部、およびＮ−メチル−２−ピロ
リドン2.8部を脱水キシレン38.3部に加え、窒素雰囲気
下で攪拌混合した。次に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
2.8部を含んだ脱水キシレン38.3部にテレフタル酸ジク
ロライド13.7部を溶解し、このものを先の攪拌中にある
混合液に室温下で滴下した。滴下終了後、室温下におい
て１時間攪拌し、さらに80℃の温度で８時間攪拌し重合
を行った。そして、得られた重合物を数回水洗の後、減
圧乾燥を行った。この生成物は、GPC、1H−NMRスペクト
ルおよび赤外吸収スペクトルより、次式で表わされるシ
ロキサン−アミドブロックコポリマーであることが確認
された。
この生成物51.0部に、塩化アンモニウム0.20部を加え
て100℃、窒素雰囲気下で攪拌混合を行ないながら、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン2.84部を滴
下し、さらにヘキサメチルジシラザン0.98部を滴下し
た。滴下終了の後、引き続き同条件下において２時間攪
拌し、反応させた。
て100℃、窒素雰囲気下で攪拌混合を行ないながら、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン2.84部を滴
下し、さらにヘキサメチルジシラザン0.98部を滴下し
た。滴下終了の後、引き続き同条件下において２時間攪
拌し、反応させた。
反応終了後、過剰のシラン並びにシラザンなどを100
℃、減圧下で除去すると赤橙色透明の生成物が得られ
た。この生成物は、赤外吸収スペクトルから、次式で表
わされる本発明（ａ）成分のシロキサン−アミドブロッ
クコポリマーであることが確認された。
℃、減圧下で除去すると赤橙色透明の生成物が得られ
た。この生成物は、赤外吸収スペクトルから、次式で表
わされる本発明（ａ）成分のシロキサン−アミドブロッ
クコポリマーであることが確認された。
参考例２（シロキサン−アミドブロックコポリマーの合
成） 次式のジアミノプロピルシロキサン79.8部 およびトリエチルアミン26.5部を脱水キシレン58.0部に
加えて、窒素雰囲気下、攪拌混合を行った。次いで、Ｎ
−メチル−２−ピロリドン1.6部を含有した脱水キシレ
ン58.0部にイソフタル酸クロライド16.0部を溶かし、こ
のものを先の攪拌中の混合液に室温下で滴下した。滴下
終了後、室温下で１時間攪拌し、さらに１時間、80℃の
温度において攪拌し重合させた。得られた重合物を数回
水洗した後、減圧乾燥を行った。この生成物は、GPC、1
H−NMRスペクトルおよび赤外吸収スペクトルより、次式
で表わされるシロキサン−アミドブロックコポリマーで
あることが確認された。
成） 次式のジアミノプロピルシロキサン79.8部 およびトリエチルアミン26.5部を脱水キシレン58.0部に
加えて、窒素雰囲気下、攪拌混合を行った。次いで、Ｎ
−メチル−２−ピロリドン1.6部を含有した脱水キシレ
ン58.0部にイソフタル酸クロライド16.0部を溶かし、こ
のものを先の攪拌中の混合液に室温下で滴下した。滴下
終了後、室温下で１時間攪拌し、さらに１時間、80℃の
温度において攪拌し重合させた。得られた重合物を数回
水洗した後、減圧乾燥を行った。この生成物は、GPC、1
H−NMRスペクトルおよび赤外吸収スペクトルより、次式
で表わされるシロキサン−アミドブロックコポリマーで
あることが確認された。
この生成物88.0部に、β−（3,4−エポキシシクロヘ
キシル）エチルメチルジメトキシシラン5.06部を80℃、
窒素雰囲気下において、攪拌混合しながら滴下し、さら
にヘキサメチルジシラザン1.77部を滴下した。滴下終了
後、さらに同条件下で２時間攪拌し、反応させた。反応
終了後、過剰のシランおよびシラザンなどを80℃、減圧
下で除去すると淡黄色透明の生成物が得られた。この生
成物は、赤外吸収スペクトルから、次式で表わされる本
発明（ａ）成分のシロキサン−アミドブロックコポリマ
ーであることが確認された。
キシル）エチルメチルジメトキシシラン5.06部を80℃、
窒素雰囲気下において、攪拌混合しながら滴下し、さら
にヘキサメチルジシラザン1.77部を滴下した。滴下終了
後、さらに同条件下で２時間攪拌し、反応させた。反応
終了後、過剰のシランおよびシラザンなどを80℃、減圧
下で除去すると淡黄色透明の生成物が得られた。この生
成物は、赤外吸収スペクトルから、次式で表わされる本
発明（ａ）成分のシロキサン−アミドブロックコポリマ
ーであることが確認された。
参考例３（シロキサン−アミドブロックコポリマーの合
成） 次式のジアミノプロピルシロキサン50.部 および無水炭酸ナトリウム16.3部をイオン交換水384部
に加えて、攪拌混合を行った。次いで、1,2−ジクロル
エタン123.2部にテレフタル酸ジクロライド15.6部を溶
解し、このものを先の攪拌中にある混合液に室温の下で
滴下した。滴下終了後、室温下で８時間攪拌し重合を行
った。そして、得られた重合物を数回水洗の後、減圧乾
燥を行った。この生成物は、GPC、1H−NMRスペクトルお
よび赤外吸収スペクトルより、次式で表わされるシロキ
サン−アミドブロックコポリマーであることが確認され
た。
成） 次式のジアミノプロピルシロキサン50.部 および無水炭酸ナトリウム16.3部をイオン交換水384部
に加えて、攪拌混合を行った。次いで、1,2−ジクロル
エタン123.2部にテレフタル酸ジクロライド15.6部を溶
解し、このものを先の攪拌中にある混合液に室温の下で
滴下した。滴下終了後、室温下で８時間攪拌し重合を行
った。そして、得られた重合物を数回水洗の後、減圧乾
燥を行った。この生成物は、GPC、1H−NMRスペクトルお
よび赤外吸収スペクトルより、次式で表わされるシロキ
サン−アミドブロックコポリマーであることが確認され
た。
この生成物55.0部に、塩化アンモニウム0.16部を加え
て100℃、窒素雰囲気下で攪拌混合を行いながら、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン2.60部を滴下
し、さらにヘキサメチルジシラザン0.81部を滴下した。
滴下終了の後、引き続き同条件下で３時間攪拌し、反応
させた。反応終了後、過剰のシラン並びにシラザンなど
を100℃、減圧下で除去すると淡黄色透明の生成物が得
られた。この生成物は、赤外吸収スペクトルから、次式
で表わされる本発明（ａ）成分のシロキサン−アミドブ
ロックコポリマーであることが確認された。
て100℃、窒素雰囲気下で攪拌混合を行いながら、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン2.60部を滴下
し、さらにヘキサメチルジシラザン0.81部を滴下した。
滴下終了の後、引き続き同条件下で３時間攪拌し、反応
させた。反応終了後、過剰のシラン並びにシラザンなど
を100℃、減圧下で除去すると淡黄色透明の生成物が得
られた。この生成物は、赤外吸収スペクトルから、次式
で表わされる本発明（ａ）成分のシロキサン−アミドブ
ロックコポリマーであることが確認された。
実施例１ 参考例１で得られたシロキサン−アミドブロックコポ
リマー25.0部に、80℃の温度の下でメチルトリメトキシ
シラン1.28部、およびジブチルビス（トリエトキシシロ
キシ）スズ0.03部を加え、湿気を遮断した状態で均一に
なるまで混合し、常温まで冷却後、脱泡した。これを2m
m厚のシート状に成形し、20℃、55％RHの条件下で養生
し、硬化物とした。７日間放置後、JIS K 6301の加硫ゴ
ム物理試験方法により、硬化物の硬さ、引張強度、およ
び耐油性を測定したところ、第１表に示す結果であり、
高い引張強度と良好な耐油性を示した。
リマー25.0部に、80℃の温度の下でメチルトリメトキシ
シラン1.28部、およびジブチルビス（トリエトキシシロ
キシ）スズ0.03部を加え、湿気を遮断した状態で均一に
なるまで混合し、常温まで冷却後、脱泡した。これを2m
m厚のシート状に成形し、20℃、55％RHの条件下で養生
し、硬化物とした。７日間放置後、JIS K 6301の加硫ゴ
ム物理試験方法により、硬化物の硬さ、引張強度、およ
び耐油性を測定したところ、第１表に示す結果であり、
高い引張強度と良好な耐油性を示した。
実施例２ 参考例１で得られたシロキサン−アミドブロックコポ
リマー25.0部に、80℃の温度下でビニルトリス（メチル
エチルケトオキシム）シラン1.48部、およびジブチルス
ズジラウレート0.02部を加え、湿気を遮断した状態で均
一になるまで混合し、常温まで冷却後、脱泡した。これ
を2mmのシート状に成形し、20℃、55％RHの条件下で養
生し、硬化物とした。７日間放置後、JIS K 6301に従
い、硬化物の硬さ、引張強度、耐油性を測定したとこ
ろ、第２表に示すとおり高い引張強度と良好な耐油性を
示した。
リマー25.0部に、80℃の温度下でビニルトリス（メチル
エチルケトオキシム）シラン1.48部、およびジブチルス
ズジラウレート0.02部を加え、湿気を遮断した状態で均
一になるまで混合し、常温まで冷却後、脱泡した。これ
を2mmのシート状に成形し、20℃、55％RHの条件下で養
生し、硬化物とした。７日間放置後、JIS K 6301に従
い、硬化物の硬さ、引張強度、耐油性を測定したとこ
ろ、第２表に示すとおり高い引張強度と良好な耐油性を
示した。
実施例３ 参考例２で得られたシロキサン−アミドブロックコポ
リマー45.0部に、80℃の温度下でビニルトリメトキシシ
ラン1.75部、および酸化ジブチルスズ0.04部を加え、湿
気を遮断した状態で均一になるまで混合し、常温まで冷
却後、脱泡した。これを2mm厚のシート状に成形し、20
℃、55％RHの条件下で養生し、硬化物とした。７日間放
置後、JIS K 6301の加硫ゴム物理試験方法により、硬化
物の硬さ、引張強度、および耐油性を測定したところ、
第３表に示すとおり、高い引張強度と良好な耐油性が得
られた。
リマー45.0部に、80℃の温度下でビニルトリメトキシシ
ラン1.75部、および酸化ジブチルスズ0.04部を加え、湿
気を遮断した状態で均一になるまで混合し、常温まで冷
却後、脱泡した。これを2mm厚のシート状に成形し、20
℃、55％RHの条件下で養生し、硬化物とした。７日間放
置後、JIS K 6301の加硫ゴム物理試験方法により、硬化
物の硬さ、引張強度、および耐油性を測定したところ、
第３表に示すとおり、高い引張強度と良好な耐油性が得
られた。
実施例４ 参考例２で得られたシロキサン−アミドブロックコポ
リマー45.0部に、80℃の温度下でメチルトリス（メチル
エチルケトオキシム）シラン1.77部、およびジブチルビ
ス（トリエトキシシロキシ）スズ0.03部を加え、湿気を
遮断した状態で均一になるまで混合し、常温まで冷却
後、脱泡した。これを2mm厚のシート状に成形し、20
℃、55％RHの条件下で養生し、硬化物とした。７日間放
置後、JIS K 6301の加硫ゴム物理試験方法により、硬化
物の硬さ、引張強度、および耐油性を測定したところ、
第４表に示すとおり、高い引張強度と良好な耐油性を示
した。
リマー45.0部に、80℃の温度下でメチルトリス（メチル
エチルケトオキシム）シラン1.77部、およびジブチルビ
ス（トリエトキシシロキシ）スズ0.03部を加え、湿気を
遮断した状態で均一になるまで混合し、常温まで冷却
後、脱泡した。これを2mm厚のシート状に成形し、20
℃、55％RHの条件下で養生し、硬化物とした。７日間放
置後、JIS K 6301の加硫ゴム物理試験方法により、硬化
物の硬さ、引張強度、および耐油性を測定したところ、
第４表に示すとおり、高い引張強度と良好な耐油性を示
した。
比較例１ シロキサン−アミドブロックコポリマーの代わりに、
25℃における粘度が20,000cStのα，ω−ジヒドロキシ
ジメチルポリシロキサン45.0部に、80℃の温度下で、メ
チルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラン3.48
部、およびジブチルビス（トリエトキシシロキシ）スズ
0.04部を加え、湿気を遮断した状態で均一になるまで混
合し、常温になるまで冷却後、脱泡した。これを2mm厚
のシート状に成形して、20℃、55％RHの条件下で養生
し、硬化物とした。７日間放置後、JIS K 6301に従い、
硬化物の硬さ、引張強度、耐油性を測定したところ、第
５表に示すとおり、実施例１〜４に見られた高い引張強
度や良好な耐油性は得られなかった。
25℃における粘度が20,000cStのα，ω−ジヒドロキシ
ジメチルポリシロキサン45.0部に、80℃の温度下で、メ
チルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラン3.48
部、およびジブチルビス（トリエトキシシロキシ）スズ
0.04部を加え、湿気を遮断した状態で均一になるまで混
合し、常温になるまで冷却後、脱泡した。これを2mm厚
のシート状に成形して、20℃、55％RHの条件下で養生
し、硬化物とした。７日間放置後、JIS K 6301に従い、
硬化物の硬さ、引張強度、耐油性を測定したところ、第
５表に示すとおり、実施例１〜４に見られた高い引張強
度や良好な耐油性は得られなかった。
比較例２ シロキサン−アミドブロックコポリマーの代わりに、
25℃における粘度が20,000cStのα，ω−ジヒドロキシ
ジメチルポリシロキサン45.0部に、25℃における粘度が
100cstのジメチルシリコーンオイル4.5部、および煙霧
質シリカ7.0部を均一に混合し、このものにさらにメチ
ルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラン4.37部、
ジブチルビス（トリエトキシシロキシ）スズ0.05部を加
え、湿気を遮断した状態で均一になるまで混合し脱泡し
た。これを2mm厚のシート状に成形して、20℃、55％RH
の条件下で養生し、硬化物とした。７日間放置後、JIS
K 6301に従い、硬化物の硬さ、引張強度、耐油性を測定
したところ、第６表に示すとおり、実施例１〜４に見ら
れたような高い引張強度や良好な耐油性は得られなかっ
た。
25℃における粘度が20,000cStのα，ω−ジヒドロキシ
ジメチルポリシロキサン45.0部に、25℃における粘度が
100cstのジメチルシリコーンオイル4.5部、および煙霧
質シリカ7.0部を均一に混合し、このものにさらにメチ
ルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラン4.37部、
ジブチルビス（トリエトキシシロキシ）スズ0.05部を加
え、湿気を遮断した状態で均一になるまで混合し脱泡し
た。これを2mm厚のシート状に成形して、20℃、55％RH
の条件下で養生し、硬化物とした。７日間放置後、JIS
K 6301に従い、硬化物の硬さ、引張強度、耐油性を測定
したところ、第６表に示すとおり、実施例１〜４に見ら
れたような高い引張強度や良好な耐油性は得られなかっ
た。
Claims (3)
- 【請求項１】（ａ） 一般式（１）で表わされるシロキ
サン−アミドブロックコポリマー 100重量部 （式中、Ｙは−SiR5 aX3-aで示される加水分解性基含有
オルガノシリル基、R5はR3と同様の１価の基、Ｘはケイ
素原子に結合した加水分解性基または水酸基、R1は および から成る群より選ばれた２価の基、R2は置換または非置
換の２価の炭化水素基、R3,R5はそれぞれ互いに同一ま
たは相異なる置換または非置換の１価の炭化水素基、R4
は置換または非置換の２価の芳香族炭化水素基、R6は水
素原子、R3と同様の１価の基または−SiR8 bX3-bで示さ
れるオルガノシリル基、R7は炭素原子数１〜８個からな
り、その内部に酸素または硫黄原子を含むエーテル結合
を含有していてもよい置換または非置換の２価の炭化水
素基、R8はR3と同様の１価の基、ａは0,1,2の整数、ｂ
は0,1,2,3の整数、m,nはそれぞれ１以上の数） （ｂ） 架橋剤 ０〜25重量部 および （ｃ） 硬化触媒 0.01〜３重量部 から成ることを特徴とする室温硬化性組成物。 - 【請求項２】Ｙ−R1−が である請求項１記載の室温硬化性組成物。
- 【請求項３】Ｙ−R1−が である請求項１記載の室温硬化性組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63164391A JP2635107B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 室温硬化性組成物 |
| US07/374,796 US5004793A (en) | 1988-07-01 | 1989-07-03 | Room temperature-curable composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63164391A JP2635107B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 室温硬化性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0214245A JPH0214245A (ja) | 1990-01-18 |
| JP2635107B2 true JP2635107B2 (ja) | 1997-07-30 |
Family
ID=15792235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63164391A Expired - Lifetime JP2635107B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 室温硬化性組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5004793A (ja) |
| JP (1) | JP2635107B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0786043B2 (ja) * | 1992-04-17 | 1995-09-20 | 澁谷工業株式会社 | 方向整列装置を内蔵した充填装置 |
| US5200284A (en) * | 1992-05-28 | 1993-04-06 | Eastman Kodak Company | Melamine-cured polyester-amide coated articles useful as toner fusing members |
| US5502144A (en) * | 1994-07-15 | 1996-03-26 | University Of Cincinnati | Composition and method for preparing silicone elastomers |
| US7468334B2 (en) * | 2004-10-04 | 2008-12-23 | Highland Industries, Inc. | Silicone vulcanizate coated fabric |
| JP5702402B2 (ja) * | 2009-12-30 | 2015-04-15 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 水分硬化性シロキサン及びシロキサンポリマー |
| KR101788345B1 (ko) * | 2009-12-30 | 2017-10-19 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 습기-경화형 실록산-함유 및 플루오로탄소-함유 화합물 및 그로부터 형성되는 중합체 |
| CN106068307B (zh) * | 2013-12-24 | 2019-07-16 | 迈图高新材料日本合同公司 | 室温固化性聚有机硅氧烷组合物和电气·电子设备 |
| CN114539535B (zh) * | 2020-11-25 | 2023-04-07 | 中蓝晨光化工研究设计院有限公司 | 一种含酰胺基单组份室温固化弹塑性硅树脂及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4882396A (en) * | 1987-08-07 | 1989-11-21 | Toshiba Silicone Co., Ltd. | Siloxane-amide block copolymer and process for producing the same |
| JPS6440526A (en) * | 1987-08-07 | 1989-02-10 | Toshiba Silicone | Siloxane-amide block copolymer and production thereof |
-
1988
- 1988-07-01 JP JP63164391A patent/JP2635107B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-07-03 US US07/374,796 patent/US5004793A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0214245A (ja) | 1990-01-18 |
| US5004793A (en) | 1991-04-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5378734A (en) | UV and moisture-curable organopolysiloxane compositions, cured products therof, and method for making | |
| JP3927950B2 (ja) | オルガノポリシロキサン組成物、その製造方法、前記組成物から製造された架橋可能な材料、及び前記材料から製造された成形品 | |
| KR101811449B1 (ko) | 오르가노폴리실메틸렌실록산 조성물 및 이의 경화물 | |
| JP4766679B2 (ja) | 加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物 | |
| US5254657A (en) | RTV silicone rubber compositions and cured products thereof | |
| US11525057B2 (en) | Method for manufacturing room-temperature-curable organopolysiloxane composition, room-temperature-curable organopolysiloxane composition, and article | |
| EP0566272A1 (en) | Room temperature fast-curing composition | |
| JP2635107B2 (ja) | 室温硬化性組成物 | |
| KR101357530B1 (ko) | 실온 경화성 폴리오르가노실록산 조성물 | |
| CN111263790A (zh) | 固化性组合物 | |
| CN111278920A (zh) | 固化性组合物 | |
| EP1273618A1 (en) | Room temperature curable organopolysiloxane compositions | |
| JP3500168B2 (ja) | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 | |
| JP3387882B2 (ja) | シラン変性ポリアミドイミド樹脂、その樹脂組成物及びその製造方法。 | |
| US4877855A (en) | Siloxane-amide block copolymer and process for producing the same | |
| CN112513128A (zh) | 室温固化性聚丁二烯树脂组合物、其制造方法和实装电路基板 | |
| JP2003128917A (ja) | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 | |
| JP2574080B2 (ja) | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびその硬化物 | |
| JP3418262B2 (ja) | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 | |
| JPH0238414A (ja) | 硬化性樹脂組成物 | |
| JP6217584B2 (ja) | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
| JP2003128924A (ja) | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 | |
| JP7283347B2 (ja) | ロングライフクーラントシール用室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び冷却クーラントオイルシール用シリコーンゴム硬化物並びに冷却クーラントオイルシール | |
| KR960016132B1 (ko) | 실온경화성 폴리오르가노실록산 조성물 | |
| JP6690737B2 (ja) | 新規アリーレン基含有オルガノポリシロキサン及びこれを用いた硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |