JP2603017B2 - 化学吸着膜の製造方法 - Google Patents
化学吸着膜の製造方法Info
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基材表面に化学吸着膜
を形成する方法に関するものである。さらに詳しくは、
気相雰囲気中で化学吸着単分子膜または化学吸着ポリマ
ー膜を形成する方法、および気相雰囲気中で、シロキサ
ン系化学吸着単分子膜またはシロキサン系化学吸着ポリ
マー膜を介して、他の化学吸着単分子膜またはポリマー
膜を累積することを特徴とした化学吸着膜の製造方法に
関するものである。
を形成する方法に関するものである。さらに詳しくは、
気相雰囲気中で化学吸着単分子膜または化学吸着ポリマ
ー膜を形成する方法、および気相雰囲気中で、シロキサ
ン系化学吸着単分子膜またはシロキサン系化学吸着ポリ
マー膜を介して、他の化学吸着単分子膜またはポリマー
膜を累積することを特徴とした化学吸着膜の製造方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】金属の表面、シリコン基板表面などに液
相で化学吸着用界面活性剤を反応させ、いわゆる化学吸
着法を用いて単分子膜が形成できることはすでに知られ
ている。このような溶液中での化学吸着単分子膜の製造
原理は、基材表面の水酸基とクロロカーボン系吸着剤の
クロロシリル基との脱塩酸反応を用いて、単分子膜を形
成することにある。その製造方法は、非水溶媒中にクロ
ロシラン系の界面活性剤を溶解させ、この吸着液の中に
金属などの基材を浸漬し、脱塩酸反応によって単分子膜
を形成するのである（たとえばU.S.P-4,673,474 号明細
書、 J. Am. Soc.1983, 105, 674-676 (Sagiv),"Thin s
olid Films", 99 (1983) 235-241(Sagiv),"The America
n Physical Society" Vol.39, No.7(1989)）。
相で化学吸着用界面活性剤を反応させ、いわゆる化学吸
着法を用いて単分子膜が形成できることはすでに知られ
ている。このような溶液中での化学吸着単分子膜の製造
原理は、基材表面の水酸基とクロロカーボン系吸着剤の
クロロシリル基との脱塩酸反応を用いて、単分子膜を形
成することにある。その製造方法は、非水溶媒中にクロ
ロシラン系の界面活性剤を溶解させ、この吸着液の中に
金属などの基材を浸漬し、脱塩酸反応によって単分子膜
を形成するのである（たとえばU.S.P-4,673,474 号明細
書、 J. Am. Soc.1983, 105, 674-676 (Sagiv),"Thin s
olid Films", 99 (1983) 235-241(Sagiv),"The America
n Physical Society" Vol.39, No.7(1989)）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
液相化学吸着法は、反応が吸着試薬を溶媒で希釈した液
相中で行なわれるため、完全な吸着膜を作成しようとす
れば、室温で２〜３時間ほども吸着時間が必要であっ
た。また、溶媒や化学吸着反応の際生成される塩酸等で
基板が損傷する場合があり、吸着用の溶媒や基材が大幅
に限定されるという欠点があった。さらに、稀釈溶媒に
微小なゴミを含む場合、形成する極薄の膜にピンホール
が発生し易いという問題があった。加えて、稀釈溶媒の
種類によっては、基材そのものが膨潤したり溶解するな
どの損傷を受ける場合もある。
液相化学吸着法は、反応が吸着試薬を溶媒で希釈した液
相中で行なわれるため、完全な吸着膜を作成しようとす
れば、室温で２〜３時間ほども吸着時間が必要であっ
た。また、溶媒や化学吸着反応の際生成される塩酸等で
基板が損傷する場合があり、吸着用の溶媒や基材が大幅
に限定されるという欠点があった。さらに、稀釈溶媒に
微小なゴミを含む場合、形成する極薄の膜にピンホール
が発生し易いという問題があった。加えて、稀釈溶媒の
種類によっては、基材そのものが膨潤したり溶解するな
どの損傷を受ける場合もある。
【０００４】以上述べてきた従来法の欠点に鑑み、本発
明の目的は、基材が制限されることなく、吸着溶媒が不
要であり、且つ短時間で吸着膜を効率よく形成できる方
法を提供することである。さらには、このことにより化
学吸着膜を基材と密着性よく且つピンホール無く薄く均
一に形成し性能を向上させることにある。
明の目的は、基材が制限されることなく、吸着溶媒が不
要であり、且つ短時間で吸着膜を効率よく形成できる方
法を提供することである。さらには、このことにより化
学吸着膜を基材と密着性よく且つピンホール無く薄く均
一に形成し性能を向上させることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の化学吸着膜の第１−１の製造方法は、表面
に活性水素基を含む基材の表面に化学吸着膜を形成する
方法であって、前記基材表面に少なくともクロロシリル
基を有するクロロシラン系吸着剤の気体を接触させて基
材表面の活性水素基と脱塩酸反応させ、その後、非水系
有機溶液を用いて基材表面上に残った未反応クロロシラ
ン系吸着剤を洗浄除去し、次いで、水と反応させて基材
表面に単分子吸着膜を形成することを特徴とする。
め、本発明の化学吸着膜の第１−１の製造方法は、表面
に活性水素基を含む基材の表面に化学吸着膜を形成する
方法であって、前記基材表面に少なくともクロロシリル
基を有するクロロシラン系吸着剤の気体を接触させて基
材表面の活性水素基と脱塩酸反応させ、その後、非水系
有機溶液を用いて基材表面上に残った未反応クロロシラ
ン系吸着剤を洗浄除去し、次いで、水と反応させて基材
表面に単分子吸着膜を形成することを特徴とする。
【０００６】前記構成においては、脱塩酸反応の後に、
非水系有機溶液を用いて基材表面上に残った未反応クロ
ロシラン系吸着剤を洗浄除去すると、基材表面に共有結
合しているクロロシラン系吸着化合物のみが基材表面に
残る。次に水分と反応させると、前記基材表面に共有結
合したクロロシラン系吸着化合物のクロル残基が加水分
解し、シラン基がシロキサン基に変わる。
非水系有機溶液を用いて基材表面上に残った未反応クロ
ロシラン系吸着剤を洗浄除去すると、基材表面に共有結
合しているクロロシラン系吸着化合物のみが基材表面に
残る。次に水分と反応させると、前記基材表面に共有結
合したクロロシラン系吸着化合物のクロル残基が加水分
解し、シラン基がシロキサン基に変わる。
【０００７】次に本発明の化学吸着膜の第１−２の製造
方法は、表面に活性水素基を含む基材の表面に化学吸着
膜を形成する方法であって、前記基材表面に少なくとも
クロロシリル基と直鎖状炭素鎖を含むクロロシラン系吸
着剤の気体を接触させて基材表面の活性水素基と脱塩酸
反応させ、その後に、水と反応させてポリマー状の化学
吸着膜を形成することを特徴とする。
方法は、表面に活性水素基を含む基材の表面に化学吸着
膜を形成する方法であって、前記基材表面に少なくとも
クロロシリル基と直鎖状炭素鎖を含むクロロシラン系吸
着剤の気体を接触させて基材表面の活性水素基と脱塩酸
反応させ、その後に、水と反応させてポリマー状の化学
吸着膜を形成することを特徴とする。
【０００８】次に本発明の化学吸着膜の第２の製造方法
は、表面に活性水素基を含む基材の表面に、クロロシリ
ル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気体を接触さ
せて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させる工程と、
非水系有機溶媒を用いて前記未反応吸着剤を洗浄除去す
る工程と、水と反応させる工程とにより前記基材上にシ
ラノール基を複数含むシロキサン系単分子内層膜を形成
する工程と、その後、一端にクロルシラン基を有する直
鎖状分子からなる外層膜用吸着剤の気体を接触させて内
層膜表面と脱塩酸反応させる工程と、非水系有機溶媒を
用いて未反応の前記外層膜用吸着剤を洗浄除去する洗浄
工程と、水と反応させる工程とにより、単分子内層膜の
表面に単分子外層膜を積層することを特徴とする。
は、表面に活性水素基を含む基材の表面に、クロロシリ
ル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気体を接触さ
せて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させる工程と、
非水系有機溶媒を用いて前記未反応吸着剤を洗浄除去す
る工程と、水と反応させる工程とにより前記基材上にシ
ラノール基を複数含むシロキサン系単分子内層膜を形成
する工程と、その後、一端にクロルシラン基を有する直
鎖状分子からなる外層膜用吸着剤の気体を接触させて内
層膜表面と脱塩酸反応させる工程と、非水系有機溶媒を
用いて未反応の前記外層膜用吸着剤を洗浄除去する洗浄
工程と、水と反応させる工程とにより、単分子内層膜の
表面に単分子外層膜を積層することを特徴とする。
【０００９】次に本発明の化学吸着膜の第３の製造方法
は、表面に活性水素基を含む基材の表面に、クロロシリ
ル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気体を接触さ
せて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させる工程と、
水と反応させる工程とにより前記基材上にシラノール基
を複数含むシロキサン系のポリマー内層膜を形成する工
程と、その後、一端にクロルシラン基を有する直鎖状分
子からなる外層膜用吸着剤の気体を接触させて内層膜表
面と脱塩酸反応させる工程と、非水系有機溶媒を用いて
未反応の前記外層膜用吸着剤を洗浄除去する洗浄工程
と、水と反応させる工程とにより、ポリマー状内層膜の
表面に単分子外層膜を積層することを特徴とする。
は、表面に活性水素基を含む基材の表面に、クロロシリ
ル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気体を接触さ
せて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させる工程と、
水と反応させる工程とにより前記基材上にシラノール基
を複数含むシロキサン系のポリマー内層膜を形成する工
程と、その後、一端にクロルシラン基を有する直鎖状分
子からなる外層膜用吸着剤の気体を接触させて内層膜表
面と脱塩酸反応させる工程と、非水系有機溶媒を用いて
未反応の前記外層膜用吸着剤を洗浄除去する洗浄工程
と、水と反応させる工程とにより、ポリマー状内層膜の
表面に単分子外層膜を積層することを特徴とする。
【００１０】次に本発明の化学吸着膜の第４の製造方法
は、表面に活性水素基を含む基材の表面に、クロロシリ
ル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気体を接触さ
せて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させる工程と、
非水系有機溶媒を用いて前記未反応吸着剤を洗浄除去す
る工程と、水と反応させる工程とにより前記基材上にシ
ラノール基を複数含むシロキサン系単分子内層膜を形成
する工程と、その後、一端にクロルシラン基を有する直
鎖状分子からなる外層膜用吸着剤の気体を接触させて内
層膜表面と脱塩酸反応させる工程と水と反応させる工程
とにより、単分子内層膜の表面にポリマー状外層膜を積
層することを特徴とする。
は、表面に活性水素基を含む基材の表面に、クロロシリ
ル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気体を接触さ
せて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させる工程と、
非水系有機溶媒を用いて前記未反応吸着剤を洗浄除去す
る工程と、水と反応させる工程とにより前記基材上にシ
ラノール基を複数含むシロキサン系単分子内層膜を形成
する工程と、その後、一端にクロルシラン基を有する直
鎖状分子からなる外層膜用吸着剤の気体を接触させて内
層膜表面と脱塩酸反応させる工程と水と反応させる工程
とにより、単分子内層膜の表面にポリマー状外層膜を積
層することを特徴とする。
【００１１】次に本発明の化学吸着膜の第５の製造方法
は、表面に活性水素基を含む基材の表面に、クロロシリ
ル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気体を接触さ
せて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させる工程と、
水と反応させる工程とにより前記基材上にシラノール基
を複数含むシロキサン系ポリマー状内層膜を形成する工
程と、その後、一端にクロルシラン基を有する直鎖状分
子からなる外層膜用吸着剤の気体を接触させて内層膜表
面と脱塩酸反応させる工程と、水と反応させる工程とに
より、ポリマー状内層膜の表面にポリマー状外層膜を積
層することを特徴とする。
は、表面に活性水素基を含む基材の表面に、クロロシリ
ル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気体を接触さ
せて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させる工程と、
水と反応させる工程とにより前記基材上にシラノール基
を複数含むシロキサン系ポリマー状内層膜を形成する工
程と、その後、一端にクロルシラン基を有する直鎖状分
子からなる外層膜用吸着剤の気体を接触させて内層膜表
面と脱塩酸反応させる工程と、水と反応させる工程とに
より、ポリマー状内層膜の表面にポリマー状外層膜を積
層することを特徴とする。
【００１２】前記本発明の第１〜５の製造方法において
は、クロロシラン系吸着剤が、直鎖状炭化水素分子、直
鎖状炭化水素分子の少なくとも一部が−ＣＦ2 −基で置
換または付加されている分子、またはフロロカーボン系
分子を含むことが好ましい。
は、クロロシラン系吸着剤が、直鎖状炭化水素分子、直
鎖状炭化水素分子の少なくとも一部が−ＣＦ2 −基で置
換または付加されている分子、またはフロロカーボン系
分子を含むことが好ましい。
【００１３】また前記本発明の第１〜５の製造方法にお
いては、クロロシラン系吸着剤が、ＣＦ3 −（ＣＦ2 ）
n −（Ｒ）m −ＳｉＸp Ｃｌ3-p （ｎは０または整数、
Ｒはアルキル基、ビニル基、エチニル基、シリコン若し
くは酸素原子を含む置換基、ｍは０又は１、ＸはＨ，ア
ルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基又は含
フッ素アルコキシ基の置換基、ｐは０、１または２）で
あることが好ましい。
いては、クロロシラン系吸着剤が、ＣＦ3 −（ＣＦ2 ）
n −（Ｒ）m −ＳｉＸp Ｃｌ3-p （ｎは０または整数、
Ｒはアルキル基、ビニル基、エチニル基、シリコン若し
くは酸素原子を含む置換基、ｍは０又は１、ＸはＨ，ア
ルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基又は含
フッ素アルコキシ基の置換基、ｐは０、１または２）で
あることが好ましい。
【００１４】また前記本発明の第２〜５の製造方法にお
いては、クロロシリル基を分子内に複数含む吸着剤が、
ＳｉＣｌ4 、ＳｉＨＣｌ3 、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 、又はＣｌ
−（ＳｉＣｌ2 Ｏ）n −ＳｉＣｌ3 （但しｎは整数）か
ら選ばれる少なくとも一の化合物であることが好まし
い。
いては、クロロシリル基を分子内に複数含む吸着剤が、
ＳｉＣｌ4 、ＳｉＨＣｌ3 、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 、又はＣｌ
−（ＳｉＣｌ2 Ｏ）n −ＳｉＣｌ3 （但しｎは整数）か
ら選ばれる少なくとも一の化合物であることが好まし
い。
【００１５】前記本発明の第１〜５の製造方法において
は、基材が、金属、セラミックス、ガラス、プラスチッ
ク、半導体、無機物成形体、有機物成形体から選ばれる
ことが好ましい。
は、基材が、金属、セラミックス、ガラス、プラスチッ
ク、半導体、無機物成形体、有機物成形体から選ばれる
ことが好ましい。
【００１６】また前記構成においては、プラスチック
が、予め表面を酸素を含むプラズマまたはコロナ雰囲気
で処理して親水性化したプラスチックであることが好ま
しい。
が、予め表面を酸素を含むプラズマまたはコロナ雰囲気
で処理して親水性化したプラスチックであることが好ま
しい。
【００１７】
【作用】前記本発明の化学吸着膜の第１の製造方法によ
れば、活性水素を有する基材表面に少なくともクロロシ
リル基を有するクロロシラン系吸着剤の気体を接触させ
て基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させ、基材表面に
化学吸着膜を形成するので、吸着溶媒が不要で、且つ短
時間で吸着膜を効率よく、基材と密着性よく且つピンホ
ール無く薄く均一に形成することができる。
れば、活性水素を有する基材表面に少なくともクロロシ
リル基を有するクロロシラン系吸着剤の気体を接触させ
て基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させ、基材表面に
化学吸着膜を形成するので、吸着溶媒が不要で、且つ短
時間で吸着膜を効率よく、基材と密着性よく且つピンホ
ール無く薄く均一に形成することができる。
【００１８】また、脱塩酸反応の後に、非水系有機溶液
を用いて基材表面上に残った未反応クロロシラン系吸着
剤を洗浄除去し、次いで、水と反応させるという本発明
の第１−１番目の発明によれば、単分子吸着膜を気相状
態で効率的に形成できる。
を用いて基材表面上に残った未反応クロロシラン系吸着
剤を洗浄除去し、次いで、水と反応させるという本発明
の第１−１番目の発明によれば、単分子吸着膜を気相状
態で効率的に形成できる。
【００１９】また、クロロシラン系吸着剤として直鎖状
分子を含む化合物を用い、脱塩酸反応の後に、水と反応
させるという本発明の第１−２番目の発明によれば、ポ
リマー状の吸着膜を気相状態で効率的に形成できる。
分子を含む化合物を用い、脱塩酸反応の後に、水と反応
させるという本発明の第１−２番目の発明によれば、ポ
リマー状の吸着膜を気相状態で効率的に形成できる。
【００２０】前記本発明の第２の方法によれば、単分子
内層膜の表面に単分子外層膜を化学結合により積層して
形成するので、全体として極薄で均一厚さであり、しか
もピンホールもなく（ピンホールフリー）、耐熱性、耐
久性等に優れた化学吸着単分子累積膜を提供できる。
内層膜の表面に単分子外層膜を化学結合により積層して
形成するので、全体として極薄で均一厚さであり、しか
もピンホールもなく（ピンホールフリー）、耐熱性、耐
久性等に優れた化学吸着単分子累積膜を提供できる。
【００２１】また、前記本発明の第３の方法によれば、
基材の表面にポリマー状内層膜を形成し、その表面に単
分子外層膜を化学結合によって積層するので、ピンホー
ルもなく（ピンホールフリー）、耐熱性、耐久性等に優
れた化学吸着膜を提供できる。
基材の表面にポリマー状内層膜を形成し、その表面に単
分子外層膜を化学結合によって積層するので、ピンホー
ルもなく（ピンホールフリー）、耐熱性、耐久性等に優
れた化学吸着膜を提供できる。
【００２２】さらにまた、前記本発明の第４の方法によ
れば、基材の表面に単分子内層膜を形成し、その表面に
ポリマー状外層膜を化学結合によって積層するので全体
として極薄で均一厚さであり、しかもピンホールもなく
（ピンホールフリー）、耐熱性、耐久性等に優れた薄膜
を提供できる。すなわち、このとき基材表面に形成され
た−ＳｉＯＨ結合は、シロキサン結合（共有結合）を介
して基材と結合している。さらに、このＳｉＯＨ結合を
有する単分子膜上に、クロロシラン基を含むシラン系吸
着剤を単分子膜状またはポリマー状に吸着累積すると、
前工程で基材表面に形成された−ＳｉＯＨ結合を多数持
つポリシロキサン系単分子膜叉はポリマー膜の−ＯＨ基
と、シラン系吸着剤のクロロシリル基とが脱塩酸反応を
生じ、単分子膜やポリマー膜が−ＳｉＯ結合を介して基
材と化学結合される。従って、極めて密着性の優れた化
学吸着膜を作成できる作用がある。
れば、基材の表面に単分子内層膜を形成し、その表面に
ポリマー状外層膜を化学結合によって積層するので全体
として極薄で均一厚さであり、しかもピンホールもなく
（ピンホールフリー）、耐熱性、耐久性等に優れた薄膜
を提供できる。すなわち、このとき基材表面に形成され
た−ＳｉＯＨ結合は、シロキサン結合（共有結合）を介
して基材と結合している。さらに、このＳｉＯＨ結合を
有する単分子膜上に、クロロシラン基を含むシラン系吸
着剤を単分子膜状またはポリマー状に吸着累積すると、
前工程で基材表面に形成された−ＳｉＯＨ結合を多数持
つポリシロキサン系単分子膜叉はポリマー膜の−ＯＨ基
と、シラン系吸着剤のクロロシリル基とが脱塩酸反応を
生じ、単分子膜やポリマー膜が−ＳｉＯ結合を介して基
材と化学結合される。従って、極めて密着性の優れた化
学吸着膜を作成できる作用がある。
【００２３】さらにまた、前記本発明の第５の方法によ
れば、基材の表面にポリマー状内層膜の表面にポリマー
状外層膜を化学結合によって積層するので、全体として
極薄で均一厚さであり、しかもピンホールもなく（ピン
ホールフリー）、耐熱性、耐久性等に優れた化学吸着単
分子累積膜を提供できる。
れば、基材の表面にポリマー状内層膜の表面にポリマー
状外層膜を化学結合によって積層するので、全体として
極薄で均一厚さであり、しかもピンホールもなく（ピン
ホールフリー）、耐熱性、耐久性等に優れた化学吸着単
分子累積膜を提供できる。
【００２４】
【実施例】本発明に使用できる基材としては、表面に水
酸基（−ＯＨ）を持つ基材、例えばＡｌ、Ｃｕ若しくは
ステンレス等の金属、セラミックス、ガラス、プラスチ
ック、半導体、無機物成形体、有機物成形体、その他親
水性基材が挙げられる。なお、プラスチックの様な表面
に水酸基を持たない物質であれば、予め表面を酸素を含
むプラズマ雰囲気中で、例えば１００Ｗで２０分処理若
しくはコロナ処理して親水性化即ち表面に水酸基を導入
しておけばよい。もっとも、ポリアミド樹脂やポリウレ
タン樹脂の場合は、表面にイミノ基（＝ＮＨ）が存在し
ており、このイミノ基（＝ＮＨ）の水素と化学吸着剤の
クロロシリル基（−ＳｉＣｌ）とが脱塩化水素反応し、
シロキサン結合（−ＳｉＯ−）を形成するのでとくに表
面処理を必要としない。
酸基（−ＯＨ）を持つ基材、例えばＡｌ、Ｃｕ若しくは
ステンレス等の金属、セラミックス、ガラス、プラスチ
ック、半導体、無機物成形体、有機物成形体、その他親
水性基材が挙げられる。なお、プラスチックの様な表面
に水酸基を持たない物質であれば、予め表面を酸素を含
むプラズマ雰囲気中で、例えば１００Ｗで２０分処理若
しくはコロナ処理して親水性化即ち表面に水酸基を導入
しておけばよい。もっとも、ポリアミド樹脂やポリウレ
タン樹脂の場合は、表面にイミノ基（＝ＮＨ）が存在し
ており、このイミノ基（＝ＮＨ）の水素と化学吸着剤の
クロロシリル基（−ＳｉＣｌ）とが脱塩化水素反応し、
シロキサン結合（−ＳｉＯ−）を形成するのでとくに表
面処理を必要としない。
【００２５】一方、本発明に使用できる内層膜を形成す
るクロロシリル基を含む物質としては、例えばＳｉＣｌ
4 、ＳｉＨＣｌ3 、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 、またはＣｌ−（Ｓ
ｉＣｌ2 Ｏ）n −ＳｉＣｌ3 （但しｎは整数）等が挙げ
られる。
るクロロシリル基を含む物質としては、例えばＳｉＣｌ
4 、ＳｉＨＣｌ3 、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 、またはＣｌ−（Ｓ
ｉＣｌ2 Ｏ）n −ＳｉＣｌ3 （但しｎは整数）等が挙げ
られる。
【００２６】特に、ＳｉＣｌ4 を用いれば、分子が小さ
く水酸基に対する活性も大きいので、基材表面を均一に
親水化する効果が大きいため好ましい。また、クロロシ
リル基を含む物質を含有する雰囲気用のガスとしては乾
燥窒素等の非水系ガスが挙げられる。
く水酸基に対する活性も大きいので、基材表面を均一に
親水化する効果が大きいため好ましい。また、クロロシ
リル基を含む物質を含有する雰囲気用のガスとしては乾
燥窒素等の非水系ガスが挙げられる。
【００２７】クロロシリル基を含む物質の雰囲気中での
濃度は、用いるクロロシリル基を含む物質或は溶媒の種
類によって異なるが、１重量〜１００重量パーセント程
度（吸着雰囲気）を使用できる。この吸着雰囲気に基材
を入れて３０分間程度放置すると、基材表面には親水性
のＯＨ基が多少とも存在するので、表面で脱塩酸反応が
生じ、クロロシリル基を含む物質が吸着固定される。そ
こで非水系溶媒で良く洗浄した後、さらに水と反応させ
ると余分なクロロシリル基を含む物質が除去されてシロ
キサン単分子膜（内層膜）が形成される。なお、このと
き、クロロシリル基を含む物質が吸着固定後非水系の溶
媒で洗浄する工程を省けば、ポリシロキサン膜が形成さ
れる。
濃度は、用いるクロロシリル基を含む物質或は溶媒の種
類によって異なるが、１重量〜１００重量パーセント程
度（吸着雰囲気）を使用できる。この吸着雰囲気に基材
を入れて３０分間程度放置すると、基材表面には親水性
のＯＨ基が多少とも存在するので、表面で脱塩酸反応が
生じ、クロロシリル基を含む物質が吸着固定される。そ
こで非水系溶媒で良く洗浄した後、さらに水と反応させ
ると余分なクロロシリル基を含む物質が除去されてシロ
キサン単分子膜（内層膜）が形成される。なお、このと
き、クロロシリル基を含む物質が吸着固定後非水系の溶
媒で洗浄する工程を省けば、ポリシロキサン膜が形成さ
れる。
【００２８】次に表層膜形成工程を行なうが、内層膜の
表面には多くの水酸基（−ＯＨ）が形成されている（な
お、このとき基材表面がきわめて親水性が高い場合に
は、内層膜形成工程は必ずしも必要ないので基材表面に
直接表層膜を積層できる。）ので、この水酸基にクロロ
シリル基を有する炭化水素系吸着剤やフロロカーボン系
吸着剤を反応させることができる。
表面には多くの水酸基（−ＯＨ）が形成されている（な
お、このとき基材表面がきわめて親水性が高い場合に
は、内層膜形成工程は必ずしも必要ないので基材表面に
直接表層膜を積層できる。）ので、この水酸基にクロロ
シリル基を有する炭化水素系吸着剤やフロロカーボン系
吸着剤を反応させることができる。
【００２９】そこで、クロロシリル基を有する炭化水素
系吸着剤やフロロカーボン系吸着剤の雰囲気（濃度は、
用いるクロロシリル基を含む物質或は溶媒の種類によっ
て異なるが、１重量〜１００重量パーセント程度を使用
できる。）に基材を入れて３０分間程度放置すると、基
材表面には親水性のＯＨ基が多数存在するので、表面で
脱塩酸反応が生じ、クロロシリル基を有する炭化水素系
吸着剤やフロロカーボン系吸着剤が吸着固定される。次
に非水系溶媒で良く洗浄した後、さらに水と反応させる
と余分なクロロシリル基を有する炭化水素系吸着剤やフ
ロロカーボン系吸着剤が除去されて単分子膜（外層膜）
が形成される。なお、クロロシリル基を有する炭化水素
系吸着剤やフロロカーボン系吸着剤が吸着固定後非水系
の溶媒で洗浄する工程を省けば、クロロシリル基を有す
る炭化水素系吸着剤やフロロカーボン系吸着剤のポリマ
ー膜が形成される。この反応も前記同様脱塩化水素反応
によって進行する。
系吸着剤やフロロカーボン系吸着剤の雰囲気（濃度は、
用いるクロロシリル基を含む物質或は溶媒の種類によっ
て異なるが、１重量〜１００重量パーセント程度を使用
できる。）に基材を入れて３０分間程度放置すると、基
材表面には親水性のＯＨ基が多数存在するので、表面で
脱塩酸反応が生じ、クロロシリル基を有する炭化水素系
吸着剤やフロロカーボン系吸着剤が吸着固定される。次
に非水系溶媒で良く洗浄した後、さらに水と反応させる
と余分なクロロシリル基を有する炭化水素系吸着剤やフ
ロロカーボン系吸着剤が除去されて単分子膜（外層膜）
が形成される。なお、クロロシリル基を有する炭化水素
系吸着剤やフロロカーボン系吸着剤が吸着固定後非水系
の溶媒で洗浄する工程を省けば、クロロシリル基を有す
る炭化水素系吸着剤やフロロカーボン系吸着剤のポリマ
ー膜が形成される。この反応も前記同様脱塩化水素反応
によって進行する。
【００３０】表層膜を形成する吸着剤としては、例えば
フロロカーボン基とクロロシラン基とを含む化合物が挙
げられ、具体的材料としては、ＣＦ3 −（ＣＦ2 ）n −
（Ｒ）m −ＳｉＸp Ｃｌ3-p （但しｎは０または整数、
好ましくは１〜２２の整数、Ｒはアルキル基、ビニル
基、エチニル基、シリコン若しくは酸素原子を含む置換
基、ｍは０又は１、ＸはＨ，アルキル基，アルコキシル
基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ基の置
換基、ｐは０、１または２）を用いることが可能であ
る。このフッ素とクロロシリル基とを含む化合物を用い
ると、撥水性、撥油性、防汚性及び滑性等が付与される
ため好ましい。
フロロカーボン基とクロロシラン基とを含む化合物が挙
げられ、具体的材料としては、ＣＦ3 −（ＣＦ2 ）n −
（Ｒ）m −ＳｉＸp Ｃｌ3-p （但しｎは０または整数、
好ましくは１〜２２の整数、Ｒはアルキル基、ビニル
基、エチニル基、シリコン若しくは酸素原子を含む置換
基、ｍは０又は１、ＸはＨ，アルキル基，アルコキシル
基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ基の置
換基、ｐは０、１または２）を用いることが可能であ
る。このフッ素とクロロシリル基とを含む化合物を用い
ると、撥水性、撥油性、防汚性及び滑性等が付与される
ため好ましい。
【００３１】表層膜を形成するための他の化学吸着剤と
しては、たとえば次のような炭化水素系化学吸着剤も使
用できる。 ＣＨ3 −（ＣＨ2 ）r ＳｉＸp Ｃｌ3-p ，ＣＨ3 （ＣＨ
2 ）s Ｏ（ＣＨ2 ）t ＳｉＸp Ｃｌ3-p ，ＣＨ3 （ＣＨ
2 ）u −Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 （ＣＨ2 ）v −ＳｉＸp Ｃｌ
3-p ，ＣＨ3 ＣＯＯ（ＣＨ2 ）w ＳｉＸp Ｃｌ3-p ，Ｃ
Ｆ3 −（ＣＦ2 ）r ＳｉＸp Ｃｌ3-p ，ＣＦ3 （Ｃ
Ｆ2 ）s （ＣＨ2 ）t ＳｉＸpＣｌ3-p ，ＣＦ3 （ＣＦ
2 ）s Ｏ（ＣＨ2 ）t ＳｉＸp Ｃｌ3-p ，ＣＦ3 （ＣＦ
2 ）u −Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 （ＣＨ2 ）v −ＳｉＸp Ｃｌ
3-p ，ＣＦ3 ＣＯＯ（ＣＨ2 ）w ＳｉＸp Ｃｌ3-p （但し、好ましい範囲してｒは１〜２５、ｓは０〜１
２、ｔは１〜２０、ｕは０〜１２、ｖは１〜２０、ｗは
１〜２５を示す。） 前記の吸着剤に加えて、下記の具体的吸着剤を挙げる。
ＣＨ3 ＣＨ2 Ｏ（ＣＨ2 ）15ＳｉＣｌ3 ，ＣＨ3 （ＣＨ
2 ）2 Ｓｉ（ＣＨ3 ）2（ＣＨ2 ）15ＳｉＣｌ3 ，ＣＨ
3 （ＣＨ2 ）6 Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 （ＣＨ2 ）9 ＳｉＣｌ
3 ，ＣＨ3 ＣＯＯ（ＣＨ2 ）15ＳｉＣｌ3 ，ＣＦ3 （Ｃ
Ｆ2 ）9 （ＣＨ2 ）2 −ＳｉＣｌ3 ，ＣＦ3 （ＣＦ2 ）
7 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 ，ＣＦ3 （ＣＦ2 ）5 （ＣＨ
2 ）2 −ＳｉＣｌ3 ， なお、本発明は下記の様な用途に広く適用できる。 （ａ）基材の例；基材が金属、セラミックスまたはプラ
スチック、木材、石材からなる材料に適用できる。表面
は塗料などで塗装されていても良い。 （ｂ）刃物の例：包丁、鋏、ナイフ、カッター、彫刻
刀、剃刀、バリカン、鋸、カンナ、ノミ、錐、千枚通
し、バイト、ドリルの刃、ミキサーの刃、ジュ−サ−の
刃、製粉機の刃、芝刈り機の刃、パンチ、押切り、ホッ
チキスの刃、缶切りの刃、または手術用メス等。 （ｃ）針の例：鍼術用の針、縫い針、ミシン針、畳針、
注射針、手術用針、安全ピン等。 （ｄ）窯業製品の例：陶磁器製、ガラス製、セラミック
ス製またはほうろうを含む製品等。例えば衛生陶磁器
（例えば便器、洗面器、風呂等）、食器（例えば、茶
碗、皿、どんぶり、湯呑、コップ、瓶、コーヒー沸かし
容器、鍋、すり鉢、カップ等）、花器（水盤、植木鉢、
一輪差し等）、水槽（養殖用水槽、鑑賞用水槽等）、化
学実験器具（ビーカー、反応容器、試験管、フラスコ、
シャーレ、冷却管、撹拌棒、スターラー、乳鉢、バッ
ト、注射器）、瓦、タイル、ほうろう製食器、ほうろう
製洗面器、ほうろう製鍋。 （ｅ）鏡の例：手鏡、姿見鏡、浴室用鏡、洗面所用鏡、
自動車用鏡（バックミラー、サイドミラー）、ハーフミ
ラー、ショーウィンドー用鏡、デパートの商品売り場の
鏡等。 （ｆ）成形用部材の例：プレス成形用金型、注型成形用
金型、射出成形用金型、トランスファー成形用金型、真
空成形用金型、吹き込み成形用金型、押し出し成形用ダ
イ、インフレーション成形用口金、繊維紡糸用口金、カ
レンダー加工用ロールなど。 （ｇ）装飾品の例：時計、宝石、真珠、サファイア、ル
ビー、エメラルド、ガーネット、キャッツアイ、ダイヤ
モンド、トパーズ、ブラッドストーン、アクアマリン、
サードニックス、トルコ石、瑪瑙、大理石、アメジス
ト、カメオ、オパール、水晶、ガラス、指輪、腕輪、ブ
ローチ、ネクタイピン、イヤリング、ネックレス、貴金
属装飾製品、白金、金、銀、銅、アルミ、チタン、錫あ
るいはそれらの合金やステンレス製、メガネフレーム
等。 （ｈ）食品成形用型の例：ケーキ焼成用型、クッキー焼
成用型、パン焼成用型、チョコレート成形用型、ゼリー
成形用型、アイスクリーム成形用型、オーブン皿、製氷
皿等。 （ｉ）調理器具の例：鍋、釜、やかん、ポット、フライ
パン、ホットプレート、焼き物調理用網、油切り、タコ
焼きプレート等。 （ｊ）紙の例：グラビア紙、撥水撥油紙、ポスター紙、
高級パンフレット紙等 （ｋ）樹脂の例：ポリプロピレン、ポリエチレン等のポ
リオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエス
テル、アラミド、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリエ
ーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、フェノー
ル樹脂、フラン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン、ケイ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、メタクリル樹脂、
アクリル酸エステル樹脂、ポリアセタール、ポリフェン
レンオキサイド等 （ｌ）家庭電化製品の例：テレビジョン、ラジオ、テー
プレコーダー、オーディオ、ＣＤ、冷凍関係機器の冷蔵
庫、冷凍庫、エアコン、ジューサー、ミキサー、扇風機
の羽根、照明器具、文字盤、パーマ用ドライヤー等。 （ｍ）スポーツ用品の例：スキー、釣竿、棒高跳び用の
ポール、ボート、ヨット、ジェットスキー、サーフボー
ド、ゴルフボール、ボーリングのボール、釣糸、魚網、
釣り浮き等。 （ｎ）乗り物部品に適用する例： (1) ＡＢＳ樹脂：ランプカバー、インストルメントパネ
ル、内装部品、オートバイのプロテクター (2) セルロースプラスチック：自動車のマーク、ハンド
ル (3) ＦＲＰ（繊維強化樹脂）：外板バンパー、エンジン
カバー (4) フェノール樹脂：ブレーキ (5) ポリアセタール：ワイパーギヤ、ガスバルブ、キャ
ブレター部品 (6) ポリアミド：ラジエータファン (7) ポリアリレート：方向指示レンズ、計器板レンズ、
リレーハウジング (8) ポリブチレンテレフタレート：リヤエンド、フロン
トフェンダ (9) ポリアミノビスマレイミド：エンジン部品、ギヤボ
ックス、ホイール、サスペンジョンドライブシステム (10)メタクリル樹脂はランプカバーレンズ、計器板とカ
バー、センターマーク (11)ポリプロピレンはバンパー (12)ポリフェニレンオキシド：ラジエーターグリル、ホ
イールキャップ (13)ポリウレタン：バンパー、フェンダー、インストル
メントパネル、ファン (14)不飽和ポリエステル樹脂：ボディ、燃料タンク、ヒ
ーターハウジング、計器板 （ｏ）事務用品の例：万年筆、ボールペン、シャ−プペ
ンシル、筆入れ、バインダー、机、椅子、本棚、ラッ
ク、電話台、物差し、製図用具等。 （ｐ）建材の例：屋根材、外壁材、内装材。屋根材とし
て窯瓦、スレート瓦、トタン（亜鉛メッキ鉄板）など。
外壁材としては木材（加工木材を含む）、モルタル、コ
ンクリート、窯業系サイジング、金属系サイジング、レ
ンガ、石材、プラスチック材料、アルミ等の金属材料な
ど。内装材としては木材（加工木材を含む）、アルミ等
の金属材料、プラスチック材料、紙、繊維など。 （ｑ）石材の例：花コウ岩、大理石、みかげ石等。たと
えば建築物、建築材、芸術品、置物、風呂、墓石、記念
碑、門柱、石垣、歩道の敷石など。 （ｒ）楽器および音響機器の例：打楽器、弦楽器、鍵盤
楽器、木管楽器、金管楽器などの楽器、およびマイクロ
ホン、スピーカなどの音響機器等。具体的には、ドラ
ム、シンバル、バイオリン、チェロ、ギター、琴、ピア
ノ、フルート、クラリネット、尺八、ホルンなどの打楽
器、弦楽器、鍵盤楽器、木管楽器、金管楽器などの楽
器、およびマイクロホン、スピーカ、イヤホーンなどの
音響機器。 （ｓ）その他、魔法瓶、真空系機器、電力送電用碍子ま
たはスパークプラグ等の撥水撥油防汚効果の高い高耐電
圧性絶縁碍子等。
しては、たとえば次のような炭化水素系化学吸着剤も使
用できる。 ＣＨ3 −（ＣＨ2 ）r ＳｉＸp Ｃｌ3-p ，ＣＨ3 （ＣＨ
2 ）s Ｏ（ＣＨ2 ）t ＳｉＸp Ｃｌ3-p ，ＣＨ3 （ＣＨ
2 ）u −Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 （ＣＨ2 ）v −ＳｉＸp Ｃｌ
3-p ，ＣＨ3 ＣＯＯ（ＣＨ2 ）w ＳｉＸp Ｃｌ3-p ，Ｃ
Ｆ3 −（ＣＦ2 ）r ＳｉＸp Ｃｌ3-p ，ＣＦ3 （Ｃ
Ｆ2 ）s （ＣＨ2 ）t ＳｉＸpＣｌ3-p ，ＣＦ3 （ＣＦ
2 ）s Ｏ（ＣＨ2 ）t ＳｉＸp Ｃｌ3-p ，ＣＦ3 （ＣＦ
2 ）u −Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 （ＣＨ2 ）v −ＳｉＸp Ｃｌ
3-p ，ＣＦ3 ＣＯＯ（ＣＨ2 ）w ＳｉＸp Ｃｌ3-p （但し、好ましい範囲してｒは１〜２５、ｓは０〜１
２、ｔは１〜２０、ｕは０〜１２、ｖは１〜２０、ｗは
１〜２５を示す。） 前記の吸着剤に加えて、下記の具体的吸着剤を挙げる。
ＣＨ3 ＣＨ2 Ｏ（ＣＨ2 ）15ＳｉＣｌ3 ，ＣＨ3 （ＣＨ
2 ）2 Ｓｉ（ＣＨ3 ）2（ＣＨ2 ）15ＳｉＣｌ3 ，ＣＨ
3 （ＣＨ2 ）6 Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 （ＣＨ2 ）9 ＳｉＣｌ
3 ，ＣＨ3 ＣＯＯ（ＣＨ2 ）15ＳｉＣｌ3 ，ＣＦ3 （Ｃ
Ｆ2 ）9 （ＣＨ2 ）2 −ＳｉＣｌ3 ，ＣＦ3 （ＣＦ2 ）
7 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 ，ＣＦ3 （ＣＦ2 ）5 （ＣＨ
2 ）2 −ＳｉＣｌ3 ， なお、本発明は下記の様な用途に広く適用できる。 （ａ）基材の例；基材が金属、セラミックスまたはプラ
スチック、木材、石材からなる材料に適用できる。表面
は塗料などで塗装されていても良い。 （ｂ）刃物の例：包丁、鋏、ナイフ、カッター、彫刻
刀、剃刀、バリカン、鋸、カンナ、ノミ、錐、千枚通
し、バイト、ドリルの刃、ミキサーの刃、ジュ−サ−の
刃、製粉機の刃、芝刈り機の刃、パンチ、押切り、ホッ
チキスの刃、缶切りの刃、または手術用メス等。 （ｃ）針の例：鍼術用の針、縫い針、ミシン針、畳針、
注射針、手術用針、安全ピン等。 （ｄ）窯業製品の例：陶磁器製、ガラス製、セラミック
ス製またはほうろうを含む製品等。例えば衛生陶磁器
（例えば便器、洗面器、風呂等）、食器（例えば、茶
碗、皿、どんぶり、湯呑、コップ、瓶、コーヒー沸かし
容器、鍋、すり鉢、カップ等）、花器（水盤、植木鉢、
一輪差し等）、水槽（養殖用水槽、鑑賞用水槽等）、化
学実験器具（ビーカー、反応容器、試験管、フラスコ、
シャーレ、冷却管、撹拌棒、スターラー、乳鉢、バッ
ト、注射器）、瓦、タイル、ほうろう製食器、ほうろう
製洗面器、ほうろう製鍋。 （ｅ）鏡の例：手鏡、姿見鏡、浴室用鏡、洗面所用鏡、
自動車用鏡（バックミラー、サイドミラー）、ハーフミ
ラー、ショーウィンドー用鏡、デパートの商品売り場の
鏡等。 （ｆ）成形用部材の例：プレス成形用金型、注型成形用
金型、射出成形用金型、トランスファー成形用金型、真
空成形用金型、吹き込み成形用金型、押し出し成形用ダ
イ、インフレーション成形用口金、繊維紡糸用口金、カ
レンダー加工用ロールなど。 （ｇ）装飾品の例：時計、宝石、真珠、サファイア、ル
ビー、エメラルド、ガーネット、キャッツアイ、ダイヤ
モンド、トパーズ、ブラッドストーン、アクアマリン、
サードニックス、トルコ石、瑪瑙、大理石、アメジス
ト、カメオ、オパール、水晶、ガラス、指輪、腕輪、ブ
ローチ、ネクタイピン、イヤリング、ネックレス、貴金
属装飾製品、白金、金、銀、銅、アルミ、チタン、錫あ
るいはそれらの合金やステンレス製、メガネフレーム
等。 （ｈ）食品成形用型の例：ケーキ焼成用型、クッキー焼
成用型、パン焼成用型、チョコレート成形用型、ゼリー
成形用型、アイスクリーム成形用型、オーブン皿、製氷
皿等。 （ｉ）調理器具の例：鍋、釜、やかん、ポット、フライ
パン、ホットプレート、焼き物調理用網、油切り、タコ
焼きプレート等。 （ｊ）紙の例：グラビア紙、撥水撥油紙、ポスター紙、
高級パンフレット紙等 （ｋ）樹脂の例：ポリプロピレン、ポリエチレン等のポ
リオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエス
テル、アラミド、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリエ
ーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、フェノー
ル樹脂、フラン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン、ケイ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、メタクリル樹脂、
アクリル酸エステル樹脂、ポリアセタール、ポリフェン
レンオキサイド等 （ｌ）家庭電化製品の例：テレビジョン、ラジオ、テー
プレコーダー、オーディオ、ＣＤ、冷凍関係機器の冷蔵
庫、冷凍庫、エアコン、ジューサー、ミキサー、扇風機
の羽根、照明器具、文字盤、パーマ用ドライヤー等。 （ｍ）スポーツ用品の例：スキー、釣竿、棒高跳び用の
ポール、ボート、ヨット、ジェットスキー、サーフボー
ド、ゴルフボール、ボーリングのボール、釣糸、魚網、
釣り浮き等。 （ｎ）乗り物部品に適用する例： (1) ＡＢＳ樹脂：ランプカバー、インストルメントパネ
ル、内装部品、オートバイのプロテクター (2) セルロースプラスチック：自動車のマーク、ハンド
ル (3) ＦＲＰ（繊維強化樹脂）：外板バンパー、エンジン
カバー (4) フェノール樹脂：ブレーキ (5) ポリアセタール：ワイパーギヤ、ガスバルブ、キャ
ブレター部品 (6) ポリアミド：ラジエータファン (7) ポリアリレート：方向指示レンズ、計器板レンズ、
リレーハウジング (8) ポリブチレンテレフタレート：リヤエンド、フロン
トフェンダ (9) ポリアミノビスマレイミド：エンジン部品、ギヤボ
ックス、ホイール、サスペンジョンドライブシステム (10)メタクリル樹脂はランプカバーレンズ、計器板とカ
バー、センターマーク (11)ポリプロピレンはバンパー (12)ポリフェニレンオキシド：ラジエーターグリル、ホ
イールキャップ (13)ポリウレタン：バンパー、フェンダー、インストル
メントパネル、ファン (14)不飽和ポリエステル樹脂：ボディ、燃料タンク、ヒ
ーターハウジング、計器板 （ｏ）事務用品の例：万年筆、ボールペン、シャ−プペ
ンシル、筆入れ、バインダー、机、椅子、本棚、ラッ
ク、電話台、物差し、製図用具等。 （ｐ）建材の例：屋根材、外壁材、内装材。屋根材とし
て窯瓦、スレート瓦、トタン（亜鉛メッキ鉄板）など。
外壁材としては木材（加工木材を含む）、モルタル、コ
ンクリート、窯業系サイジング、金属系サイジング、レ
ンガ、石材、プラスチック材料、アルミ等の金属材料な
ど。内装材としては木材（加工木材を含む）、アルミ等
の金属材料、プラスチック材料、紙、繊維など。 （ｑ）石材の例：花コウ岩、大理石、みかげ石等。たと
えば建築物、建築材、芸術品、置物、風呂、墓石、記念
碑、門柱、石垣、歩道の敷石など。 （ｒ）楽器および音響機器の例：打楽器、弦楽器、鍵盤
楽器、木管楽器、金管楽器などの楽器、およびマイクロ
ホン、スピーカなどの音響機器等。具体的には、ドラ
ム、シンバル、バイオリン、チェロ、ギター、琴、ピア
ノ、フルート、クラリネット、尺八、ホルンなどの打楽
器、弦楽器、鍵盤楽器、木管楽器、金管楽器などの楽
器、およびマイクロホン、スピーカ、イヤホーンなどの
音響機器。 （ｓ）その他、魔法瓶、真空系機器、電力送電用碍子ま
たはスパークプラグ等の撥水撥油防汚効果の高い高耐電
圧性絶縁碍子等。
【００３２】以下に実施例と模式図である図１〜図７を
用いて順に説明する。なお以下の実施例においては、と
くに記載していない限り％は重量％を意味する。 実施例１ 基材として、アルミニウム基材１を用いた（図１）。こ
のアルミニウム基材１の表面には少量の親水性の−ＯＨ
基が露出しているので、まず内層膜を形成する吸着剤と
してＳｉＣｌ4 （テトラクロロシラン）を選び、このテ
トラクロロシランを乾燥窒素でパージした吸着室内にい
れ室温で気化させて吸着雰囲気を作る。（これをクロロ
シラン吸着雰囲気と呼ぶ）この雰囲気にアルミニウム基
材１を入れておよそ３０分くらい放置すると、図２に示
したように表面で脱塩酸反応が生じ、下記式（化１）及
び／または（化２）のように分子が−ＳｉＯ−結合を介
して基材表面に固定される。
用いて順に説明する。なお以下の実施例においては、と
くに記載していない限り％は重量％を意味する。 実施例１ 基材として、アルミニウム基材１を用いた（図１）。こ
のアルミニウム基材１の表面には少量の親水性の−ＯＨ
基が露出しているので、まず内層膜を形成する吸着剤と
してＳｉＣｌ4 （テトラクロロシラン）を選び、このテ
トラクロロシランを乾燥窒素でパージした吸着室内にい
れ室温で気化させて吸着雰囲気を作る。（これをクロロ
シラン吸着雰囲気と呼ぶ）この雰囲気にアルミニウム基
材１を入れておよそ３０分くらい放置すると、図２に示
したように表面で脱塩酸反応が生じ、下記式（化１）及
び／または（化２）のように分子が−ＳｉＯ−結合を介
して基材表面に固定される。
【００３３】
【化１】
【００３４】
【化２】
【００３５】その後、例えばクロロホルム等のような非
水系の溶媒で洗浄して、さらに水で洗浄すると、基材と
反応していないＳｉＣｌ4 分子は除去され、さらに吸着
された試薬は水と反応し図３に示したように基材表面に
シラノール基を多数含むシロキサン単分子膜４が得られ
た。これを下記式（化３）及び／または（化４）に示
す。なお、このとき非水系の溶媒で洗浄する工程を省略
すると、シラノール基を多数含むポリシロキサン膜を形
成できた。
水系の溶媒で洗浄して、さらに水で洗浄すると、基材と
反応していないＳｉＣｌ4 分子は除去され、さらに吸着
された試薬は水と反応し図３に示したように基材表面に
シラノール基を多数含むシロキサン単分子膜４が得られ
た。これを下記式（化３）及び／または（化４）に示
す。なお、このとき非水系の溶媒で洗浄する工程を省略
すると、シラノール基を多数含むポリシロキサン膜を形
成できた。
【００３６】
【化３】
【００３７】
【化４】
【００３８】なお、このときできたシロキサン単分子膜
４またはポリシロキサン膜は、基材とは−ＳｉＯ−の化
学結合を介して完全に結合されているので剥がれること
が無い。
４またはポリシロキサン膜は、基材とは−ＳｉＯ−の化
学結合を介して完全に結合されているので剥がれること
が無い。
【００３９】また、得られた単分子膜４またはポリシロ
キサン膜は、表面にＳｉＯＨ結合を数多く持ち、基材１
の当初の水酸基のおよそ３倍程度の数が生成される。そ
こでさらに、非水系ガスでパージした容器内で表層膜を
形成する。たとえば、化学吸着剤としてフロロカーボン
基とクロロシラン基とを含むＣＦ3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ
2 ）2 ＳｉＣｌ3 を選択し、この化学吸着剤を窒素ガス
雰囲気中で気化させる（これをフロロカーボン吸着雰囲
気と呼ぶ）。
キサン膜は、表面にＳｉＯＨ結合を数多く持ち、基材１
の当初の水酸基のおよそ３倍程度の数が生成される。そ
こでさらに、非水系ガスでパージした容器内で表層膜を
形成する。たとえば、化学吸着剤としてフロロカーボン
基とクロロシラン基とを含むＣＦ3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ
2 ）2 ＳｉＣｌ3 を選択し、この化学吸着剤を窒素ガス
雰囲気中で気化させる（これをフロロカーボン吸着雰囲
気と呼ぶ）。
【００４０】この吸着雰囲気中にシロキサン単分子膜４
またはポリシロキサン膜が形成された基材を３０分間入
れて放置し、その後非水系の溶媒で洗浄して、さらに水
で洗浄反応させると、基材と反応していないＣＦ3 （Ｃ
Ｆ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 分子は除去され、さら
に吸着された試薬は水と反応して図４に示したようにシ
ロキサン単分子膜またはポリシロキサン膜が形成された
基材表面に下記式（化５）で示す結合が形成できた。
またはポリシロキサン膜が形成された基材を３０分間入
れて放置し、その後非水系の溶媒で洗浄して、さらに水
で洗浄反応させると、基材と反応していないＣＦ3 （Ｃ
Ｆ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 分子は除去され、さら
に吸着された試薬は水と反応して図４に示したようにシ
ロキサン単分子膜またはポリシロキサン膜が形成された
基材表面に下記式（化５）で示す結合が形成できた。
【００４１】
【化５】
【００４２】シロキサン単分子膜４表面に生成された分
子の結合状態を図４に示す。図４に示したようにフッ素
を含む単分子膜５が、内層のシロキサン単分子膜４と化
学結合（共有結合）した状態で形成できた。
子の結合状態を図４に示す。図４に示したようにフッ素
を含む単分子膜５が、内層のシロキサン単分子膜４と化
学結合（共有結合）した状態で形成できた。
【００４３】このとき非水系の溶媒で洗浄する工程を省
略すると、フロロカーボン系ポリマー膜をシロキサン単
分子膜またはポリシロキサン膜表面に形成できた。な
お、単分子膜は碁番目試験を行なっても全く剥離するこ
とがなかった。
略すると、フロロカーボン系ポリマー膜をシロキサン単
分子膜またはポリシロキサン膜表面に形成できた。な
お、単分子膜は碁番目試験を行なっても全く剥離するこ
とがなかった。
【００４４】さらにまた、上記実施例では表層膜を形成
するフロロカーボン系吸着剤としてＣＦ3 （ＣＦ2 ）7
（ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を用いたが、アルキル鎖部分に
ビニル基やエチニル基を付加したり組み込んでおけば、
単分子膜形成後５メガラド程度の電子線照射で架橋でき
るので、さらに硬度を向上させることも可能である。
するフロロカーボン系吸着剤としてＣＦ3 （ＣＦ2 ）7
（ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を用いたが、アルキル鎖部分に
ビニル基やエチニル基を付加したり組み込んでおけば、
単分子膜形成後５メガラド程度の電子線照射で架橋でき
るので、さらに硬度を向上させることも可能である。
【００４５】さらにまた、本発明は含フッ素系吸着剤に
限定されるものではなく、例えば超薄膜で機械的強度を
有する炭化水素系膜であっても有用である。 実施例２ 第５図に示したように、アクリル樹脂を透明部分として
有するバックミラー１１を用いた。アクリル樹脂の表面
は撥水性であるので、表面を酸素を含むプラズマ中で１
００Ｗ、２０分処理して親水化した。この表面は、親水
性ではあるが水酸基を含む割合が少ないので、さらにク
ロロシリル基を含む物質としてオクタクロロシロキサン
（下記式（化６））を内層膜形成用吸着剤として用い、
限定されるものではなく、例えば超薄膜で機械的強度を
有する炭化水素系膜であっても有用である。 実施例２ 第５図に示したように、アクリル樹脂を透明部分として
有するバックミラー１１を用いた。アクリル樹脂の表面
は撥水性であるので、表面を酸素を含むプラズマ中で１
００Ｗ、２０分処理して親水化した。この表面は、親水
性ではあるが水酸基を含む割合が少ないので、さらにク
ロロシリル基を含む物質としてオクタクロロシロキサン
（下記式（化６））を内層膜形成用吸着剤として用い、
【００４６】
【化６】
【００４７】この（化６）に示す内層膜形成用吸着剤
を、非水系溶媒のフレオン１１３溶媒に３０％ｗｔ溶解
した溶液を作り、吸着室内に入れ気化させた（これをク
ロロシラン吸着雰囲気と呼ぶ）。その後基材を入れて３
０分間程度放置すると、バックミラー１１表面には親水
性のＯＨ基１２が多少とも存在するので表面で脱塩酸反
応が生じ、さらに未反応のクロロシリル基を含む物質
（化６）をフレオン１１３で洗浄除去すると、図６に示
すようにクロロシラン単分子膜が形成された。ここでク
ロロシリル基を含む物質として（化６）に示す吸着剤を
用いれば、バックミラー１１表面には少量の親水性のＯ
Ｈ基しか存在していなくとも、バックミラー１１表面で
脱塩酸反応が生じ下記式（化７）及び／または（化８）
等のように分子が−ＳｉＯ−結合を介して表面に固定さ
れる（図６）。
を、非水系溶媒のフレオン１１３溶媒に３０％ｗｔ溶解
した溶液を作り、吸着室内に入れ気化させた（これをク
ロロシラン吸着雰囲気と呼ぶ）。その後基材を入れて３
０分間程度放置すると、バックミラー１１表面には親水
性のＯＨ基１２が多少とも存在するので表面で脱塩酸反
応が生じ、さらに未反応のクロロシリル基を含む物質
（化６）をフレオン１１３で洗浄除去すると、図６に示
すようにクロロシラン単分子膜が形成された。ここでク
ロロシリル基を含む物質として（化６）に示す吸着剤を
用いれば、バックミラー１１表面には少量の親水性のＯ
Ｈ基しか存在していなくとも、バックミラー１１表面で
脱塩酸反応が生じ下記式（化７）及び／または（化８）
等のように分子が−ＳｉＯ−結合を介して表面に固定さ
れる（図６）。
【００４８】
【化７】
【００４９】
【化８】
【００５０】なお、このとき一般には未反応の吸着剤も
クロロシラン単分子膜１３上に存在するため、その後、
クロロホルムの非水系の溶媒で洗浄して、さらに水で洗
浄すると、バックミラー１１表面の水酸基と反応してい
ない分子は除去され、図７に示したようにバックミラー
１１表面に下記（化９）及び／または（化１０）等のシ
ロキサン単分子膜１４が得られた。
クロロシラン単分子膜１３上に存在するため、その後、
クロロホルムの非水系の溶媒で洗浄して、さらに水で洗
浄すると、バックミラー１１表面の水酸基と反応してい
ない分子は除去され、図７に示したようにバックミラー
１１表面に下記（化９）及び／または（化１０）等のシ
ロキサン単分子膜１４が得られた。
【００５１】
【化９】
【００５２】
【化１０】
【００５３】なお、このときフレオン溶媒で洗浄する工
程を省略すると、ポリシロキサン膜を形成できた。な
お、このときできたシロキサン単分子膜１４またはポリ
シロキサン膜は、バックミラー１１表面と−ＳｉＯ−の
化学結合を介して完全に結合されているので剥がれるこ
とが全く無い。また、得られたシロキサン単分子膜１４
は、表面に−ＳｉＯＨ結合を数多く持つ。当初の水酸基
のおよそ７倍程度の数が生成される。
程を省略すると、ポリシロキサン膜を形成できた。な
お、このときできたシロキサン単分子膜１４またはポリ
シロキサン膜は、バックミラー１１表面と−ＳｉＯ−の
化学結合を介して完全に結合されているので剥がれるこ
とが全く無い。また、得られたシロキサン単分子膜１４
は、表面に−ＳｉＯＨ結合を数多く持つ。当初の水酸基
のおよそ７倍程度の数が生成される。
【００５４】次に、ＣＦ3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 Ｓ
ｉＣｌ3 を２０ｗｔ％程度の濃度で溶解した非水系溶媒
（フレオン１１３）からなる溶液を気化させた雰囲気
（これをフロロカーボン吸着雰囲気と呼ぶ）中に、シロ
キサン単分子膜１４またはポリシロキサン膜の形成され
たバックミラー１１を１時間程度放置すると、シロキサ
ン単分子膜１４やポリシロキサン膜は表面に前記（化
５）の結合が生成され、図８に示したようにフッ素を含
む化学吸着単分子膜１５が、下層のシロキサン単分子膜
１４と化学結合した状態で鏡表面全面に亘りおよそ１．
５ｎｍの膜厚で形成できた。
ｉＣｌ3 を２０ｗｔ％程度の濃度で溶解した非水系溶媒
（フレオン１１３）からなる溶液を気化させた雰囲気
（これをフロロカーボン吸着雰囲気と呼ぶ）中に、シロ
キサン単分子膜１４またはポリシロキサン膜の形成され
たバックミラー１１を１時間程度放置すると、シロキサ
ン単分子膜１４やポリシロキサン膜は表面に前記（化
５）の結合が生成され、図８に示したようにフッ素を含
む化学吸着単分子膜１５が、下層のシロキサン単分子膜
１４と化学結合した状態で鏡表面全面に亘りおよそ１．
５ｎｍの膜厚で形成できた。
【００５５】なお、このとき非水系の溶媒で洗浄する工
程を省略すると、フロロカーボン系ポリマー膜を形成で
きた。この単分子膜やポリマー膜は剥離試験を行なって
も全く剥離することがなかった。また、本実施例のバッ
クミラーを用いて実使用を試みたが、表面の弗素の溌水
性の効果で水滴の付着は全くなく、誤ってバックミラー
面を毛髪で触った場合を想定し整髪油を付着させたが、
やはり表面に化学吸着した単分子膜中の弗素の溌油性の
効果で油は弾かれ曇ることはなかった。
程を省略すると、フロロカーボン系ポリマー膜を形成で
きた。この単分子膜やポリマー膜は剥離試験を行なって
も全く剥離することがなかった。また、本実施例のバッ
クミラーを用いて実使用を試みたが、表面の弗素の溌水
性の効果で水滴の付着は全くなく、誤ってバックミラー
面を毛髪で触った場合を想定し整髪油を付着させたが、
やはり表面に化学吸着した単分子膜中の弗素の溌油性の
効果で油は弾かれ曇ることはなかった。
【００５６】実施例３ 実施例２のアクリル樹脂をポリカーボネート樹脂に変更
し、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシランをトリ
デカフルオロオクチルトリクロルシランＣＦ3 （Ｃ
Ｆ2 ）5 （ＣＨ2 ）2 −ＳｉＣｌ3 に変えて、実施例２
と同様に実験をした。
し、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシランをトリ
デカフルオロオクチルトリクロルシランＣＦ3 （Ｃ
Ｆ2 ）5 （ＣＨ2 ）2 −ＳｉＣｌ3 に変えて、実施例２
と同様に実験をした。
【００５７】実施例４ 実施例２のアクリル樹脂をポリプロピレン樹脂に、ヘプ
タデカフルオロオクチルトリクロロシランをパーフルオ
ロドデシルトリクロルシランに変えて、実施例１と同様
の実験をした。
タデカフルオロオクチルトリクロロシランをパーフルオ
ロドデシルトリクロルシランに変えて、実施例１と同様
の実験をした。
【００５８】実施例５ 実施例２のアクリル樹脂をＡＢＳ樹脂に変えて、実施例
１と同様の実験をした。
１と同様の実験をした。
【００５９】実施例６ 実施例２のアクリル樹脂をエポキシ樹脂に変えて、実施
例１と同様の実験をした。
例１と同様の実験をした。
【００６０】実施例７ 実施例２のアクリル樹脂をポリウレタン樹脂に変えて、
実施例１と同様の実験をした。
実施例１と同様の実験をした。
【００６１】実施例８ 実施例２のアクリル樹脂をブタジエン−スチレンゴム樹
脂に変えて、実施例１と同様に実験をした。
脂に変えて、実施例１と同様に実験をした。
【００６２】実施例９ 実施例２のアクリル樹脂をブチルゴム樹脂に変えて、実
施例１と同様に実験をした。
施例１と同様に実験をした。
【００６３】実施例１０ 実施例２のアクリル樹脂をニトリルゴム樹脂に変えて、
実施例１と同様に実験をした。
実施例１と同様に実験をした。
【００６４】実施例１１ 実施例２のヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン
を１８−ノナデセニルトリクロルシランに変え、化学吸
着単分子膜形成後、窒素雰囲気下で３００ｋｅＶ、０．
０２Ｍｒａｄｓ-1の電子線を１分間照射した。
を１８−ノナデセニルトリクロルシランに変え、化学吸
着単分子膜形成後、窒素雰囲気下で３００ｋｅＶ、０．
０２Ｍｒａｄｓ-1の電子線を１分間照射した。
【００６５】実施例１２ 実施例２のヘオクタクロロシロキサンをテトラクロロシ
ランに変え、実施例２と同様に実験をした。
ランに変え、実施例２と同様に実験をした。
【００６６】実施例１３ 実施例２において、酸化処理する方法を１０ｗｔ％の重
クロム酸カリを含有する濃硫酸に５分浸漬する方法に変
えて、実施例１と同様に実験をした。
クロム酸カリを含有する濃硫酸に５分浸漬する方法に変
えて、実施例１と同様に実験をした。
【００６７】比較例１ ポリカーボネート樹脂の表面にシランカップリング剤
（ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン）の２
ｗｔ％メタノール溶液をスピンコートした後、１２０℃
で１時間乾燥した。
（ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン）の２
ｗｔ％メタノール溶液をスピンコートした後、１２０℃
で１時間乾燥した。
【００６８】比較例２ 実施例２のアクリル樹脂を酸化処理せずに、ヘプタデカ
フルオロデシルトリクロロシランの化学吸着単分子膜を
形成した。
フルオロデシルトリクロロシランの化学吸着単分子膜を
形成した。
【００６９】比較例３ 実施例２のアクリル樹脂の表面にポリテトラフルオロエ
チレンの懸濁液をスプレーコートし、１２０℃で１時間
加熱乾燥した。
チレンの懸濁液をスプレーコートし、１２０℃で１時間
加熱乾燥した。
【００７０】実施例１〜１３および比較例１〜２の試料
の超純水および油（日清サラダ油）に対する接触角を調
べた。接触角の測定は化学吸着膜あるいはコーティング
膜を形成した直後と、および水でぬらした布で表面を１
００００回摩擦した後とで行った。その結果を表１に示
す。
の超純水および油（日清サラダ油）に対する接触角を調
べた。接触角の測定は化学吸着膜あるいはコーティング
膜を形成した直後と、および水でぬらした布で表面を１
００００回摩擦した後とで行った。その結果を表１に示
す。
【００７１】
【表１】
【００７２】表１から明らかなように、本発明の高分子
組成物では表面を水を含んだ布で繰り返し擦って洗浄し
た後でも、撥水・撥油性あるいは親水性を保持していた
が、比較例１では撥水・撥油性がなくなっていた。ま
た、高分子組成物の表面を酸化処理しなかった比較例２
の試料では、シロキサン結合を有する化学吸着膜を形成
することができなかった。本発明の表面にフッ化アルキ
ル基を含有する化学吸着単分子膜を形成したものは防汚
性が優れていた。摩擦試験後、実施例１の試料をサラダ
油に浸漬し、ティッシュペーパーで拭き取ると、油分が
きれいにふきとれたが、比較例の１の試料では、ティッ
シュペーパーで数回拭き取った後でも、表面に油膜がで
きべとついていた。
組成物では表面を水を含んだ布で繰り返し擦って洗浄し
た後でも、撥水・撥油性あるいは親水性を保持していた
が、比較例１では撥水・撥油性がなくなっていた。ま
た、高分子組成物の表面を酸化処理しなかった比較例２
の試料では、シロキサン結合を有する化学吸着膜を形成
することができなかった。本発明の表面にフッ化アルキ
ル基を含有する化学吸着単分子膜を形成したものは防汚
性が優れていた。摩擦試験後、実施例１の試料をサラダ
油に浸漬し、ティッシュペーパーで拭き取ると、油分が
きれいにふきとれたが、比較例の１の試料では、ティッ
シュペーパーで数回拭き取った後でも、表面に油膜がで
きべとついていた。
【００７３】本発明は光学材料としても利用できる。実
施例３のポリカーボネート樹脂の可視光に対する透過率
は９２％で、化学吸着単分子膜を形成する前と変化なか
ったが、比較例３のポリテトラフルオロエチレンをコー
ティングした試料では、透過率が５０％以下に低下しか
つ、すり硝子のように透明度が悪くなっていた。
施例３のポリカーボネート樹脂の可視光に対する透過率
は９２％で、化学吸着単分子膜を形成する前と変化なか
ったが、比較例３のポリテトラフルオロエチレンをコー
ティングした試料では、透過率が５０％以下に低下しか
つ、すり硝子のように透明度が悪くなっていた。
【００７４】実施例１４ 親水性ではあるが水酸基を含む割合が少ないステンレス
製包丁（ＡｌやＣｕ製でもよい。）を用い、クロロシリ
ル基を複数個含む物質、たとえば、ＳｉＣｌ4 （ＳｉＨ
Ｃｌ3 、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2 Ｏ）n −
ＳｉＣｌ3 （ｎは整数）等でもよいが、ＳｉＣｌ4 を用
いれば、分子が小さく水酸基に対する活性も大きいの
で、包丁表面を均一に親水化する効果が大きい。）を気
化させた雰囲気中に入れて３０分間程度放置し、さらに
空気中に放置すると、包丁表面には親水性のＯＨ基が多
少とも存在するので、表面で脱塩酸反応が生じ、さらに
空気中の水と反応してシラノール結合を含むポリシロキ
サン系膜が形成された。
製包丁（ＡｌやＣｕ製でもよい。）を用い、クロロシリ
ル基を複数個含む物質、たとえば、ＳｉＣｌ4 （ＳｉＨ
Ｃｌ3 、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2 Ｏ）n −
ＳｉＣｌ3 （ｎは整数）等でもよいが、ＳｉＣｌ4 を用
いれば、分子が小さく水酸基に対する活性も大きいの
で、包丁表面を均一に親水化する効果が大きい。）を気
化させた雰囲気中に入れて３０分間程度放置し、さらに
空気中に放置すると、包丁表面には親水性のＯＨ基が多
少とも存在するので、表面で脱塩酸反応が生じ、さらに
空気中の水と反応してシラノール結合を含むポリシロキ
サン系膜が形成された。
【００７５】なお、このときできた膜は包丁とは−Ｓｉ
Ｏ−の化学結合を介して完全に結合されているので、分
解反応などがない限り剥がれることが無い。また、得ら
れたポリシロキサン膜は表面にＳｉＯＨ結合を数多く持
つ。当初の水酸基のおよそ１０倍程度の数が生成され
る。
Ｏ−の化学結合を介して完全に結合されているので、分
解反応などがない限り剥がれることが無い。また、得ら
れたポリシロキサン膜は表面にＳｉＯＨ結合を数多く持
つ。当初の水酸基のおよそ１０倍程度の数が生成され
る。
【００７６】次に、フッ化炭素基及びクロロシラン基を
含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、ＣＦ3 （ＣＦ
2 ）7 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を用い、１０％程度の濃
度で溶かした８０％ｎ−ヘキサデカン、１２％四塩化炭
素、８％クロロホルム溶液を調整し、この溶液の一部を
気化させた雰囲気中にポリシロキサン膜の形成された包
丁を入れて１時間程度放置し、次いでクロロホルム等の
非水溶液で未反応物を洗浄・除去し、次いで水と反応さ
せるか、空気中にさらして空気中の水分と反応させる
と、包丁表面に前記シロキサン膜の表面にＣＦ3 （ＣＦ
2 ）7 （ＣＨ2 ） 2 Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生成され、
フッ素を含む単分子膜が下層のポリシロキサン膜と化学
結合した状態で包丁全面に亘りおよそ２０オングストロ
ーム（２．０ｎｍ）の膜厚で形成できた。また、前記累
積膜は碁番目試験を行なっても全く剥離することがなか
った。
含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、ＣＦ3 （ＣＦ
2 ）7 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を用い、１０％程度の濃
度で溶かした８０％ｎ−ヘキサデカン、１２％四塩化炭
素、８％クロロホルム溶液を調整し、この溶液の一部を
気化させた雰囲気中にポリシロキサン膜の形成された包
丁を入れて１時間程度放置し、次いでクロロホルム等の
非水溶液で未反応物を洗浄・除去し、次いで水と反応さ
せるか、空気中にさらして空気中の水分と反応させる
と、包丁表面に前記シロキサン膜の表面にＣＦ3 （ＣＦ
2 ）7 （ＣＨ2 ） 2 Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生成され、
フッ素を含む単分子膜が下層のポリシロキサン膜と化学
結合した状態で包丁全面に亘りおよそ２０オングストロ
ーム（２．０ｎｍ）の膜厚で形成できた。また、前記累
積膜は碁番目試験を行なっても全く剥離することがなか
った。
【００７７】実施例１５ 親水性ではあるが水酸基を含む割合が少ないアルミニウ
ム鍋の場合、クロロシリル基を複数個含む物質として、
ＳｉＣｌ4 を選択し、非水系溶媒であるクロロホルム溶
媒に１０％溶解した。この溶液を入れ気化させた吸着室
内に陶磁器をいれ３０分間程度放置すると、アルミ鍋表
面には親水性のＯＨ基が多少とも存在するので、表面で
脱塩酸反応が生じＳｉ（Ｃｌ）3 Ｏ−や−ＯＳｉ（Ｃ
ｌ）2 Ｏ−のように分子が−ＳｉＯ−結合を介して表面
に固定される。
ム鍋の場合、クロロシリル基を複数個含む物質として、
ＳｉＣｌ4 を選択し、非水系溶媒であるクロロホルム溶
媒に１０％溶解した。この溶液を入れ気化させた吸着室
内に陶磁器をいれ３０分間程度放置すると、アルミ鍋表
面には親水性のＯＨ基が多少とも存在するので、表面で
脱塩酸反応が生じＳｉ（Ｃｌ）3 Ｏ−や−ＯＳｉ（Ｃ
ｌ）2 Ｏ−のように分子が−ＳｉＯ−結合を介して表面
に固定される。
【００７８】その後、非水系の溶媒例えばクロロホルム
でよく洗浄して、さらに水で洗浄すると、アルミ鍋と反
応していないＳｉＣｌ4 分子は除去され、アルミ鍋表面
にＳｉ（ＯＨ）3 Ｏ−や−ＯＳｉ（ＯＨ）2 Ｏ−等のシ
ロキサン単分子膜が得られた。
でよく洗浄して、さらに水で洗浄すると、アルミ鍋と反
応していないＳｉＣｌ4 分子は除去され、アルミ鍋表面
にＳｉ（ＯＨ）3 Ｏ−や−ＯＳｉ（ＯＨ）2 Ｏ−等のシ
ロキサン単分子膜が得られた。
【００７９】なお、このときできた単分子膜はアルミ鍋
表面とは−ＳｉＯ−の化学結合を介して完全に結合され
ているので剥がれることが無い。また、得られた単分子
膜は表面にＳｉＯＨ結合を数多く持つ。当初の水酸基の
およそ３倍程度の数が生成される。
表面とは−ＳｉＯ−の化学結合を介して完全に結合され
ているので剥がれることが無い。また、得られた単分子
膜は表面にＳｉＯＨ結合を数多く持つ。当初の水酸基の
およそ３倍程度の数が生成される。
【００８０】そこでさらに、フッ化炭素基及びクロロシ
ラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、ＣＦ
3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を用い、５０％
程度の濃度で溶かしたクロロホルム溶液を調整し、この
溶液を入れた吸着室内に前記表面にＳｉＯＨ結合を数多
く持つ単分子膜の形成されたアルミ鍋をいれ室温で１時
間程度放置し、次いで水と反応させるか、空気中にさら
して空気中の水分と反応させると、アルミ鍋表面でＣＦ
3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生
成され、フッ素を含むフロロカーボン系のポリマー膜が
下層のシロキサン単分子膜と化学結合した状態でアルミ
鍋表面全面に亘り約２０オングストローム（２．０ｎ
ｍ）の膜厚で形成できた。なお、このポリマー膜は剥離
試験を行なっても全く剥離することがなかった。
ラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、ＣＦ
3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を用い、５０％
程度の濃度で溶かしたクロロホルム溶液を調整し、この
溶液を入れた吸着室内に前記表面にＳｉＯＨ結合を数多
く持つ単分子膜の形成されたアルミ鍋をいれ室温で１時
間程度放置し、次いで水と反応させるか、空気中にさら
して空気中の水分と反応させると、アルミ鍋表面でＣＦ
3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生
成され、フッ素を含むフロロカーボン系のポリマー膜が
下層のシロキサン単分子膜と化学結合した状態でアルミ
鍋表面全面に亘り約２０オングストローム（２．０ｎ
ｍ）の膜厚で形成できた。なお、このポリマー膜は剥離
試験を行なっても全く剥離することがなかった。
【００８１】実施例１６ 親水性ではあるが水酸基を含む割合が少ない鉄製フライ
パンを選択し、クロロシリル基を複数個含む物質として
ＳｉＣｌ4 をクロロホルム溶媒に１５％溶解した溶液に
を入れ気化させた吸着室内に室温で３０分間程度放置す
ると、鉄製フライパン表面には親水性のＯＨ基が多少と
も存在するので、表面で脱塩酸反応が生じて−ＳｉＯ−
基が形成される。その後水で洗浄すると、フライパン表
面と反応していない−ＳｉＣｌやＳｉＣｌ4 分子も反応
して、フライパン表面にポリシロキサン膜が形成され
た。
パンを選択し、クロロシリル基を複数個含む物質として
ＳｉＣｌ4 をクロロホルム溶媒に１５％溶解した溶液に
を入れ気化させた吸着室内に室温で３０分間程度放置す
ると、鉄製フライパン表面には親水性のＯＨ基が多少と
も存在するので、表面で脱塩酸反応が生じて−ＳｉＯ−
基が形成される。その後水で洗浄すると、フライパン表
面と反応していない−ＳｉＣｌやＳｉＣｌ4 分子も反応
して、フライパン表面にポリシロキサン膜が形成され
た。
【００８２】なお、このときできたポリシロキサン膜は
フライパン表面と−ＳｉＯ−の化学結合を介して完全に
結合されているので剥がれることが無い。また、得られ
たポリシロキサン膜表面にＳｉＯＨ結合を数多く持つ。
当初の水酸基のおよそ７倍程度の数が生成される。
フライパン表面と−ＳｉＯ−の化学結合を介して完全に
結合されているので剥がれることが無い。また、得られ
たポリシロキサン膜表面にＳｉＯＨ結合を数多く持つ。
当初の水酸基のおよそ７倍程度の数が生成される。
【００８３】そこでさらに、フッ化炭素基及びクロロシ
ラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、ＣＦ
3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を用い、この溶
液を入れ気化させた吸着室内に前記表面にＳｉＯＨ結合
を数多く持つ単分子膜の形成されたフライパンを１時間
程度放置し、次いで水と反応させるか、空気中にさらし
て空気中の水分と反応させると、表面でＣＦ3 （Ｃ
Ｆ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生成さ
れ、フッ素を含むフロロカーボン系のポリマー膜が下層
のポリシロキサン膜と化学結合した状態でフライパン表
面全面に亘りおよそ１００オングストローム（１０ｎ
ｍ）の膜厚で形成できた。なお、このポリマー膜も剥離
試験を行なっても全く剥離することがなかった。
ラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、ＣＦ
3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を用い、この溶
液を入れ気化させた吸着室内に前記表面にＳｉＯＨ結合
を数多く持つ単分子膜の形成されたフライパンを１時間
程度放置し、次いで水と反応させるか、空気中にさらし
て空気中の水分と反応させると、表面でＣＦ3 （Ｃ
Ｆ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生成さ
れ、フッ素を含むフロロカーボン系のポリマー膜が下層
のポリシロキサン膜と化学結合した状態でフライパン表
面全面に亘りおよそ１００オングストローム（１０ｎ
ｍ）の膜厚で形成できた。なお、このポリマー膜も剥離
試験を行なっても全く剥離することがなかった。
【００８４】実施例１７ 親水性の磁器製コーヒーカップを選択し、炭化水素基及
びクロロシラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、た
とえば、ＣＦ3 （ＣＦ2 ）5 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を
用い、５％程度の濃度で溶かしたクロロホルム溶液を調
整し、この溶液を気化した雰囲気に前記コーヒーカップ
を入れ室温で１時間程度放置し、次いでクロロホルム等
の非水溶液で未反応物を洗浄・除去し、さらに水と反応
させるか、空気中にさらして空気中の水分と反応させる
と、表面にＣＦ3 （ＣＦ2 ）5 （ＣＨ2 ）2 Ｓｉ（Ｏ
−）3 の結合が生成され、フロロカーボン系の単分子膜
がコーヒーカップ表面に直接全面に亘りおよそ１５オン
グストローム（１. ５ｎｍ）の膜厚で形成できた。な
お、この単分子膜はきわめて透明であり剥離試験を行な
っても全く剥離することがなかった。
びクロロシラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、た
とえば、ＣＦ3 （ＣＦ2 ）5 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を
用い、５％程度の濃度で溶かしたクロロホルム溶液を調
整し、この溶液を気化した雰囲気に前記コーヒーカップ
を入れ室温で１時間程度放置し、次いでクロロホルム等
の非水溶液で未反応物を洗浄・除去し、さらに水と反応
させるか、空気中にさらして空気中の水分と反応させる
と、表面にＣＦ3 （ＣＦ2 ）5 （ＣＨ2 ）2 Ｓｉ（Ｏ
−）3 の結合が生成され、フロロカーボン系の単分子膜
がコーヒーカップ表面に直接全面に亘りおよそ１５オン
グストローム（１. ５ｎｍ）の膜厚で形成できた。な
お、この単分子膜はきわめて透明であり剥離試験を行な
っても全く剥離することがなかった。
【００８５】実施例１８ 親水性の磁器製皿を選択し、炭化水素基及びクロロシラ
ン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、たとえば、ＣＦ
3 （ＣＦ2 ）5 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を用い、５％程
度の濃度で溶かしたクロロホルム溶液を調整し、この溶
液を気化した雰囲気に前記皿を入れ室温で１時間程度放
置し、さらに水と反応させるか、空気中にさらして空気
中の水分と反応させると、表面にＣＦ3 （ＣＦ2 ）
5（ＣＨ2 ） 2 Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生成され、フロ
ロカーボン系のポリマー膜が表面に直接全面に亘りおよ
そ１００オングストローム（１０ｎｍ）の膜厚で形成で
きた。なお、このポリマー膜も透明であり剥離試験を行
なっても全く剥離することがなかった。
ン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、たとえば、ＣＦ
3 （ＣＦ2 ）5 （ＣＨ2 ）2 ＳｉＣｌ3 を用い、５％程
度の濃度で溶かしたクロロホルム溶液を調整し、この溶
液を気化した雰囲気に前記皿を入れ室温で１時間程度放
置し、さらに水と反応させるか、空気中にさらして空気
中の水分と反応させると、表面にＣＦ3 （ＣＦ2 ）
5（ＣＨ2 ） 2 Ｓｉ（Ｏ−）3 の結合が生成され、フロ
ロカーボン系のポリマー膜が表面に直接全面に亘りおよ
そ１００オングストローム（１０ｎｍ）の膜厚で形成で
きた。なお、このポリマー膜も透明であり剥離試験を行
なっても全く剥離することがなかった。
【００８６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の方法は気
相雰囲気中で、基材表面に単分子膜やポリマー膜を形成
するため、プラスチック、セラミックス、ガラス、その
他各種材料にも、効率よく化学吸着膜を累積形成でき
る。そして、吸着溶媒が不要で、且つ短時間で吸着膜を
効率よく、基材と密着性よく且つピンホール無く薄く均
一に形成することができる。
相雰囲気中で、基材表面に単分子膜やポリマー膜を形成
するため、プラスチック、セラミックス、ガラス、その
他各種材料にも、効率よく化学吸着膜を累積形成でき
る。そして、吸着溶媒が不要で、且つ短時間で吸着膜を
効率よく、基材と密着性よく且つピンホール無く薄く均
一に形成することができる。
【００８７】また、気相雰囲気中でシロキサン系単分子
膜あるいはポリシロキサン膜を形成し、さらにシロキサ
ン系単分子膜あるいはポリシロキサン膜を介して化学吸
着単分子膜あるいはポリマー膜を形成するため、基材表
面に存在する水酸基、アミノ基、イミノ基等の活性水素
基が少ない金属、プラスチック、セラミックス、ガラ
ス、その他各種材料にも、効率よく且つ密着性良く化学
吸着単分子膜やポリマー膜を累積形成できる。
膜あるいはポリシロキサン膜を形成し、さらにシロキサ
ン系単分子膜あるいはポリシロキサン膜を介して化学吸
着単分子膜あるいはポリマー膜を形成するため、基材表
面に存在する水酸基、アミノ基、イミノ基等の活性水素
基が少ない金属、プラスチック、セラミックス、ガラ
ス、その他各種材料にも、効率よく且つ密着性良く化学
吸着単分子膜やポリマー膜を累積形成できる。
【００８８】また、吸着試薬としてフロロカ−ボン基と
クロロシリル基とを含む化合物を用いると、Ａｌ、Ｃｕ
若しくはステンレスの様な金属基材にも、撥水撥油性、
防汚性、耐久性などに優れたフロロカーボン系単分子膜
を基材と化学結合した状態で高密度にピンホール無く、
かつ均一な厚みで、非常に薄く形成できる。従って、耐
久性の極めて高い高性能フロロカーボン系超薄膜を提供
できる。
クロロシリル基とを含む化合物を用いると、Ａｌ、Ｃｕ
若しくはステンレスの様な金属基材にも、撥水撥油性、
防汚性、耐久性などに優れたフロロカーボン系単分子膜
を基材と化学結合した状態で高密度にピンホール無く、
かつ均一な厚みで、非常に薄く形成できる。従って、耐
久性の極めて高い高性能フロロカーボン系超薄膜を提供
できる。
【００８９】従って、本発明の化学吸着単分子膜は、エ
レクトロニクス製品特にホットプレートや炊飯器などの
電化製品、自動車、産業機器、鏡、眼鏡レンズ等の耐熱
性、耐候性、耐摩耗性超薄膜コーティングを必要とする
機器に適用できる効果もある。
レクトロニクス製品特にホットプレートや炊飯器などの
電化製品、自動車、産業機器、鏡、眼鏡レンズ等の耐熱
性、耐候性、耐摩耗性超薄膜コーティングを必要とする
機器に適用できる効果もある。
【図１】本発明の第１の実施例における有機単分子膜の
累積方法の工程を示したもので、基材表面を分子レベル
まで拡大した模式断面図である。
累積方法の工程を示したもので、基材表面を分子レベル
まで拡大した模式断面図である。
【図２】本発明の第１の実施例における有機単分子膜の
累積方法の工程を示したもので、基材表面にクロロシラ
ン単分子膜を形成した段階を分子レベルまで拡大した模
式断面図である。
累積方法の工程を示したもので、基材表面にクロロシラ
ン単分子膜を形成した段階を分子レベルまで拡大した模
式断面図である。
【図３】本発明の第１の実施例における有機単分子膜の
累積方法の工程を示したもので、基材表面にシロキサン
系単分子膜状の内層膜を形成する中間段階を分子レベル
まで拡大した模式断面図である。
累積方法の工程を示したもので、基材表面にシロキサン
系単分子膜状の内層膜を形成する中間段階を分子レベル
まで拡大した模式断面図である。
【図４】本発明の第１の実施例における有機単分子膜の
累積方法の工程を示したもので、基材表面の内層膜の上
にフロロカーボン系単分子膜の表層膜を累積した段階を
分子レベルまで拡大した模式断面図である。
累積方法の工程を示したもので、基材表面の内層膜の上
にフロロカーボン系単分子膜の表層膜を累積した段階を
分子レベルまで拡大した模式断面図である。
【図５】本発明の第２の実施例における有機単分子膜の
累積方法の工程を示したもので、基材表面を分子レベル
まで拡大した模式断面図である。
累積方法の工程を示したもので、基材表面を分子レベル
まで拡大した模式断面図である。
【図６】本発明の第２の実施例における有機単分子膜の
累積方法の工程を示したもので、基材表面にクロロシラ
ン単分子膜を形成した段階を分子レベルまで拡大した模
式断面図である。
累積方法の工程を示したもので、基材表面にクロロシラ
ン単分子膜を形成した段階を分子レベルまで拡大した模
式断面図である。
【図７】本発明の第２の実施例における有機単分子膜の
累積方法の工程を示したもので、基材表面にシロキサン
系単分子膜状の内層膜を形成する中間段階を分子レベル
まで拡大した模式断面図である。
累積方法の工程を示したもので、基材表面にシロキサン
系単分子膜状の内層膜を形成する中間段階を分子レベル
まで拡大した模式断面図である。
【図８】本発明の第２の実施例における有機単分子膜の
累積方法の工程を示したもので、基材表面の内層膜の上
にフロロカーボン系単分子膜の表層膜を累積した段階を
分子レベルまで拡大した模式断面図である。
累積方法の工程を示したもので、基材表面の内層膜の上
にフロロカーボン系単分子膜の表層膜を累積した段階を
分子レベルまで拡大した模式断面図である。
１，１１ 基材 ２，１２ ＯＨ基 ３、１３ クロロシラン単分子膜 ４，１４ シロキサン単分子膜 ５，１５ フッ素を含む単分子膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 東野 秀隆 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特表 平２−500045（ＪＰ，Ａ)
Claims (11)
- 【請求項１】 表面に活性水素基を含む基材の表面に化
学吸着膜を形成する方法であって、前記基材表面に少な
くともクロロシリル基を有するクロロシラン系吸着剤の
気体を接触させて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応さ
せ、その後、非水系有機溶液を用いて基材表面上に残っ
た未反応クロロシラン系吸着剤を洗浄除去し、次いで、
水と反応させて基材表面に単分子吸着膜を形成すること
を特徴とする化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項２】 表面に活性水素基を含む基材の表面に化
学吸着膜を形成する方法であって、前記基材表面に少な
くともクロロシリル基と直鎖状炭素鎖を含むクロロシラ
ン系吸着剤の気体を接触させて基材表面の活性水素基と
脱塩酸反応させ、その後に、水と反応させてポリマー状
の化学吸着膜を形成することを特徴とする化学吸着膜の
製造方法。 - 【請求項３】 表面に活性水素基を含む基材の表面に、
クロロシリル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気
体を接触させて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させ
る工程と、非水系有機溶媒を用いて前記未反応吸着剤を
洗浄除去する工程と、水と反応させる工程とにより前記
基材上にシラノール基を複数含むシロキサン系単分子内
層膜を形成する工程と、その後、一端にクロルシラン基
を有する直鎖状分子からなる外層膜用吸着剤の気体を接
触させて内層膜表面と脱塩酸反応させる工程と、非水系
有機溶媒を用いて未反応の前記外層膜用吸着剤を洗浄除
去する洗浄工程と、水と反応させる工程とにより、単分
子内層膜の表面に単分子外層膜を積層することを特徴と
する化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項４】 表面に活性水素基を含む基材の表面に、
クロロシリル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気
体を接触させて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させ
る工程と、水と反応させる工程とにより前記基材上にシ
ラノール基を複数含むシロキサン系のポリマー内層膜を
形成する工程と、その後、一端にクロルシラン基を有す
る直鎖状分子からなる外層膜用吸着剤の気体を接触させ
て内層膜表面と脱塩酸反応させる工程と、非水系有機溶
媒を用いて未反応の前記外層膜用吸着剤を洗浄除去する
洗浄工程と、水と反応させる工程とにより、ポリマー状
内層膜の表面に単分子外層膜を積層することを特徴とす
る化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項５】 表面に活性水素基を含む基材の表面に、
クロロシリル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気
体を接触させて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させ
る工程と、非水系有機溶媒を用いて前記未反応吸着剤を
洗浄除去する工程と、水と反応させる工程とにより前記
基材上にシラノール基を複数含むシロキサン系単分子内
層膜を形成する工程と、その後、一端にクロルシラン基
を有する直鎖状分子からなる外層膜用吸着剤の気体を接
触させて内層膜表面と脱塩酸反応させる工程と水と反応
させる工程とにより、単分子内層膜の表面にポリマー状
外層膜を積層することを特徴とする化学吸着膜の製造方
法。 - 【請求項６】 表面に活性水素基を含む基材の表面に、
クロロシリル基を分子内に複数含む内層膜用吸着剤の気
体を接触させて基材表面の活性水素基と脱塩酸反応させ
る工程と、水と反応させる工程とにより前記基材上にシ
ラノール基を複数含むシロキサン系ポリマー状内層膜を
形成する工程と、その後、一端にクロルシラン基を有す
る直鎖状分子からなる外層膜用吸着剤の気体を接触させ
て内層膜表面と脱塩酸反応させる工程と、水と反応させ
る工程とにより、ポリマー状内層膜の表面にポリマー状
外層膜を積層することを特徴とする化学吸着膜の製造方
法。 - 【請求項７】 クロロシラン系吸着剤が、直鎖状炭化水
素分子、直鎖状炭化水素分子の少なくとも一部が−ＣＦ
2 −基で置換または付加されている分子、またはフロロ
カーボン系分子を含む請求項１〜６のいずれかに記載の
化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項８】 クロロシラン系吸着剤が、ＣＦ3 −（Ｃ
Ｆ2 ）n −（Ｒ）m −ＳｉＸp Ｃｌ3-p （ｎは０または
整数、Ｒはアルキル基、ビニル基、エチニル基、シリコ
ン若しくは酸素原子を含む置換基、ｍは０又は１、Ｘは
Ｈ，アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基
又は含フッ素アルコキシ基の置換基、ｐは０、１または
２）である請求項１〜６のいずれかに記載の化学吸着膜
の製造方法。 - 【請求項９】 クロロシリル基を分子内に複数含む吸着
剤が、ＳｉＣｌ4 、ＳｉＨＣｌ3 、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 、又
はＣｌ−（ＳｉＣｌ2 Ｏ）n −ＳｉＣｌ3 （但しｎは整
数）から選ばれる少なくとも一の化合物である請求項３
〜６のいずれかに記載の化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項１０】 基材が、金属、セラミックス、ガラ
ス、プラスチック、半導体、無機物成形体、有機物成形
体から選ばれる請求項１〜６のいずれかに記載の化学吸
着膜の製造方法。 - 【請求項１１】 プラスチックが、予め表面を酸素を含
むプラズマまたはコロナ雰囲気で処理して親水性化した
プラスチックである請求項１０に記載の化学吸着膜の製
造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3332328A JP2603017B2 (ja) | 1991-12-16 | 1991-12-16 | 化学吸着膜の製造方法 |
| US07/984,478 US5372851A (en) | 1991-12-16 | 1992-12-02 | Method of manufacturing a chemically adsorbed film |
| DE69224888T DE69224888T2 (de) | 1991-12-16 | 1992-12-14 | Verfahren zur Herstellung eines chemisch adsorbierten Films |
| EP92121270A EP0547550B1 (en) | 1991-12-16 | 1992-12-14 | Method of manufacturing a chemically adsorbed film |
| KR1019920024429A KR970001519B1 (ko) | 1991-12-16 | 1992-12-16 | 화학흡착막의 기상제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3332328A JP2603017B2 (ja) | 1991-12-16 | 1991-12-16 | 化学吸着膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05161844A JPH05161844A (ja) | 1993-06-29 |
| JP2603017B2 true JP2603017B2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=18253737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3332328A Expired - Lifetime JP2603017B2 (ja) | 1991-12-16 | 1991-12-16 | 化学吸着膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2603017B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6482524B1 (en) * | 1997-03-11 | 2002-11-19 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Substrate having a treatment surface |
| US6770572B1 (en) * | 1999-01-26 | 2004-08-03 | Alliedsignal Inc. | Use of multifunctional si-based oligomer/polymer for the surface modification of nanoporous silica films |
| EP1292973B1 (en) | 2000-06-23 | 2015-09-09 | Honeywell International, Inc. | Method to restore hydrophobicity in dielectric films and materials |
| EP1424355B1 (en) | 2001-08-21 | 2016-01-13 | Fujikura Rubber Ltd. | Method for surface treatment of rubber, process for production of rubber articles, rubber compositions, rubber moldings and process for production thereof |
| US7915181B2 (en) | 2003-01-25 | 2011-03-29 | Honeywell International Inc. | Repair and restoration of damaged dielectric materials and films |
| JP5343271B2 (ja) * | 2003-09-17 | 2013-11-13 | 小川 一文 | 撥水撥油防汚性ガラス板とその製造方法及びそれを用いた自動車と電磁調理器 |
| US8475666B2 (en) | 2004-09-15 | 2013-07-02 | Honeywell International Inc. | Method for making toughening agent materials |
| JP4759711B2 (ja) * | 2003-12-22 | 2011-08-31 | 小川 一文 | 防汚性窯業製品とその製造方法 |
| JP2007210197A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 樹脂基体およびその製造方法 |
| CN114045492B (zh) * | 2021-12-28 | 2024-02-27 | 金宏气体股份有限公司 | 一种用于电子级羰基硫存储容器的界面处理工艺及应用 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8618322D0 (en) * | 1986-07-28 | 1986-09-03 | 3I Res Expl Ltd | Bonded chromotographic stationary phase |
-
1991
- 1991-12-16 JP JP3332328A patent/JP2603017B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05161844A (ja) | 1993-06-29 |
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