JP2601179Y2 - 基板保持装置 - Google Patents
基板保持装置Info
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- JP2601179Y2 JP2601179Y2 JP1993068910U JP6891093U JP2601179Y2 JP 2601179 Y2 JP2601179 Y2 JP 2601179Y2 JP 1993068910 U JP1993068910 U JP 1993068910U JP 6891093 U JP6891093 U JP 6891093U JP 2601179 Y2 JP2601179 Y2 JP 2601179Y2
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- clamper
- substrate
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、例えばイオン注入装
置、薄膜形成装置、ドライエッチング装置等に用いられ
るものであって、真空容器内において処理対象の基板を
保持する基板保持装置に関し、より具体的には、その基
板を押さえ付けるクランパーおよび基板を支える昇降ピ
ン等を昇降させる機構の改良に関する。
置、薄膜形成装置、ドライエッチング装置等に用いられ
るものであって、真空容器内において処理対象の基板を
保持する基板保持装置に関し、より具体的には、その基
板を押さえ付けるクランパーおよび基板を支える昇降ピ
ン等を昇降させる機構の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の基板保持装置の従来例を図３に
示す。この基板保持装置は、真空容器２２内に設けられ
ていて基板（例えばガラス基板等）４を支持するホルダ
６と、基板４の周縁部をこのホルダ６に対して押さえ付
ける環状のクランパー８と、ホルダ６を上下動自在に貫
通していて先端部にクランパー８が取り付けられた複数
本（この例では図４に示すように４本）のクランパー軸
１０と、各クランパー１０をホルダ６の下方に向けて弾
性的に押し下げる複数のばね（この例では圧縮コイルば
ね）１４と、各クランパー軸１０間を連結する連結板１
６と、この連結板１６に、ホルダ６を上下動自在に貫通
するように取り付けられていて基板４の縁を支える複数
本（この例では図４に示すように４本）の昇降ピン１８
とを備えている。
示す。この基板保持装置は、真空容器２２内に設けられ
ていて基板（例えばガラス基板等）４を支持するホルダ
６と、基板４の周縁部をこのホルダ６に対して押さえ付
ける環状のクランパー８と、ホルダ６を上下動自在に貫
通していて先端部にクランパー８が取り付けられた複数
本（この例では図４に示すように４本）のクランパー軸
１０と、各クランパー１０をホルダ６の下方に向けて弾
性的に押し下げる複数のばね（この例では圧縮コイルば
ね）１４と、各クランパー軸１０間を連結する連結板１
６と、この連結板１６に、ホルダ６を上下動自在に貫通
するように取り付けられていて基板４の縁を支える複数
本（この例では図４に示すように４本）の昇降ピン１８
とを備えている。
【０００３】ホルダ６内には、保持した基板４を冷却す
るための冷媒を流す冷媒通路７が設けられている。各ク
ランパー軸１０は、リニヤ軸受１２によって支えられて
いる。各昇降ピン１８は、その先端部がクランパー８よ
り所定寸法だけ下に位置するように連結板１６に取り付
けられている。
るための冷媒を流す冷媒通路７が設けられている。各ク
ランパー軸１０は、リニヤ軸受１２によって支えられて
いる。各昇降ピン１８は、その先端部がクランパー８よ
り所定寸法だけ下に位置するように連結板１６に取り付
けられている。
【０００４】ホルダ６は、通常はこの例のように真空容
器２２を回転自在に貫通する回転駆動軸２０に取り付け
られており、それによって、処理中に基板４を回転させ
て処理の均一性を高めることができるようにしている。
器２２を回転自在に貫通する回転駆動軸２０に取り付け
られており、それによって、処理中に基板４を回転させ
て処理の均一性を高めることができるようにしている。
【０００５】更にこの基板保持装置は、真空容器２２の
外側であって、回転駆動軸２０を中心にほぼ対称な位置
に、連結板１６およびそれに取り付けられた物を昇降さ
せる二つのエアシリンダ２６が設けられている。両エア
シリンダ２６は互いに同期して駆動される。各エアシリ
ンダ２６には、真空容器２２を貫通する軸２８がそれぞ
れ結合されており、その先端部で連結板１６を押し上げ
るようにしている。各軸２８が真空容器２２を貫通する
部分は、ベローズ３０によって真空シールされている。
外側であって、回転駆動軸２０を中心にほぼ対称な位置
に、連結板１６およびそれに取り付けられた物を昇降さ
せる二つのエアシリンダ２６が設けられている。両エア
シリンダ２６は互いに同期して駆動される。各エアシリ
ンダ２６には、真空容器２２を貫通する軸２８がそれぞ
れ結合されており、その先端部で連結板１６を押し上げ
るようにしている。各軸２８が真空容器２２を貫通する
部分は、ベローズ３０によって真空シールされている。
【０００６】上記両エアシリンダ２６は、２段動作（２
ストローク）式のものであり、連結板１６およびそれに
取り付けられた物を２段階に昇降させることができる。
ストローク）式のものであり、連結板１６およびそれに
取り付けられた物を２段階に昇降させることができる。
【０００７】即ち、基板搬送ロボットのアーム２によっ
て基板４をホルダ６とクランパー８との間に搬出入する
ときは、エアシリンダ２６を１段階駆動して、連結板１
６、それに取り付けられたクランパー８および昇降ピン
１８を１段階上昇させる。その状態を図５に示す。この
状態では、昇降ピン１８はホルダ６より上に出ていな
い。この状態で、基板４を載せたアーム２を、ホルダ６
とクランパー８間の隙間において図４に示す矢印Ａ方向
に出し入れすることができる。
て基板４をホルダ６とクランパー８との間に搬出入する
ときは、エアシリンダ２６を１段階駆動して、連結板１
６、それに取り付けられたクランパー８および昇降ピン
１８を１段階上昇させる。その状態を図５に示す。この
状態では、昇降ピン１８はホルダ６より上に出ていな
い。この状態で、基板４を載せたアーム２を、ホルダ６
とクランパー８間の隙間において図４に示す矢印Ａ方向
に出し入れすることができる。
【０００８】アーム２上の基板４を昇降ピン１８に渡す
ときは、エアシリンダ２６をもう１段階駆動して、連結
板１６、クランパー８および昇降ピン１８をもう１段階
上昇させる。その状態を図３に示す。この状態では、昇
降ピン１８が基板４をアーム２から持ち上げている。こ
の状態でアーム２を引き戻すことができる。
ときは、エアシリンダ２６をもう１段階駆動して、連結
板１６、クランパー８および昇降ピン１８をもう１段階
上昇させる。その状態を図３に示す。この状態では、昇
降ピン１８が基板４をアーム２から持ち上げている。こ
の状態でアーム２を引き戻すことができる。
【０００９】基板４をホルダ６上に保持・固定するとき
は、エアシリンダ２６を元に戻して、軸２８をその先端
部が連結板１６に接触しないように引き戻す。この状態
では、ばね１４の弾性力によってクランパー８がホルダ
６に向けて押し付けられ、その力によって、ホルダ６と
クランパー８間に基板４が挟持・固定される。その状態
を図６に示す。この状態で、例えば回転駆動軸２０によ
ってホルダ６および基板４等を回転させながら、基板４
に対してイオン注入等の処理を施すことができる。
は、エアシリンダ２６を元に戻して、軸２８をその先端
部が連結板１６に接触しないように引き戻す。この状態
では、ばね１４の弾性力によってクランパー８がホルダ
６に向けて押し付けられ、その力によって、ホルダ６と
クランパー８間に基板４が挟持・固定される。その状態
を図６に示す。この状態で、例えば回転駆動軸２０によ
ってホルダ６および基板４等を回転させながら、基板４
に対してイオン注入等の処理を施すことができる。
【００１０】
【考案が解決しようとする課題】ところが、上記基板保
持装置においては、エアシリンダ２６の軸２８が真空容
器２２を貫通する部分の真空シールにベローズ３０を用
いなければならず、ベローズ３０は高価であるため、そ
のぶんコストが嵩むという問題がある。ちなみに、軸２
８のように往復直線運動する部分の真空シールに、Ｏリ
ングのようなパッキンを使用することは、それから大気
が真空容器２２内に入り込む可能性が大きいため、通常
は採用されていない。
持装置においては、エアシリンダ２６の軸２８が真空容
器２２を貫通する部分の真空シールにベローズ３０を用
いなければならず、ベローズ３０は高価であるため、そ
のぶんコストが嵩むという問題がある。ちなみに、軸２
８のように往復直線運動する部分の真空シールに、Ｏリ
ングのようなパッキンを使用することは、それから大気
が真空容器２２内に入り込む可能性が大きいため、通常
は採用されていない。
【００１１】また、上記基板保持装置においては、クラ
ンパー８等の昇降のストロークを変更するのが困難であ
るという問題がある。これは、クランパー８等を昇降さ
せるエアシリンダ２６のストロークは、その構造によっ
て初めから決まって（固定されて）おり、そのストロー
クを変更するためにはエアシリンダ２６自体を変更しな
ければならないためである。ちなみに、クランパー８等
の昇降ストロークの変更は、基板４を載せたアーム２の
上下方向の位置誤差が大きい場合等に、それとクランパ
ー８等との接触を避けるために必要になる場合がある。
ンパー８等の昇降のストロークを変更するのが困難であ
るという問題がある。これは、クランパー８等を昇降さ
せるエアシリンダ２６のストロークは、その構造によっ
て初めから決まって（固定されて）おり、そのストロー
クを変更するためにはエアシリンダ２６自体を変更しな
ければならないためである。ちなみに、クランパー８等
の昇降ストロークの変更は、基板４を載せたアーム２の
上下方向の位置誤差が大きい場合等に、それとクランパ
ー８等との接触を避けるために必要になる場合がある。
【００１２】そこでこの考案は、クランパー等の昇降用
の動力を真空容器内へ導入する部分の真空シール部を安
価にすることができ、かつクランパー等の昇降ストロー
クを容易に変更することができるようにした基板保持装
置を提供することを主たる目的とする。
の動力を真空容器内へ導入する部分の真空シール部を安
価にすることができ、かつクランパー等の昇降ストロー
クを容易に変更することができるようにした基板保持装
置を提供することを主たる目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この考案の基板保持装置は、前記真空容器を貫通し
て先端部が前記連結板の下側付近に位置するように設け
られた回転軸と、この回転軸が前記真空容器を貫通する
部分を真空シールする真空シール部と、前記回転軸の先
端部に当該回転軸に直交するように取り付けられた接続
板と、この接続板の先端部に前記回転軸と平行に取り付
けられた軸と、この軸に、前記回転軸の回転によって前
記連結板の下面に当接するように回転自在に取り付けら
れたローラと、前記真空容器外に設けられていて前記回
転軸を２段階に回転させる２段階駆動式アクチュエータ
とを備え、このアクチュエータによる回転軸の２段階の
回転によって前記ローラで前記連結板およびそれに取り
付けられた物を２段階に昇降させる昇降機構を設けたこ
とを特徴とする。
め、この考案の基板保持装置は、前記真空容器を貫通し
て先端部が前記連結板の下側付近に位置するように設け
られた回転軸と、この回転軸が前記真空容器を貫通する
部分を真空シールする真空シール部と、前記回転軸の先
端部に当該回転軸に直交するように取り付けられた接続
板と、この接続板の先端部に前記回転軸と平行に取り付
けられた軸と、この軸に、前記回転軸の回転によって前
記連結板の下面に当接するように回転自在に取り付けら
れたローラと、前記真空容器外に設けられていて前記回
転軸を２段階に回転させる２段階駆動式アクチュエータ
とを備え、このアクチュエータによる回転軸の２段階の
回転によって前記ローラで前記連結板およびそれに取り
付けられた物を２段階に昇降させる昇降機構を設けたこ
とを特徴とする。
【００１４】
【作用】上記昇降機構のアクチュエータによって回転軸
を１段階回転させると、その先端部に接続板を介して取
り付けられたローラが前記連結板の下面に当接して当該
連結板ならびにそれに取り付けられた前記クランパーお
よび昇降ピンが１段階上昇させられる。この状態で、ホ
ルダとクランパー間の隙間において基板の搬送を行うこ
とができる。
を１段階回転させると、その先端部に接続板を介して取
り付けられたローラが前記連結板の下面に当接して当該
連結板ならびにそれに取り付けられた前記クランパーお
よび昇降ピンが１段階上昇させられる。この状態で、ホ
ルダとクランパー間の隙間において基板の搬送を行うこ
とができる。
【００１５】上記状態からアクチュエータによって回転
軸をもう１段階回転させると、上記と同様の作用によっ
て、連結板ならびにそれに取り付けられたクランパーお
よび昇降ピンがもう１段階上昇させられる。それによっ
て、基板を昇降ピンで持ち上げることができる。
軸をもう１段階回転させると、上記と同様の作用によっ
て、連結板ならびにそれに取り付けられたクランパーお
よび昇降ピンがもう１段階上昇させられる。それによっ
て、基板を昇降ピンで持ち上げることができる。
【００１６】アクチュエータを元に戻すと、回転軸の先
端部に接続板を介して取り付けられたローラは、連結板
と接触しない位置まで下げられる。この状態では、前記
ばねの弾性力によってクランパーがホルダに向けて押し
付けられ、その力によって、ホルダとクランパー間に基
板が挟持される。
端部に接続板を介して取り付けられたローラは、連結板
と接触しない位置まで下げられる。この状態では、前記
ばねの弾性力によってクランパーがホルダに向けて押し
付けられ、その力によって、ホルダとクランパー間に基
板が挟持される。
【００１７】上記昇降機構によれば、クランパー等の昇
降用の動力は、回転軸によって真空容器内へ導入され
る。回転部分の真空シールは直線運動部分のそれに比べ
て容易に行うことができるので、上記回転軸が真空容器
を貫通する部分の真空シール部は、その構造が簡単なも
ので済み、安価になる。
降用の動力は、回転軸によって真空容器内へ導入され
る。回転部分の真空シールは直線運動部分のそれに比べ
て容易に行うことができるので、上記回転軸が真空容器
を貫通する部分の真空シール部は、その構造が簡単なも
ので済み、安価になる。
【００１８】また、上記ローラは回転軸を中心とし上記
接続板の長さを半径として円を描くので、この接続板の
長さを変えることで、ローラの駆動半径を変更すること
ができ、それによってクランパー等の昇降ストロークを
容易に変更することができる。
接続板の長さを半径として円を描くので、この接続板の
長さを変えることで、ローラの駆動半径を変更すること
ができ、それによってクランパー等の昇降ストロークを
容易に変更することができる。
【００１９】
【実施例】図１は、この考案の一実施例に係る基板保持
装置を示す断面図である。図２は、図１中のＣ−Ｃ方向
に見た拡大図である。図３の従来例は同一または相当す
る部分には同一符号を付し、以下においては当該従来例
との相違点を主に説明する。また、図４ないし図６に示
す内容については従来例と特に差異はないので、それも
併せて参照するものとする。
装置を示す断面図である。図２は、図１中のＣ−Ｃ方向
に見た拡大図である。図３の従来例は同一または相当す
る部分には同一符号を付し、以下においては当該従来例
との相違点を主に説明する。また、図４ないし図６に示
す内容については従来例と特に差異はないので、それも
併せて参照するものとする。
【００２０】この実施例においては、従来のエアシリン
ダ２６等を用いた昇降機構を設ける代わりに、次のよう
な構成の昇降機構４０を、回転駆動軸２０を中心にほぼ
対称な位置に二つ設けている。
ダ２６等を用いた昇降機構を設ける代わりに、次のよう
な構成の昇降機構４０を、回転駆動軸２０を中心にほぼ
対称な位置に二つ設けている。
【００２１】各昇降機構４０は、前記真空容器２２を貫
通して先端部が前記連結板１６の下側付近に位置するよ
うに設けられた回転軸４４と、この回転軸４４が真空容
器２２を貫通する部分を真空シールする真空シール部４
６と、回転軸４４の先端部に当該回転軸４４に直交する
ように取り付けられた接続板４８と、この接続板４８の
先端部に回転軸４４と平行に取り付けられた軸５０と、
この軸５０に、回転軸４４の矢印Ｂに示すような回転に
よって連結板１６の下面に当接するように回転自在に取
り付けられたローラ５２と、真空容器２２外に設けられ
ていて回転軸４４を２段階に回転させる２段階駆動式の
アクチュエータ４２とをそれぞれ備えている。
通して先端部が前記連結板１６の下側付近に位置するよ
うに設けられた回転軸４４と、この回転軸４４が真空容
器２２を貫通する部分を真空シールする真空シール部４
６と、回転軸４４の先端部に当該回転軸４４に直交する
ように取り付けられた接続板４８と、この接続板４８の
先端部に回転軸４４と平行に取り付けられた軸５０と、
この軸５０に、回転軸４４の矢印Ｂに示すような回転に
よって連結板１６の下面に当接するように回転自在に取
り付けられたローラ５２と、真空容器２２外に設けられ
ていて回転軸４４を２段階に回転させる２段階駆動式の
アクチュエータ４２とをそれぞれ備えている。
【００２２】アクチュエータ４２は、この実施例では、
図２に示すように、回転軸４４ならびにそれに取り付け
られた接続板４８およびローラ５２等を、第１段階目は
０°から９０°へと回転させ、第２段階目は９０°から
１３５°へと回転させる２段階駆動式のものである。
図２に示すように、回転軸４４ならびにそれに取り付け
られた接続板４８およびローラ５２等を、第１段階目は
０°から９０°へと回転させ、第２段階目は９０°から
１３５°へと回転させる２段階駆動式のものである。
【００２３】このようなアクチュエータ４２には、例え
ば、空圧または油圧シリンダとラックおよびピンオンと
の組み合わせによるロータリーアクチュエータが利用で
きる他、電気モータ等も利用することができる。
ば、空圧または油圧シリンダとラックおよびピンオンと
の組み合わせによるロータリーアクチュエータが利用で
きる他、電気モータ等も利用することができる。
【００２４】真空シール部４６は、回転軸４４の回転運
動を真空シールするものであるため、直線運動部分の真
空シールに比べて真空シールが容易であり、これには、
例えばこの実施例のようにＯリング等のパッキン４７が
利用できる。この真空シール部４６には、回転導入機等
も利用できるが、パッキン４７の方がより安価である。
動を真空シールするものであるため、直線運動部分の真
空シールに比べて真空シールが容易であり、これには、
例えばこの実施例のようにＯリング等のパッキン４７が
利用できる。この真空シール部４６には、回転導入機等
も利用できるが、パッキン４７の方がより安価である。
【００２５】動作例を説明すると、このような昇降機構
４０のアクチュエータ４２によって回転軸４４を１段階
（即ちこの例では０°から９０°へ）回転させると、図
２中に１点鎖線で示すように、回転軸４４の先端部に接
続板４８を介して取り付けられたローラ５２が連結板１
６の下面に当接して当該連結板１６ならびにそれに取り
付けられたクランパー８および昇降ピン１８が１段階上
昇させられる。その状態は、先に図５に示した状態と同
じであり、この状態で、ホルダ６とクランパー８間の隙
間において基板４の搬送を行うことができる。即ち、基
板４を載せたアーム２を、ホルダ６とクランパー８間の
隙間において図４に示す矢印Ａ方向に出し入れすること
ができる。
４０のアクチュエータ４２によって回転軸４４を１段階
（即ちこの例では０°から９０°へ）回転させると、図
２中に１点鎖線で示すように、回転軸４４の先端部に接
続板４８を介して取り付けられたローラ５２が連結板１
６の下面に当接して当該連結板１６ならびにそれに取り
付けられたクランパー８および昇降ピン１８が１段階上
昇させられる。その状態は、先に図５に示した状態と同
じであり、この状態で、ホルダ６とクランパー８間の隙
間において基板４の搬送を行うことができる。即ち、基
板４を載せたアーム２を、ホルダ６とクランパー８間の
隙間において図４に示す矢印Ａ方向に出し入れすること
ができる。
【００２６】上記状態からアクチュエータ４２によって
回転軸４４をもう１段階（即ちこの例では９０°から１
３５°へ）回転させると、図２中に実線で示すように、
回転軸４４の先端部に接続板４８を介して取り付けられ
たローラ５２によって連結板１６ならびにそれに取り付
けられたクランパー８および昇降ピン１８がもう１段階
上昇させられる。その状態が図１に示した状態であり、
この状態では、昇降ピン１８が基板４をアーム２から持
ち上げている。この状態でアーム２を出し入れすること
ができる。
回転軸４４をもう１段階（即ちこの例では９０°から１
３５°へ）回転させると、図２中に実線で示すように、
回転軸４４の先端部に接続板４８を介して取り付けられ
たローラ５２によって連結板１６ならびにそれに取り付
けられたクランパー８および昇降ピン１８がもう１段階
上昇させられる。その状態が図１に示した状態であり、
この状態では、昇降ピン１８が基板４をアーム２から持
ち上げている。この状態でアーム２を出し入れすること
ができる。
【００２７】アクチュエータ４２を元に戻すと、図２中
に２点鎖線で示すように、回転軸４４の先端部に接続板
４８を介して取り付けられたローラ５２は、０°の位置
まで、即ち連結板１６と接触しない位置まで下げられ
る。その状態は、先に図６に示した状態と同じであり、
この状態では、ばね１４の弾性力によってクランパー８
がホルダ６に向けて押し付けられ、その力によって、ホ
ルダ６とクランパー８間に基板４が挟持・固定される。
この状態で、例えば回転駆動軸２０によってホルダ６お
よび基板４等を回転させながら、基板４に対してイオン
注入、薄膜形成、エッチング等の処理を施すことができ
る。
に２点鎖線で示すように、回転軸４４の先端部に接続板
４８を介して取り付けられたローラ５２は、０°の位置
まで、即ち連結板１６と接触しない位置まで下げられ
る。その状態は、先に図６に示した状態と同じであり、
この状態では、ばね１４の弾性力によってクランパー８
がホルダ６に向けて押し付けられ、その力によって、ホ
ルダ６とクランパー８間に基板４が挟持・固定される。
この状態で、例えば回転駆動軸２０によってホルダ６お
よび基板４等を回転させながら、基板４に対してイオン
注入、薄膜形成、エッチング等の処理を施すことができ
る。
【００２８】上記昇降機構４０によれば、クランパー８
等の昇降用の動力は、回転軸４４によって真空容器２２
内へ導入される。回転部分の真空シールは直線運動部分
のそれに比べて容易に行うことができるので、上記回転
軸４４が真空容器２２を貫通する部分の真空シール部４
６は、その構造が簡単なもので済み、従来例のベローズ
３０のような高価なものが不要となり、安価になる。例
えば、この実施例のようにＯリングのようなパッキン４
７で済ますこともでき、そのようにすれば一層安価なも
のとなる。
等の昇降用の動力は、回転軸４４によって真空容器２２
内へ導入される。回転部分の真空シールは直線運動部分
のそれに比べて容易に行うことができるので、上記回転
軸４４が真空容器２２を貫通する部分の真空シール部４
６は、その構造が簡単なもので済み、従来例のベローズ
３０のような高価なものが不要となり、安価になる。例
えば、この実施例のようにＯリングのようなパッキン４
７で済ますこともでき、そのようにすれば一層安価なも
のとなる。
【００２９】また、上記ローラ５２は回転軸４４を中心
とし接続板４８の長さを半径として円を描くので、この
接続板４８の長さを変えることで、ローラ５２の駆動半
径を変更することができ、それによってクランパー８等
の昇降ストロークを変更することができる。この場合、
アクチュエータ４２自身の変更は必要ないので、クラン
パー８等の昇降ストロークを容易に変更することができ
る。
とし接続板４８の長さを半径として円を描くので、この
接続板４８の長さを変えることで、ローラ５２の駆動半
径を変更することができ、それによってクランパー８等
の昇降ストロークを変更することができる。この場合、
アクチュエータ４２自身の変更は必要ないので、クラン
パー８等の昇降ストロークを容易に変更することができ
る。
【００３０】なお、この実施例では、上記昇降機構４０
を回転駆動軸２０を中心にしてほぼ対称な位置に二つ設
けて、両昇降機構４０を互いに同期させて動作させるよ
うにしている。このようにすれば、連結板１６等の片上
がりを完全に防止することができる。両昇降機構４０の
同期を取るには、例えば、両アクチュエータ４２に共通
の駆動源（例えば空圧、油圧、電力等）を供給すれば良
い。もっとも、クランパー軸１０をガイドするリニヤ軸
受１２等を強化する等して連結板１６等の傾き防止を強
化すれば、昇降機構４０を一つにすることも可能であ
る。
を回転駆動軸２０を中心にしてほぼ対称な位置に二つ設
けて、両昇降機構４０を互いに同期させて動作させるよ
うにしている。このようにすれば、連結板１６等の片上
がりを完全に防止することができる。両昇降機構４０の
同期を取るには、例えば、両アクチュエータ４２に共通
の駆動源（例えば空圧、油圧、電力等）を供給すれば良
い。もっとも、クランパー軸１０をガイドするリニヤ軸
受１２等を強化する等して連結板１６等の傾き防止を強
化すれば、昇降機構４０を一つにすることも可能であ
る。
【００３１】また、上記例ではいずれも、ホルダ６等を
回転駆動軸２０によって回転させることができるように
しているが、そのようにするか否かは、この考案の本質
に影響するものではなく任意である。
回転駆動軸２０によって回転させることができるように
しているが、そのようにするか否かは、この考案の本質
に影響するものではなく任意である。
【００３２】
【考案の効果】以上のようにこの考案によれば、クラン
パー等の昇降用の動力を回転軸によって真空容器内へ導
入する方式の昇降機構を設けており、回転部分の真空シ
ールは直線運動部分のそれに比べて容易に行うことがで
きるので、上記回転軸が真空容器を貫通する部分の真空
シール部は、その構造が簡単なもので済み、安価にな
る。その結果、当該基板保持装置の低コスト化を図るこ
とができる。
パー等の昇降用の動力を回転軸によって真空容器内へ導
入する方式の昇降機構を設けており、回転部分の真空シ
ールは直線運動部分のそれに比べて容易に行うことがで
きるので、上記回転軸が真空容器を貫通する部分の真空
シール部は、その構造が簡単なもので済み、安価にな
る。その結果、当該基板保持装置の低コスト化を図るこ
とができる。
【００３３】また、上記昇降機構を構成するローラは回
転軸を中心とし接続板の長さを半径として円を描くの
で、接続板の長さを変えることで、ローラの駆動半径を
変更することができ、それによってクランパー等の昇降
ストロークを容易に変更することができる。
転軸を中心とし接続板の長さを半径として円を描くの
で、接続板の長さを変えることで、ローラの駆動半径を
変更することができ、それによってクランパー等の昇降
ストロークを容易に変更することができる。
【図１】この考案の一実施例に係る基板保持装置を示す
断面図である。
断面図である。
【図２】図１中のＣ−Ｃ方向に見た拡大図である。
【図３】従来の基板保持装置の一例を示す断面図であ
る。
る。
【図４】図１および図３の装置のホルダ周りの平面図で
ある。
ある。
【図５】図１および図３の装置における基板搬送時の状
態を示す図である。
態を示す図である。
【図６】図１および図３の装置における基板保持時の状
態を示す図である。
態を示す図である。
４ 基板 ６ ホルダ ８ クランパー １０ クランパー軸 １４ ばね １６ 連結板 １８ 昇降ピン ２２ 真空容器 ４０ 昇降機構 ４２ アクチュエータ ４４ 回転軸 ４６ 真空シール部 ４７ パッキン ４８ 接続板 ５０ 軸 ５２ ローラ
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 C23C 16/00 - 16/56 C23F 4/00 - 4/04 H01J 37/317 H01L 21/205 - 21/31 H01L 21/68
Claims (1)
- 【請求項１】 真空容器内に設けられていて基板を支持
するホルダと、基板の周縁部をこのホルダに対して押さ
え付ける環状のクランパーと、前記ホルダを上下動自在
に貫通していて先端部に前記クランパーが取り付けられ
た複数本のクランパー軸と、この各クランパー軸を弾性
的に押し下げる複数のばねと、前記各クランパー軸間を
連結する連結板と、この連結板に、前記ホルダを上下動
自在に貫通するように、かつ先端部が前記クランパーよ
り下に位置するように取り付けられていて、基板の縁を
支える複数本の昇降ピンとを備える基板保持装置におい
て、前記真空容器を貫通して先端部が前記連結板の下側
付近に位置するように設けられた回転軸と、この回転軸
が前記真空容器を貫通する部分を真空シールする真空シ
ール部と、前記回転軸の先端部に当該回転軸に直交する
ように取り付けられた接続板と、この接続板の先端部に
前記回転軸と平行に取り付けられた軸と、この軸に、前
記回転軸の回転によって前記連結板の下面に当接するよ
うに回転自在に取り付けられたローラと、前記真空容器
外に設けられていて前記回転軸を２段階に回転させる２
段階駆動式アクチュエータとを備え、このアクチュエー
タによる回転軸の２段階の回転によって前記ローラで前
記連結板およびそれに取り付けられた物を２段階に昇降
させる昇降機構を設けたことを特徴とする基板保持装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1993068910U JP2601179Y2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 基板保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1993068910U JP2601179Y2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 基板保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0733972U JPH0733972U (ja) | 1995-06-23 |
| JP2601179Y2 true JP2601179Y2 (ja) | 1999-11-08 |
Family
ID=13387288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1993068910U Expired - Fee Related JP2601179Y2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 基板保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2601179Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101749041B1 (ko) * | 2008-02-15 | 2017-06-20 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 밀리 세컨드 어닐링 （ｄｓａ）에지 보호 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3775987B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2006-05-17 | 松下電器産業株式会社 | プラズマ処理装置 |
| JP2012119489A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Takata Corp | 加工対象物搭載台装置 |
| CN103620744B (zh) * | 2011-05-31 | 2017-09-29 | 应用材料公司 | 用于带有边缘、侧边及背面保护的干蚀刻的装置及方法 |
| US9287093B2 (en) * | 2011-05-31 | 2016-03-15 | Applied Materials, Inc. | Dynamic ion radical sieve and ion radical aperture for an inductively coupled plasma (ICP) reactor |
| JP2014135332A (ja) * | 2013-01-09 | 2014-07-24 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | 吸着反転装置 |
| JP5906429B2 (ja) * | 2013-02-21 | 2016-04-20 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
| KR102288733B1 (ko) * | 2019-09-25 | 2021-08-11 | (주)에스티아이 | 기판처리장치 |
| KR102363678B1 (ko) * | 2019-10-01 | 2022-02-17 | 피에스케이홀딩스 (주) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| KR102372101B1 (ko) * | 2021-06-08 | 2022-03-10 | 주식회사 기가레인 | 리프트 구동 어셈블리 |
-
1993
- 1993-11-29 JP JP1993068910U patent/JP2601179Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101749041B1 (ko) * | 2008-02-15 | 2017-06-20 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 밀리 세컨드 어닐링 （ｄｓａ）에지 보호 |
| KR101850088B1 (ko) | 2008-02-15 | 2018-04-18 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 밀리 세컨드 어닐링 （ｄｓａ）에지 보호 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0733972U (ja) | 1995-06-23 |
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