JP2598199Y2 - 気液接触処理吸収塔 - Google Patents

気液接触処理吸収塔

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JP2598199Y2
JP2598199Y2 JP1993060869U JP6086993U JP2598199Y2 JP 2598199 Y2 JP2598199 Y2 JP 2598199Y2 JP 1993060869 U JP1993060869 U JP 1993060869U JP 6086993 U JP6086993 U JP 6086993U JP 2598199 Y2 JP2598199 Y2 JP 2598199Y2
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雅和 鬼塚
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は湿式排煙脱硫装置におけ
る排ガス洗浄用の吸収装置などとして用いられる気液接
触処理吸収塔に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来例を図２の実施態様例に基づき具体
的に説明する。図２において、ガス入口１０２から吸収
塔１０３内に導入された未処理ガスＡＡは、貯槽１０１
から同槽内の貯留液ＣＣをポンプ１０８で配管１０７を
介して各ノズルヘッダー１０５に配備されたノズル１０
６から吸収塔１０３内に散布される液で気液接触処理さ
れ、ガス出口１０４から処理ガスＢＢとして排出され
る。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】以上従来例で説明した
ように、従来例ではガス入口から吸収塔内に導入された
未処理ガスは、吸収塔内に流入後その流入時の慣性力に
よって吸収塔内でガス流速分布を生じ高流速部と低流速
部に偏りを生じ、洗浄効率低下の原因となっいた。本考
案は係る不具合を解消し、吸収塔内でのガス流速分布を
極力最少化することで洗浄効率の低下の防止を図ろうと
した気液接触処理装置を提供するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本考案は下部を液の貯槽
とし、貯槽に貯留された液の液面上部にガス入口を配
し、ガスを導入して前記貯留液をポンプで汲み上げ散布
して気液接触処理した後、上部のガス出口から処理ガス
を排出する構造の気液接触処理吸収塔において、前記ガ
ス入口の前面に複数の液噴射ノズルを配備したノズルヘ
ッダーを複数本階段状に配備してなることを特徴とする
気液接触処理吸収塔である。
【０００５】
【作用】本考案によれば、未処理ガスが吸収塔に流入す
る際、未処理ガス入口に階段状に設けたノズルヘッダー
が流動の抵抗体となり流入時の慣性力を緩和するため、
未処理ガスは吸収塔内ほぼ均一に分散される。これによ
り、ノズルから散布される単位液量当たりに対して気液
接触する未処理ガスの偏りが解消される。
【０００６】
【実施例】本考案の実施例を図１の実施態様例を用いて
具体的に説明する。図１において、ガス入口２から吸収
塔３に導入された未処理ガスＡはガス入口２前面に階段
状に設けられたノズルヘッダー５にぶつかり慣性力を緩
和され複数のノズルヘッダー５の間を抜けて吸収塔３内
に分散される。各ノズルヘッダー５は配管７で連結され
ており、貯槽１の貯留液Ｃはポンプ８で揚液され該液は
配管７を介して各ノズルヘッダー５に分散されノズル６
から吸収塔３内に散布される。吸収塔３内でノズル６か
らの散布液と未処理ガスＡが気液接触し未処理ガスＡは
洗浄され処理ガスＢとして吸収塔３の塔頂のガス出口４
から排出される。
【０００７】この実施例では吸収塔３の一辺の長さは２
ｍの真四角な断面で全高さは１５ｍであり、下部貯槽１
の貯留液Ｃの液深は５ｍである。ガス入口２は幅１．５
ｍで高さ０．７ｍ四角の断面とした。ガス入口２前面に
は直径０．１７ｍのノズルヘッダー５を５本０．４ｍ間
隔で設け吸収塔壁寄りのものは壁からその中心までが
０．２ｍとした、各ノズルヘッダー５の高さの差はそれ
ぞれ０．２ｍとして階段状に配した。また、各ノズルヘ
ッダー５には口径３５ｍｍのノズル６を５本設けた。ガ
ス出口４は１ｍの真四角とした。このような仕様の吸収
塔３に毎時４万ｍ3 のガスを導入し毎時８千ｍ3 の液で
洗浄した。液の噴水部の上部でガスの流速分布を測定
し、分布が少なく良く平均化されていることを確認し
た。
【０００８】
【考案の効果】本考案によれば、ノズルヘッダーの抵抗
によってガス入口から導入された未処理ガスの慣性力に
起因したガスの偏流を解消し、気液接触効率の向上がで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本考案の一実施態様の気液接触処理装置の断面
図。
【図２】従来例の気液接触処理装置の一実施態様の断面
図。
【符号の説明】
Ａ：未処理ガス、Ｂ：処理ガス、Ｃ：貯留液、１：貯
槽、２：ガス入口、３：吸収塔、４：ガス出口、５：ノ
ズルヘッダー、６：ノズル、７配管、８：ポンプ
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−8747（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−122826（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01D 53/18 ZAB B01D 53/34 ZAB B01D 53/50 B01D 53/77

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下部を液の貯槽とし、貯槽に貯留された
    液の液面上部にガス入口を配し、ガスを導入して前記貯
    留液をポンプで汲み上げ散布して気液接触処理した後、
    上部のガス出口から処理ガスを排出する構造の気液接触
    処理吸収塔において、前記ガス入口の前面に複数の液噴
    射ノズルを配備したノズルヘッダーを複数本階段状に配
    備してなることを特徴とする気液接触処理吸収塔。
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