JP2598040B2 - 電圧比較回路 - Google Patents

電圧比較回路

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JP2598040B2 JP62247368A JP24736887A JP2598040B2 JP 2598040 B2 JP2598040 B2 JP 2598040B2 JP 62247368 A JP62247368 A JP 62247368A JP 24736887 A JP24736887 A JP 24736887A JP 2598040 B2 JP2598040 B2 JP 2598040B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は信号出力電圧と基準電圧とを比較する電圧比
較回路に係り、特に、CCD(Charge Coupled Device)イ
メージセンサにおける自動利得制御用のモニター画素の
出力と閾値電圧レベルとを比較するに好適な電圧比較回
路に関する。
(従来の技術) CCDイメージセンサにおいて、信号電荷の蓄積時間及
び出力回路の利得を制御するために、平均入射光量を検
知する手段、例えばモニター画素を設ける場合がある。
このようなCCDイメージセンサを第5図に示す。半導体
チップ上に配列された画素列17において発生した信号電
荷は蓄積部18に蓄積され、この蓄積された信号電荷はCC
Dレジスタ19を介して出力バッファ20に転送され、その
出力信号はさらに増幅回路21に送られる。
またモニター画素22において発生した電荷は出力バッ
ファ23により信号電圧に変換されてモニター画素出力信
号VAGCとなり、さらに電圧比較回路24において、出力バ
ッファ23からのモニター画素出力信号VAGCと閾値電圧レ
ベルVTHとが比較されてモニター画素22の入射光量が判
定される。この電圧比較回路24からのフラグ出力信号V
FLGを受けて、パルス発生回路25は電荷蓄積時間を制御
するパルスφICGを蓄積部18に、また増幅度の切換えを
行なうパルスφGAINを増幅回路21にそれぞれ発するよう
に接続されている。
第6図の出力タイミング図に示されるように、モニタ
ー画素出力信号VAGCが閾値電圧レベルVTHを越えると、
電圧比較回路24においてフラグ出力信号VFLGが発生す
る。このフラグ出力信号VFLGを受けて、パルス発生回路
25は電荷蓄積時間終了のパルスφICGを蓄積部18に発す
る。このようにして、画素列17に入射する光量が変化し
ても、増幅回路21の出力信号レベルは常にほぼ一定レベ
ルに保たれるようになっている。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、従来のCCDイメージセンサにおいて光
量判定のために用いられる電圧比較回路24は、増幅回路
21やパルス発生回路25等の信号処理系と共に、CCDイメ
ージセンサの本体が形成されている半導体チップとは別
の半導体チップ上に形成される場合が多かった。これ
は、レベル比較回路として一般に用いられているオペア
ンプの構成が複雑であり、CCDとプロセスを異にするバ
イポーラ素子で構成されるものが多いこと、入力ゲート
のオフセット差が問題になること、2電源が必要である
こと等の理由による。このように、電圧比較回路24を含
む信号処理系がCCDと同一の半導体チップ上に設けられ
ていないことは、機器の小形化やコスト低減を図る上で
障害となるという問題があった。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、回路形
式が比較的簡単であって、CCDと同一プロセスにおいて
同一半導体チップ上に形成されることに適した高精度の
電圧比較回路を提供することを目的とする。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するため本発明の電圧比較回路は、ゲ
ートへの保持パルス信号(Φ)に応答して導通し、ド
レインに印加される信号電圧(Vb)の瞬時値をソースに
接続された第1の静電容量素子(7)に保持させる第1
のMOS FET(6)と、上記信号電圧(Vb)がゲートに供
給され、上記第1の静電容量素子(7)の保持する電圧
がソースに印加され、ドレインに第2の静電容量素子
(10)が接続される第2のMOS FET(9)と、ゲートへ
のリセットパルス信号(Φ)に応答して導通し、ドレ
インに印加されるリセット電圧を上記第2の静電容量素
子(10)にソースを介して与える第3のMOS FET(11)
と、を備えている。
(作 用) 本発明の電圧比較回路は上記のように構成されている
ので、入力信号電圧の所定時点の瞬時値(例えば、初期
値)からの変化量が閾値レベルを越えると、比較回路か
ら出力信号が出力される。
(実施例) 本発明の一実施例による電圧比較回路の回路図を第1
図に示す。静電容量素子1には入力信号電圧VINが印加
され、静電容量素子2はMOS FET3,4を介してそれぞれ
電源電圧V1,V2に接続されている。これらの静電容量素
子1,2は並列に接続されて、反転増幅回路5に入力され
ている。反転増幅回路5の出力はスイッチとしてのMOS
FET6を介して電圧保持用の静電容量素子7に接続され
ている。なお上記反転増幅回路5は、例えばゲイン(Ga
in)が×10程度の1段のE/Eインバータ等を用いる。ま
た上記反転増幅回路5はゲインが1のバッファであって
もよい。
静電容量素子7の電位はレベルシフタ8に入力され、
レベルシフタ8の出力はMOS FET9のソースに接続され
ている。このMOS FET9のゲートには反転増幅回路5の
出力が印加されており、またそのドレインには負荷容量
10が接続されている。この負荷容量10はまたその電圧を
リセットするために、スイッチとしてのMS FET11を介
して電源に接続されている。そして負荷容量10の電位
は、反転回路12を介して出力されるようになっている。
なお、上記レベルシフタ8は、バッファであってもよ
い。
次に、第2図を用いて動作を説明する。第2図は、各
端子の印加電圧を示すタイミング図である。まず、入力
信号電圧VINが初期値であって、静電容量素子1に印加
されている。そして静電容量素子2には、MOS FET3,4
のゲートに印加されるパルスφ、φによって、それ
ぞれ電源電圧V1,V2が印加される。このときV2>V1とす
ると、(V2−V1)が閾値電圧レベルとなる。またMOS F
ET11のゲートに印加されるパルスφのオン/オフ動作
によって、負荷容量10はあらかじめリセットされてい
る。
パルスφがオン状態で、かつパルスφがオフ状態
のとき、電圧V1が静電容量素子2に印加される。そして
このとき、MOS FET6のゲートに印加されるパルスφ
がオン状態になると、入力信号電圧VINの初期値に対応
する増幅回路5の出力電圧Vbが静電容量素子7に保持さ
れる。
続いて、パルスφがオン状態になり、かつパルスφ
がオフ状態になると、電圧V2が静電容量素子1に印加
されるようになる。そうするとV2>V1であるために反転
増幅回路5の入力電圧Vaが高くなり、従って出力電圧Vb
が低くなる。このため、この反転増幅回路5の出力電圧
Vbがゲートに印加されているMOS FET9はオフ状態にな
り、電流は流れなくなる。
次いで、入力信号電圧VINが変化し始め、入力信号電
圧VINの変化量が閾値電圧レベル(V2−V1)と等しくな
ったとき、反転増幅回路5の出力電圧Vbが再び初期状態
と同じになり、従ってMOS FET9がオン状態になり、電
流が流れ始める。このため負荷容量10に電荷が蓄積さ
れ、反転回路12の入力電圧Vcは低下する。これによって
反転回路12からフラグ出力信号VFLGが出力される。
次に、本発明の一実施例による電圧比較回路のレベル
シフタ8の回路図を第3図に示す。直列に接続されてい
るMOS FET13,14及びMOS FET15,16がそれぞれ第1及び
第2のソーフフォロワ回路を形成している。そしてこの
第1のソースフォロワ回路のMOS FET13の駆動ゲートに
は入力端子の入力電圧Vinが印加されている。また第2
のソースフォロワ回路の出力電圧Vdは、第1及び第2の
ソースフォロワ回路のMOS FET14,16の負荷ゲートにそ
れぞれ印加されている。さらに第1のソースフォロワ回
路の出力電圧Veは第2のソースフォロワ回路のMOS FET1
5の駆動ゲートに印加されると共に、出力端子に出力電
圧Voutとして出力されている。
次に第4図を用いて動作を説明する。第4図は、レベ
ルシフタ8の回路の電位特性を示す図である。各MOS F
ET13,14,15,16の定数を適当に定めることにより、Vout
となるようにする。ここでVはMOS FET13のゲ
ート下の電位を表わす。従ってこのレベルシフタ8を用
いることにより、MOS FET9のゲートに印加されている
反転増幅回路5の出力電圧Vbとレベルシフタ8の入力電
圧Vinとが等しくなるとき、MOS FET9におけるソースの
電位とゲート下の電位とがほぼ等しくなり、MOS FET9
に電流が流れ始める境界の状態となる。
このような電圧比較回路において、回路の誤差要因と
しては以下のような項目が考えられる。第1に、静電容
量素子1,2のバラツキである。しかしこれは数%以下で
ある。
第2に、レベルシフタ8の出力電圧Voutの電圧V
らのズレであるが、これは第1及び第2のソースフォロ
ワ回路のゲインをそれぞれ×5,×1/5程度とすることに
より100〜200mV程度となる。また入力信号電圧VINにお
ける誤差は反転増幅回路5のゲイン分の1となり、10〜
20mVとなる。
第3に、MOS FET9の電流値により負荷容量10が充電
されるまでの時間的誤差がある。
しかしながら以上の誤差は、閾値レベルの10%以下の
レベルに抑えることが可能である。それ故、この電圧比
較回路は十分実用に供せられることができる。
このように本実施例によれば、高精度の電圧比較回路
を提供することができる。また、CCDイメージセンサのC
CDと同一プロセスで形成されるMOS FETを用いた比較的
簡単な回路であるため、CCDと同一の半導体チップ上に
形成することができる。
さらにまた、オペアンプ(Operational Amplifier)
形式でないため、入力ゲートのオフセット差を考慮する
必要がなく、また入力ダイナミックレンジも広くとるこ
とができる。
[発明の効果] 以上の通り本発明によれば、MOS FETとキャパシタで
簡便に構成される電圧比較回路が得られ、CCDと同一の
半導体チップ上に形成するのに適した高精度の電圧比較
回路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の−実施例による電圧比較回路を示す回
路図、第2図は本発明の−実施例による電圧比較回路の
動作を説明するための図、第3図は本発明の−実施例に
よる電圧比較回路のレベルシフタを示す回路図、第4図
は本発明の−実施例による電圧比較回路のレベルシフタ
の動作を説明するための図、第5図は従来のCCDイメー
ジセンサを示すブロック図、第6図は従来のCCDイメー
ジセンサの動作を説明するための図である。 1,2,7……静電容量素子、3,4,6,9,11,13,14,15,16……M
OS FET、5……反転増幅回路、8……レベルシフタ、1
0……負荷容量、12……反転回路、17……画素列、18…
…蓄積部、19……CCDレジスタ、20,23……出力バッフ
ァ、21……増幅回路、22……モニター画素,24……電圧
比較回路,25……パルス発生回路。

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ゲートへの保持パルス信号(Φ)に応答
    して導通し、ドレインに印加される信号電圧(Vb)の瞬
    時値をソースに接続された第1の静電容量素子(7)に
    保持させる第1のMOS FET(6)と、 前記信号電圧(Vb)がゲートに供給され、前記第1の静
    電容量素子(7)の保持する電圧がソースに印加され、
    ドレインに第2の静電容量素子(10)が接続される第2
    のMOS FET(9)と、 ゲートへのリセットパルス信号(Φ)に応答して導通
    し、ドレインに印加されるリセット電圧を前記第2の静
    電容量素子(10)にソースを介して与える第3のMOS F
    ET(11)と、 を備えた電圧比較回路。
  2. 【請求項2】特許請求の範囲第1項記載の電圧比較回路
    において、 前記信号電圧(Vb)は、入力信号電圧(VIN)と選択さ
    れた基準電圧(V1,V2)との加算値であることを特徴と
    する電圧比較回路。
  3. 【請求項3】特許請求の範囲第1項または第2項に記載
    の電圧比較回路において、 前記第1のMOS FET(6)のソースと前記第2のMOS F
    ET(9)のソースとの間に、MOS FETによって構成され
    るレベルシフタ(8)が設けられることを特徴とする電
    圧比較回路。
  4. 【請求項4】特許請求の範囲第3項に記載の電圧比較回
    路において、 前記レベルシフタ(8)が、第1及び第2のソースフォ
    ロワ回路を有し、前記第1のソースフォロワ回路(13,1
    4)の駆動ゲートが前記第1のMOS FET(6)のソース
    に接続され、前記第2のソースフォロワ回路(15,16)
    の出力が前記第1及び第2のソースフォロワ回路の負荷
    ゲートに夫々接続され、前記第1のソースフォロワ回路
    の出力が前記第2のソースフォロワ回路の駆動ゲート及
    び前記第2のMOS FET(9)のソースに接続されている
    ことを特徴とする電圧比較回路。
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