JP2588006B2 - 研磨テープ - Google Patents
研磨テープInfo
- Publication number
- JP2588006B2 JP2588006B2 JP63247220A JP24722088A JP2588006B2 JP 2588006 B2 JP2588006 B2 JP 2588006B2 JP 63247220 A JP63247220 A JP 63247220A JP 24722088 A JP24722088 A JP 24722088A JP 2588006 B2 JP2588006 B2 JP 2588006B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- tape
- polishing tape
- abrasive
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/627—Record carriers characterised by the selection of the material of leaders for magnetic tapes, e.g. non-magnetic strips on the tapes or for connection
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12993—Surface feature [e.g., rough, mirror]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/256—Heavy metal or aluminum or compound thereof
- Y10T428/257—Iron oxide or aluminum oxide
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気ヘッド等の研磨に用いられる研磨テープ
に関し、特に仕上げ研磨用の研磨テープに関するもので
ある。
に関し、特に仕上げ研磨用の研磨テープに関するもので
ある。
（従来の技術） ビデオや高級オーディオの磁気ヘッドは、可撓性支持
体上に、研磨材、結合剤、添加剤等を含む研磨塗液を塗
布し、乾燥させて研磨層が形成されてなる研磨テープに
より研磨されて製作されている。
体上に、研磨材、結合剤、添加剤等を含む研磨塗液を塗
布し、乾燥させて研磨層が形成されてなる研磨テープに
より研磨されて製作されている。
このような研磨テープには、テープ状またはディスク
状のもの等があり、テープ状のものの場合、一般には磁
気ヘッドを挾む２つのリール間に研磨テープを走行させ
被研磨面に接触させて研磨する方法がとられる。またデ
ィスク状のものの場合もディスクを回転させて、研磨す
る方法がとられている。
状のもの等があり、テープ状のものの場合、一般には磁
気ヘッドを挾む２つのリール間に研磨テープを走行させ
被研磨面に接触させて研磨する方法がとられる。またデ
ィスク状のものの場合もディスクを回転させて、研磨す
る方法がとられている。
このような研磨テープは、可撓性支持体を有している
ため、研磨砥石に比べ、磁気ヘッド等の曲面の研磨に適
し、また、被研磨面の傷つきが少なく精密研磨が可能で
あるため、仕上げ研磨には不可欠のものである。
ため、研磨砥石に比べ、磁気ヘッド等の曲面の研磨に適
し、また、被研磨面の傷つきが少なく精密研磨が可能で
あるため、仕上げ研磨には不可欠のものである。
ところで、上記の研摩テープを研磨装置において走行
させ、磁気ヘッドの被研磨面を研磨する場合、１）研磨
テープの走行安定性を向上させる、２）テープ表面が帯
電することを防止する、３）研磨層中において研磨剤を
良好に分散させることが必要とされる。すなわち、走行
安定性が悪いと、研磨テープが磁気ヘッドの被研磨面上
においてスティックスリップを起こすことがあり、いわ
ゆる「テープ鳴き」というテープ走行音を発生させ、こ
のような場合には被研磨面を均一に研磨できなくなる。
また被研磨面との摩擦によりテープ表面が帯電すると、
周囲の塵埃を吸引し、これらの塵埃により被研磨面にか
えって傷が付くという不都合が生じる。さらに研磨剤の
分散性が悪いと、研磨剤が固まりとなって研磨時に被研
磨面を傷つけてしまうという不都合がある。
させ、磁気ヘッドの被研磨面を研磨する場合、１）研磨
テープの走行安定性を向上させる、２）テープ表面が帯
電することを防止する、３）研磨層中において研磨剤を
良好に分散させることが必要とされる。すなわち、走行
安定性が悪いと、研磨テープが磁気ヘッドの被研磨面上
においてスティックスリップを起こすことがあり、いわ
ゆる「テープ鳴き」というテープ走行音を発生させ、こ
のような場合には被研磨面を均一に研磨できなくなる。
また被研磨面との摩擦によりテープ表面が帯電すると、
周囲の塵埃を吸引し、これらの塵埃により被研磨面にか
えって傷が付くという不都合が生じる。さらに研磨剤の
分散性が悪いと、研磨剤が固まりとなって研磨時に被研
磨面を傷つけてしまうという不都合がある。
そこで従来より上記不都合を解消すべく種々の解決案
が提案されている。例えば特公昭62−37447号には、研
磨テープの研磨層中に潤滑剤、帯電防止剤等を添加し、
これらの添加剤の添加量を変えて研磨テープ表面の摩擦
係数を調整するといった方法が開示されており、また特
開昭62−94268号には、脂肪酸、脂肪酸エステル、シリ
コンオイル、および界面活性剤を添加して研磨テープの
走行性を改良する方法が開示されている。さらに特開昭
61−265279号には研磨テープに分散剤や、カーボンブラ
ック、チタンブラックといった帯電防止剤を添加すると
いった記載がなされている。
が提案されている。例えば特公昭62−37447号には、研
磨テープの研磨層中に潤滑剤、帯電防止剤等を添加し、
これらの添加剤の添加量を変えて研磨テープ表面の摩擦
係数を調整するといった方法が開示されており、また特
開昭62−94268号には、脂肪酸、脂肪酸エステル、シリ
コンオイル、および界面活性剤を添加して研磨テープの
走行性を改良する方法が開示されている。さらに特開昭
61−265279号には研磨テープに分散剤や、カーボンブラ
ック、チタンブラックといった帯電防止剤を添加すると
いった記載がなされている。
（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上述した方法においては、研磨テープ
の走行安定性向上、帯電防止、および分散性向上のため
に、それぞれ潤滑剤、帯電防止剤、分散剤等を別々に添
加するようになっているので、上記３つの目的のすべて
を満たすようにこれらの添加剤を配合すると、添加剤の
研磨層全体に占める割合が大きくなり、研磨層の強度が
低下して研磨能力が著しく低下するという問題がある。
の走行安定性向上、帯電防止、および分散性向上のため
に、それぞれ潤滑剤、帯電防止剤、分散剤等を別々に添
加するようになっているので、上記３つの目的のすべて
を満たすようにこれらの添加剤を配合すると、添加剤の
研磨層全体に占める割合が大きくなり、研磨層の強度が
低下して研磨能力が著しく低下するという問題がある。
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、
走行安定性が高く、帯電が生じにくく、研磨剤が良好に
分散されているとともに研磨能力も十分に高い研磨テー
プ提供することを目的とするものである。
走行安定性が高く、帯電が生じにくく、研磨剤が良好に
分散されているとともに研磨能力も十分に高い研磨テー
プ提供することを目的とするものである。
（課題を解決するための手段および作用） 本出願人は上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、ある特定の化合物は走行性改良剤、帯電防止剤、お
よび分散剤としての機能を併せ持っており、かかる化合
物を添加剤として研磨層中に添加すれば、特定の平均粒
子サイズの研磨剤との組み合せの下に、添加剤の総量を
少なく抑えつつ、必要な特性を備えた研磨テープを得る
ことができることを見出すに至った。
果、ある特定の化合物は走行性改良剤、帯電防止剤、お
よび分散剤としての機能を併せ持っており、かかる化合
物を添加剤として研磨層中に添加すれば、特定の平均粒
子サイズの研磨剤との組み合せの下に、添加剤の総量を
少なく抑えつつ、必要な特性を備えた研磨テープを得る
ことができることを見出すに至った。
かかる化合物は一般式 （但し、R1はＣ数６〜30の１価の炭化水素基、またはＣ
数１〜17のフッ素置換アルキル基、R2はＨまたはＣ数１
〜３の１価のアルキル基、Ｘは−Ｏ−， −Ｓ−，−SO2−， のうちのいずれか１つ、 ｎは１〜３の整数） で表わされるものであり、本発明の研磨テープは、その
研磨層中に、平均粒子サイズが0.1〜16μｍの研磨剤を
含むと共に、添加剤として上記一般式で表わされる化合
物を少なくとも１種含むことを特徴とするものである。
数１〜17のフッ素置換アルキル基、R2はＨまたはＣ数１
〜３の１価のアルキル基、Ｘは−Ｏ−， −Ｓ−，−SO2−， のうちのいずれか１つ、 ｎは１〜３の整数） で表わされるものであり、本発明の研磨テープは、その
研磨層中に、平均粒子サイズが0.1〜16μｍの研磨剤を
含むと共に、添加剤として上記一般式で表わされる化合
物を少なくとも１種含むことを特徴とするものである。
本発明の研磨テープによれば、上記化合物を添加する
だけで、平均粒子サイズが0.1〜16μｍの研磨剤との組
み合せの下に、走行安定性の向上、帯電防止、研磨剤の
分散性の向上を達成することができるので、各目的をた
めに別々の添加剤を配合する場合に比べ、添加剤の磁性
層に占める割合を減少させることができ、研磨テープの
研磨能力の低下を防止することができる。
だけで、平均粒子サイズが0.1〜16μｍの研磨剤との組
み合せの下に、走行安定性の向上、帯電防止、研磨剤の
分散性の向上を達成することができるので、各目的をた
めに別々の添加剤を配合する場合に比べ、添加剤の磁性
層に占める割合を減少させることができ、研磨テープの
研磨能力の低下を防止することができる。
なお、上記R1の炭化水素基の炭素数は、６〜30であれ
ば実用上支障ないが、親水性と親油性のバランス（HL
B）の点からは６〜22が好ましく、８〜18が特に好まし
い。またR1がフッ素置換アルキル基である場合には、炭
素数６〜12であるのが好ましい。さらに同様の理由で、
R2は炭素数１〜３の１価のアルキル基であるのが好まし
い。またＸは、−Ｏ−， が、ｎは１〜22が特に好ましい。
ば実用上支障ないが、親水性と親油性のバランス（HL
B）の点からは６〜22が好ましく、８〜18が特に好まし
い。またR1がフッ素置換アルキル基である場合には、炭
素数６〜12であるのが好ましい。さらに同様の理由で、
R2は炭素数１〜３の１価のアルキル基であるのが好まし
い。またＸは、−Ｏ−， が、ｎは１〜22が特に好ましい。
上記化合物としては例えば C6H13O（CH2 CH2 O）30−H, C16H33−Ｏ−（CH2 CH2 O）10−H, 等が挙げられる。これらは高級脂肪族アルコールとポリ
アルキレングリコールの通常の反応により生成するもの
である。例えば上記化合物の１種であるポリエチレング
リコールエーテルは、アルコール又はフェノール類にア
ルカリ触媒を加え、120〜180℃で加圧または常圧下にお
いてエチレンオキシドを通じることにより得られる。ま
た上記化合物の商品名としてはエマレックス110、エマ
レックスNP85（日本エマルジョンKK製）、レオニール、
ペレガール、ジアゾポンＡ、イゲパール、エマルホア
（ドイツI.G.Farhenindustrie A.G.製）、ブリジ（アメ
リカ Atlas Powder Co.製）、ジスパーサント（アメリ
カ Oronite Chemical Co.製）、エマルゲン、レベノー
ル、エマゾール、スコアロール（花王KK製）、ノニオン
（日本油脂KK製）、ノイゲン（第一工業製薬KK製）、リ
ポノックス（ライオン油脂KK製）などがある。
アルキレングリコールの通常の反応により生成するもの
である。例えば上記化合物の１種であるポリエチレング
リコールエーテルは、アルコール又はフェノール類にア
ルカリ触媒を加え、120〜180℃で加圧または常圧下にお
いてエチレンオキシドを通じることにより得られる。ま
た上記化合物の商品名としてはエマレックス110、エマ
レックスNP85（日本エマルジョンKK製）、レオニール、
ペレガール、ジアゾポンＡ、イゲパール、エマルホア
（ドイツI.G.Farhenindustrie A.G.製）、ブリジ（アメ
リカ Atlas Powder Co.製）、ジスパーサント（アメリ
カ Oronite Chemical Co.製）、エマルゲン、レベノー
ル、エマゾール、スコアロール（花王KK製）、ノニオン
（日本油脂KK製）、ノイゲン（第一工業製薬KK製）、リ
ポノックス（ライオン油脂KK製）などがある。
また本発明の研磨テープの研磨層に分散される研磨剤
としては、一般に使用される研磨作用若しくは琢磨作用
をもつ材料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、熔融アル
ミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、コラン
ダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、エメ
リー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガーネット、ケ
イ石、窒化ケイ素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼
素、炭化タングステン、チタンカーバイド、クオーツ、
トリポリ、ケイソウ土、ドロマイト等があり、主として
モース硬度６以上より好ましくはモース硬度８以上の材
料が１乃至４種迄の組合わせで使用される。またこれら
の研磨剤の望ましい平均粒子サイズは研磨の目的によっ
て変化し、例えば荒研磨であれば16〜１μｍ程度、仕上
研磨であれば１〜0.1μｍ程度が望ましい。
としては、一般に使用される研磨作用若しくは琢磨作用
をもつ材料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、熔融アル
ミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、コラン
ダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、エメ
リー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガーネット、ケ
イ石、窒化ケイ素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼
素、炭化タングステン、チタンカーバイド、クオーツ、
トリポリ、ケイソウ土、ドロマイト等があり、主として
モース硬度６以上より好ましくはモース硬度８以上の材
料が１乃至４種迄の組合わせで使用される。またこれら
の研磨剤の望ましい平均粒子サイズは研磨の目的によっ
て変化し、例えば荒研磨であれば16〜１μｍ程度、仕上
研磨であれば１〜0.1μｍ程度が望ましい。
また、本発明の研磨テープの結合剤としては、従来よ
り結合剤として公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂やこれらの混合物が使用される。
り結合剤として公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂やこれらの混合物が使用される。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分
子量が10,000〜300,000、重合度が約50〜2000程度のも
ので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビ
ニリデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロール、
アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル
酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の
熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。
子量が10,000〜300,000、重合度が約50〜2000程度のも
ので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビ
ニリデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロール、
アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル
酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の
熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。
熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態で
は200000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱する
ことにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限大
のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分
解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ましい。
具体的には例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系
反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。これらの結合剤は単独又は組合わされたも
のが使用される。
は200000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱する
ことにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限大
のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分
解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ましい。
具体的には例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系
反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。これらの結合剤は単独又は組合わされたも
のが使用される。
上述した熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂
は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸、スル
フィン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸、ホスホン、ホスフ
ィン、ホウ酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、これ
らのアルキルエステル基等の酸性基（これらの酸性基
は、Na塩などの形でもよい）、アミノ酸類；アミノスル
ホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イミ
ノ基、イミド基、アミド基、エポキシ基、等また、水酸
基、アルコキシル基、チオール基、ハロゲン基、シリル
基、シロキサン基を通常１種以上６種以内含み、各々の
官能基は樹脂1gあたり１×10-6eq〜１×10-2eq含む事が
好ましい。
は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸、スル
フィン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸、ホスホン、ホスフ
ィン、ホウ酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、これ
らのアルキルエステル基等の酸性基（これらの酸性基
は、Na塩などの形でもよい）、アミノ酸類；アミノスル
ホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イミ
ノ基、イミド基、アミド基、エポキシ基、等また、水酸
基、アルコキシル基、チオール基、ハロゲン基、シリル
基、シロキサン基を通常１種以上６種以内含み、各々の
官能基は樹脂1gあたり１×10-6eq〜１×10-2eq含む事が
好ましい。
本発明の研磨テープにおいて用いられるポリイソシア
ネートとしては、トリレンジイソシアネート、4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチ
レン−１、５−ジイソシアネート、Ｏ−トルイジンイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート等のイソシアネート類、又当該イソシアネート類と
ポリアルコールとの生成物、又イソシアネート類の縮合
に依って生成した２〜15量体のポリイソシアネート等を
使用することができるこれらポリイソシアネート類の平
均分子量は、100〜20000のもが好適であるこれらポリイ
ソシアネートの市販されている商品名としては、コロネ
ートＬ、コロネートHL、コロネート2030、コロネート20
31、ミリオネートMR、ミリオネートMTL（日本ポリウレ
タン（株）製）、タケネートＤ−102、タケネートＤ−1
10N、タケネートＤ−200、タケネートＤ−202、タケネ
ート300S、タケネート500（武田薬品（株）製）、スミ
ジュールＴ−80、スミジュール44S、スミジュールPF、
スミジュールＬ、スミジュールＮ、デスモジュールＬ、
デスモジュールIL、デスモジュールＮ、デスモジュール
HL、デスモジュールT65、デスモジュール15、デスモジ
ュールＲ、デスモジュールRF、デスモジュールSL、デス
モジュールZ4273（住友バイエル社製）等があり、これ
らを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若しく
はそれ以上の組み合わせによって使用することができ
る。又、硬化反応を促進する目的で、水酸基（ブタンジ
オール、ヘキサンジオール、分子量が1000〜10000のポ
リウレタン、水等）、アミノ基（モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン等）を有する化合物や
金属酸化物の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸
基やアミノ基を有する化合物は多官能である事が望まし
い。これらのポリイソシアネートは結合剤総量の５〜40
wt％で用いることが好ましい。
ネートとしては、トリレンジイソシアネート、4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチ
レン−１、５−ジイソシアネート、Ｏ−トルイジンイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート等のイソシアネート類、又当該イソシアネート類と
ポリアルコールとの生成物、又イソシアネート類の縮合
に依って生成した２〜15量体のポリイソシアネート等を
使用することができるこれらポリイソシアネート類の平
均分子量は、100〜20000のもが好適であるこれらポリイ
ソシアネートの市販されている商品名としては、コロネ
ートＬ、コロネートHL、コロネート2030、コロネート20
31、ミリオネートMR、ミリオネートMTL（日本ポリウレ
タン（株）製）、タケネートＤ−102、タケネートＤ−1
10N、タケネートＤ−200、タケネートＤ−202、タケネ
ート300S、タケネート500（武田薬品（株）製）、スミ
ジュールＴ−80、スミジュール44S、スミジュールPF、
スミジュールＬ、スミジュールＮ、デスモジュールＬ、
デスモジュールIL、デスモジュールＮ、デスモジュール
HL、デスモジュールT65、デスモジュール15、デスモジ
ュールＲ、デスモジュールRF、デスモジュールSL、デス
モジュールZ4273（住友バイエル社製）等があり、これ
らを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若しく
はそれ以上の組み合わせによって使用することができ
る。又、硬化反応を促進する目的で、水酸基（ブタンジ
オール、ヘキサンジオール、分子量が1000〜10000のポ
リウレタン、水等）、アミノ基（モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン等）を有する化合物や
金属酸化物の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸
基やアミノ基を有する化合物は多官能である事が望まし
い。これらのポリイソシアネートは結合剤総量の５〜40
wt％で用いることが好ましい。
さらに本発明に研磨テープに添加物として配合される
前述した化合物の添加量は、研磨層中の固形分総量に対
して0.5〜３重量％であるのが好ましく、0.5〜２重量％
であるのが特に好ましい。添加量が３重量％以上である
と研磨能力が低下しやすく、0.5重量％以下であると走
行安定性改良効果、帯電防止効果、研磨剤の分散効果が
不十分になり易い。
前述した化合物の添加量は、研磨層中の固形分総量に対
して0.5〜３重量％であるのが好ましく、0.5〜２重量％
であるのが特に好ましい。添加量が３重量％以上である
と研磨能力が低下しやすく、0.5重量％以下であると走
行安定性改良効果、帯電防止効果、研磨剤の分散効果が
不十分になり易い。
次に、図面を参照して本発明の研磨テープについて説
明する。
明する。
第１図は本発明の研磨テープを用いた研磨装置の概略
図である。
図である。
上記研磨テープ１は、テープ巻き取りリール７が矢印
Ａ方向に回転することによりテープ送り出しリール６が
図中矢印方向に送り出される。この研磨テープ１はその
走行路においてパスロール８により所定のラップ角で被
研磨体である磁気ヘッド５に接触せしめられ、この磁気
ヘッド５のテープ摺動面の研磨を行なう。研磨テープ１
は、第２図に示すように、ポリエチレンテレフタレート
（PET）、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等からなる
可撓性を有する非磁性支持体２上に研磨層３が塗設され
てなるものであり、この研磨層３が上記磁気ヘッドに摺
接することにより研磨が行なわれる。すなわち、第２図
に示すように研磨層３から突出した硬い研磨剤４によ
り、磁気ヘッド５のテープ摺動面が平滑に研磨される。
上記研磨層３は、上記研磨層４と、結合剤と、前述した
一般式が である化合物の少なくとも１種を混練してなるものを塗
設されて形成されたものである。
Ａ方向に回転することによりテープ送り出しリール６が
図中矢印方向に送り出される。この研磨テープ１はその
走行路においてパスロール８により所定のラップ角で被
研磨体である磁気ヘッド５に接触せしめられ、この磁気
ヘッド５のテープ摺動面の研磨を行なう。研磨テープ１
は、第２図に示すように、ポリエチレンテレフタレート
（PET）、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等からなる
可撓性を有する非磁性支持体２上に研磨層３が塗設され
てなるものであり、この研磨層３が上記磁気ヘッドに摺
接することにより研磨が行なわれる。すなわち、第２図
に示すように研磨層３から突出した硬い研磨剤４によ
り、磁気ヘッド５のテープ摺動面が平滑に研磨される。
上記研磨層３は、上記研磨層４と、結合剤と、前述した
一般式が である化合物の少なくとも１種を混練してなるものを塗
設されて形成されたものである。
また、上記研磨層３と非磁性支持体２の好ましい厚さ
は、磁気ヘッドの研磨形状によって異なるが、研磨テー
プが前述したＳ−VHS方式用の磁気ヘッドの仕上げ研磨
を行なうものである場合には、非磁性支持体の厚さが一
例として30μｍであれば磁性層の厚さは５μｍ、非磁性
支持体の厚さが一例とて23μｍであれば磁性層の厚さは
10μｍ程度であるのが好ましい。なお、研磨層の厚さが
大きすぎると、磁気ヘッドと研磨テープの接触が悪くな
るので、研磨層の厚さは常に50μｍ以下にするのが好ま
しい。
は、磁気ヘッドの研磨形状によって異なるが、研磨テー
プが前述したＳ−VHS方式用の磁気ヘッドの仕上げ研磨
を行なうものである場合には、非磁性支持体の厚さが一
例として30μｍであれば磁性層の厚さは５μｍ、非磁性
支持体の厚さが一例とて23μｍであれば磁性層の厚さは
10μｍ程度であるのが好ましい。なお、研磨層の厚さが
大きすぎると、磁気ヘッドと研磨テープの接触が悪くな
るので、研磨層の厚さは常に50μｍ以下にするのが好ま
しい。
また、本発明の研磨テープは、上記のような高性能な
磁気ヘッドの研磨に特に適したものであるが、第３図お
よび第４図に示すように、ハードディスク15の研磨に用
いられてもよい。ハードディスク15を研磨する場合には
２つのゴムローラ18によりハードディスクを挾み、これ
らのゴムローラ18により２本の研磨テープ１の研磨層を
ディスクの両面に押し付け、この状態でハードディスク
15を矢印Ｂ方向に回転させればディスクの両面を同時に
研磨することができる。
磁気ヘッドの研磨に特に適したものであるが、第３図お
よび第４図に示すように、ハードディスク15の研磨に用
いられてもよい。ハードディスク15を研磨する場合には
２つのゴムローラ18によりハードディスクを挾み、これ
らのゴムローラ18により２本の研磨テープ１の研磨層を
ディスクの両面に押し付け、この状態でハードディスク
15を矢印Ｂ方向に回転させればディスクの両面を同時に
研磨することができる。
また、本発明における研磨テープとは、上述したテー
プ状のものに限られるものではなく、薄い円形支持体上
に研磨層を形成したディスク状のものも含むものとす
る。
プ状のものに限られるものではなく、薄い円形支持体上
に研磨層を形成したディスク状のものも含むものとす
る。
（実 施 例） つぎにそれぞれ条件を変えて形成された研磨テープの
例を挙げ、本発明の研磨テープの望ましい構成について
さらに説明する。なお、以下「部」とは、いずれも固形
分重量を示す。
例を挙げ、本発明の研磨テープの望ましい構成について
さらに説明する。なお、以下「部」とは、いずれも固形
分重量を示す。
（実施例１） 厚さ23μｍのポリエチレンテレフタレート（PET）支
持体上に下記の組成で調整した研磨塗液を５μｍの厚さ
で塗布し乾燥した後、1/2インチ幅にスリットして研磨
テープを作成した。
持体上に下記の組成で調整した研磨塗液を５μｍの厚さ
で塗布し乾燥した後、1/2インチ幅にスリットして研磨
テープを作成した。
研磨塗液組成 α−Fe2O3 ……225 部 （粒状，平均粒子径0.11μm,モース硬度5.0） Cr2O3 …… 75 部 （粒状，平均粒子径0.30μm,モース硬度8.5） 塩化ビニル系樹脂 …… 8.3部 （樹脂総重量に対して塩化ビニル（平均分子量2.6×1
04）87重量％、エポキシ基3.5重量％、スルホン酸ソー
ダ基0.5重量％含有） スルホン酸含有ポリウレタン樹脂 …… 4.8部 （分子量25,000,SO31つあたりの分子量25,000） ポリイソシアネート …… 9.6部 （３モルの2,4−トリレンジイソシアネート化合物と１
モルのトリメチロールプロパンの反応生成物の75重量％
酢酸エチル溶液） C16H33O（CH2 CH2 O）10H …… 2.9部 （日本エマルジョン（株）製エマレックス110） メチルエチルケトン ……100 部 シクロヘキサノン ……100 部 （実施例２） 実施例１におけるC6H33O（CH2 CH2 O）10Hを1.5部に
変え、他の条件は実施例１と同じにして研磨テープを作
成した。
04）87重量％、エポキシ基3.5重量％、スルホン酸ソー
ダ基0.5重量％含有） スルホン酸含有ポリウレタン樹脂 …… 4.8部 （分子量25,000,SO31つあたりの分子量25,000） ポリイソシアネート …… 9.6部 （３モルの2,4−トリレンジイソシアネート化合物と１
モルのトリメチロールプロパンの反応生成物の75重量％
酢酸エチル溶液） C16H33O（CH2 CH2 O）10H …… 2.9部 （日本エマルジョン（株）製エマレックス110） メチルエチルケトン ……100 部 シクロヘキサノン ……100 部 （実施例２） 実施例１におけるC6H33O（CH2 CH2 O）10Hを1.5部に
変え、他の条件は実施例１と同じにして研磨テープを作
成した。
（実施例３） 実施例１におけるC16H33O（CH2 CH2 O）10Hを９部に
変え、他の条件は実施例１と同じにして研磨テープを作
成した。
変え、他の条件は実施例１と同じにして研磨テープを作
成した。
（実施例４） 実施例１におけるC16H33O（CH2 CH2 O）10Hを （日本エマルジョン（株）製NP 8.5）に変え他の条件は
実施例１と同じにして研磨テープを作成した。
実施例１と同じにして研磨テープを作成した。
（実施例５） 実施例１におけるC16H33O（CH2 CH2 O）10Hを に変え、他の条件は実施例１と同じにして研磨テープを
作成した。
作成した。
（実施例６） 実施例１におけるC16H33O（CH2 CH2 O）10HをC16H13O
CH2 CH2 OHに変え、他の条件は実施例１と同じにして
研磨テープを作成した。
CH2 CH2 OHに変え、他の条件は実施例１と同じにして
研磨テープを作成した。
（実施例７） 実施例１におけるC16H33O（CH2 CH2 O）10HをC6H13O
（CH2 CH2 O）30Hに変え、他の条件は実施例１と同じに
して研磨テープを作成した。
（CH2 CH2 O）30Hに変え、他の条件は実施例１と同じに
して研磨テープを作成した。
（比較例１） 実施例１におけるC16H33O（CH2 CH2 O）10Hを添加す
る代りに走行性改良剤としてブチルステアレートを2.9
部、帯電防止剤としてカチオン系帯電防止剤（線研化学
（株）製エレコンドＸ−１−Ｄ）を2.9部、分散剤とし
てレシチンを2.9部それぞれ添加し、他の条件は実施例
１と同じにして研磨テープを作成た。
る代りに走行性改良剤としてブチルステアレートを2.9
部、帯電防止剤としてカチオン系帯電防止剤（線研化学
（株）製エレコンドＸ−１−Ｄ）を2.9部、分散剤とし
てレシチンを2.9部それぞれ添加し、他の条件は実施例
１と同じにして研磨テープを作成た。
（比較例２） 比較例１の塗液からカチオン系帯電防止剤を除去し、
他の条件は比較例１と同じにして研磨テープを作成し
た。
他の条件は比較例１と同じにして研磨テープを作成し
た。
（比較例３） 実施例１の塗液からC16H33O（CH2 CH2 O）10Hを除去
し、他の条件は実施例１と同じにして研磨テープを作成
した。
し、他の条件は実施例１と同じにして研磨テープを作成
した。
上記のように作成された実施例１〜７、比較例１〜３
の各研磨テープを用いてフェライト製ビデオヘッドの研
磨を行ない、その際の研磨テープの走行鳴きの有無（走
行安定性の評価）、研磨後のビデオヘッドの表面傷の発
生数（帯電防止状態および研磨剤の分散性の評価）、ビ
デオヘッドの研磨量（研磨能力の評価）、研磨テープの
表面粗さ（Ra）を調べた。これらの結果を総合評価とと
もに下記の表に示す。なお、上記走行鳴きは、研磨装置
において研磨テープをビデオヘッドに接触させつつ走行
させた際の異音の発生である。またビデオヘッドの表面
傷はビデオヘッドを各研磨で１分間研磨した後その被研
磨面を顕微鏡でみて確認された幅２μｍ以上の傷であ
り、ビデオヘッドの研磨時間は上記フェライト製のビデ
オヘッドを１μｍ研磨するのに必要な時間である。さら
に研磨総の表面粗さ（Ra）はカットオフ0.8mm、触針半
径２μｍ、触針スピード3mm/secの条件で測定した。
の各研磨テープを用いてフェライト製ビデオヘッドの研
磨を行ない、その際の研磨テープの走行鳴きの有無（走
行安定性の評価）、研磨後のビデオヘッドの表面傷の発
生数（帯電防止状態および研磨剤の分散性の評価）、ビ
デオヘッドの研磨量（研磨能力の評価）、研磨テープの
表面粗さ（Ra）を調べた。これらの結果を総合評価とと
もに下記の表に示す。なお、上記走行鳴きは、研磨装置
において研磨テープをビデオヘッドに接触させつつ走行
させた際の異音の発生である。またビデオヘッドの表面
傷はビデオヘッドを各研磨で１分間研磨した後その被研
磨面を顕微鏡でみて確認された幅２μｍ以上の傷であ
り、ビデオヘッドの研磨時間は上記フェライト製のビデ
オヘッドを１μｍ研磨するのに必要な時間である。さら
に研磨総の表面粗さ（Ra）はカットオフ0.8mm、触針半
径２μｍ、触針スピード3mm/secの条件で測定した。
上記の結果から明らかであるように、本発明の研磨テ
ープである実施例１〜７の各テープは、いずれも走行安
定性が高く、塵埃を吸着してヘッド表面に傷をつけるよ
うな帯電も生じることがなく、また研磨剤の分散も良好
であることが確認された。しかも本発明の研磨テープ
は、添加剤が加えられていない比較例３の研磨と比較し
ても研磨力がほとんど変わらず、研磨力が極めて高いも
のとなっていることも確認された。
ープである実施例１〜７の各テープは、いずれも走行安
定性が高く、塵埃を吸着してヘッド表面に傷をつけるよ
うな帯電も生じることがなく、また研磨剤の分散も良好
であることが確認された。しかも本発明の研磨テープ
は、添加剤が加えられていない比較例３の研磨と比較し
ても研磨力がほとんど変わらず、研磨力が極めて高いも
のとなっていることも確認された。
（発明の効果） 以上詳細に説明したように、本発明の研磨テープによ
れば、前述した一般式で示される、走行安定性を向上さ
せる機能と帯電を防止させる機能と研磨剤の分散性を向
上させる機能をあわせ持つ化合物を添加剤として加える
ことにより、平均粒子サイズが0.1〜16μｍの研磨剤と
の組み合せの下に、添加剤の添加量を全体として少なく
して高い研磨能力を維持しつつ、テープ走行を安定さ
せ、帯電防止し、研磨剤の分散性を高めて研磨を良好に
行なうことができる。
れば、前述した一般式で示される、走行安定性を向上さ
せる機能と帯電を防止させる機能と研磨剤の分散性を向
上させる機能をあわせ持つ化合物を添加剤として加える
ことにより、平均粒子サイズが0.1〜16μｍの研磨剤と
の組み合せの下に、添加剤の添加量を全体として少なく
して高い研磨能力を維持しつつ、テープ走行を安定さ
せ、帯電防止し、研磨剤の分散性を高めて研磨を良好に
行なうことができる。
第１図は本発明の研磨テープを用いた研磨装置の概略
図、 第２図は上記研磨テープと磁気ヘッドの拡大図、 第３図は他の研磨装置の概略斜視図、 第４図はその断面図である。 １……研磨テープ、２……非磁性支持体 ３……研磨層 ５……磁気ヘッド
図、 第２図は上記研磨テープと磁気ヘッドの拡大図、 第３図は他の研磨装置の概略斜視図、 第４図はその断面図である。 １……研磨テープ、２……非磁性支持体 ３……研磨層 ５……磁気ヘッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩嵜 孝志 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富士写真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭50−102667（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−241673（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−224581（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−114880（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−102017（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】研磨剤、結合剤、および添加剤を含む研磨
層が可撓性支持体上に形成されてなる研磨テープにおい
て、前記研磨剤の平均粒子サイズが0.1〜16μｍであ
り、前記添加剤が下記一般式で示される化合物を少なく
とも１種含むことを特徴とする研磨テープ。 （但し、R1はＣ数６〜30の１価の炭化水素基、またはＣ
数１〜17のフッ素置換アルキル基、R2はＨまたはＣ数１
〜３の１価のアルキル基、Ｘは −Ｏ−， −Ｓ−，−SO2−， のうちのいずれか１つ、 ｎは１〜３の整数）
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63247220A JP2588006B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 研磨テープ |
| US07/642,156 US5089330A (en) | 1988-09-30 | 1991-01-17 | Abrasive tape in which a single compound serves to improve dispersion of abrasive particles and also as antistatic and lubricant for the tape |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63247220A JP2588006B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 研磨テープ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0295578A JPH0295578A (ja) | 1990-04-06 |
| JP2588006B2 true JP2588006B2 (ja) | 1997-03-05 |
Family
ID=17160235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63247220A Expired - Lifetime JP2588006B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 研磨テープ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5089330A (ja) |
| JP (1) | JP2588006B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4300858A1 (de) | 1993-01-15 | 1994-07-21 | Basf Magnetics Gmbh | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
| DE69326774T2 (de) * | 1993-06-02 | 2000-06-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Schleifband und verfahren zu dessen herstellung |
| US5573444A (en) * | 1993-06-22 | 1996-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polishing method |
| JPH08112769A (ja) * | 1994-10-14 | 1996-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テープ |
| JP3305557B2 (ja) | 1995-04-10 | 2002-07-22 | 大日本印刷株式会社 | 研磨テープ、その製造方法および研磨テープ用塗工剤 |
| CA2217983A1 (en) * | 1995-04-28 | 1996-10-31 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article having a bond system comprising a polysiloxane |
| US6083439A (en) * | 1998-09-25 | 2000-07-04 | Auergesellschaft Gmbh | Polymer-bonded material |
| US6301461B1 (en) | 1999-09-13 | 2001-10-09 | Cf Technologies | Doctor blade, toner cartridge using such a doctor blade and copying process |
| US6330941B1 (en) * | 2000-05-25 | 2001-12-18 | Habasit Ag | Radius conveyor belt |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50102667A (ja) * | 1974-01-16 | 1975-08-14 | ||
| JPS6037972B2 (ja) * | 1976-09-29 | 1985-08-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録体 |
| DE3502852C2 (de) * | 1984-02-01 | 1999-06-24 | Tdk Corp | Magnetisches Aufzeichnungsmaterial |
| JPH0632906B2 (ja) * | 1985-10-18 | 1994-05-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気ヘッド研磨用研磨テープ |
| US4770941A (en) * | 1986-12-24 | 1988-09-13 | Nisshin Chemical Industry Co., Ltd. | Magnetic recording medium and a coating composition therefor |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP63247220A patent/JP2588006B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-01-17 US US07/642,156 patent/US5089330A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0295578A (ja) | 1990-04-06 |
| US5089330A (en) | 1992-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5633068A (en) | Abrasive tape having an interlayer for magnetic head cleaning and polishing | |
| US5512350A (en) | Magnetic recording medium having a magnetic layer with a specified surface roughness and which contains ferromagnetic powder, binder, and an abrasive | |
| US5456734A (en) | Abrasive member | |
| US4539257A (en) | Magnetic recording medium having improved running properties | |
| JP2588006B2 (ja) | 研磨テープ | |
| JP2889994B2 (ja) | 研磨テープおよび磁気ヘッドの研磨方法 | |
| US5407725A (en) | Magnetic recording medium having a magnetic layer containing two carbon blacks each within specific particle size and DBP adsorption ranges | |
| US5611826A (en) | Abrasive tape | |
| US20070240295A1 (en) | Surface treatment method and apparatus for tape | |
| JPH07102505B2 (ja) | 研磨テープ | |
| JPH0542735B2 (ja) | ||
| US5238753A (en) | Magnetic recording medium kubbed with a super hard alloy blade containing tungsten carbide power and cobalt | |
| JP2527320B2 (ja) | 研磨テ−プ | |
| JPH0652541A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2670941B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2000268360A (ja) | 磁気テープの製造方法 | |
| JP2745170B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH05293766A (ja) | 研磨体 | |
| JP3195836B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2000090433A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2002312920A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH06254770A (ja) | 研磨テープ | |
| JPH03278312A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0985629A (ja) | 研磨体 | |
| JPS62176771A (ja) | 研磨テ−プ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071205 Year of fee payment: 11 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071205 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081205 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |