JP2584492B2 - 新規な多環式芳香族化合物、これを含有する医薬及び化粧料組成物 - Google Patents
新規な多環式芳香族化合物、これを含有する医薬及び化粧料組成物Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は新規な多環式芳香族誘導体その製造法及び医
学、獣医学及び美容におけるその応用に関する。
学、獣医学及び美容におけるその応用に関する。
本発明による化合物は角質化（分化−増殖）の障害に
関連した皮膚病及び炎症性及び／又は免疫アレルギー性
成分のある皮膚科（又は他の）疾患の局所的及び全身的
処置及び結合組織の変性の疾患の処置において適用され
ならびに抗腫瘍活性がある。
関連した皮膚病及び炎症性及び／又は免疫アレルギー性
成分のある皮膚科（又は他の）疾患の局所的及び全身的
処置及び結合組織の変性の疾患の処置において適用され
ならびに抗腫瘍活性がある。
そのほかこれらの化合物は、皮膚又は呼吸器のアトピ
ー及びリューマチ様乾癬の処置に使用できる。
ー及びリューマチ様乾癬の処置に使用できる。
これらの化合物はまた眼科の分野においてもとくに角
膜症の処置に適用される。
膜症の処置に適用される。
本発明による多環式芳香族化合物は下記一般式
（Ｉ）： 〔式中、Ｒは−SO2R3を表し;R3は直鎖又は分岐鎖低級ア
ルキル基、モノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシ
アルキル基、アミノアルキル基、カルボキシアルキル
基、アミノカルボキシアルキル基又はアルコキシアルキ
ル基を表し;R′は水素原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ヒドロキシル基、C1−C4アシルオキシ基又は
アミノ基を表し;R″は水素原子、低級アルキル基又は低
級アルコキシ基を表すか又はＲ′及びＲ″が一緒になっ
てオキソ基（＝０）、メタノ基（＝CH2）又はヒドロキ
シイミノ基（＝Ｎ−OH）を形成しており;nは１であり、
R1とR2は一緒にビニレン基（−CH＝CH−）を形成してお
り;Arは下記の式： （式中R4,R5,R6,R7,R8,R9,R10及びR11は水素原子又は低
級アルキル基を表し、R4及びR5は少なくとも一方は水素
原子ではなく、R8乃至R11のうちの少なくとも二つは水
素原子ではなく、Ａは低級アルキル基により置換されて
いるか又は置換されていないメチレン基又はジメチレン
基を表わし、Ａがジメチレン基を表わすときはR8及びR
10は一緒になつてメチレン基又はジメチレン基を形成し
得る）から選ばれた芳香族基の一つを表わす〕によつて
表わし得る化合物及び上記式（Ｉ）の化合物の塩ならび
にその幾何学的及び光学的異性体である。
（Ｉ）： 〔式中、Ｒは−SO2R3を表し;R3は直鎖又は分岐鎖低級ア
ルキル基、モノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシ
アルキル基、アミノアルキル基、カルボキシアルキル
基、アミノカルボキシアルキル基又はアルコキシアルキ
ル基を表し;R′は水素原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ヒドロキシル基、C1−C4アシルオキシ基又は
アミノ基を表し;R″は水素原子、低級アルキル基又は低
級アルコキシ基を表すか又はＲ′及びＲ″が一緒になっ
てオキソ基（＝０）、メタノ基（＝CH2）又はヒドロキ
シイミノ基（＝Ｎ−OH）を形成しており;nは１であり、
R1とR2は一緒にビニレン基（−CH＝CH−）を形成してお
り;Arは下記の式： （式中R4,R5,R6,R7,R8,R9,R10及びR11は水素原子又は低
級アルキル基を表し、R4及びR5は少なくとも一方は水素
原子ではなく、R8乃至R11のうちの少なくとも二つは水
素原子ではなく、Ａは低級アルキル基により置換されて
いるか又は置換されていないメチレン基又はジメチレン
基を表わし、Ａがジメチレン基を表わすときはR8及びR
10は一緒になつてメチレン基又はジメチレン基を形成し
得る）から選ばれた芳香族基の一つを表わす〕によつて
表わし得る化合物及び上記式（Ｉ）の化合物の塩ならび
にその幾何学的及び光学的異性体である。
直鎖又は分岐鎖低級アルキル基という用語は炭素数１
乃至６個の基とくにメチル、エチル、イソプロピル、ブ
チル及びtertブチル基のごとき基を意味する。
乃至６個の基とくにメチル、エチル、イソプロピル、ブ
チル及びtertブチル基のごとき基を意味する。
モノヒドロキシアルキル基は炭素数２乃至６個の基と
くに２−ヒドロキシエチル基又は２−ヒドロキシプロピ
ル基を意味する。
くに２−ヒドロキシエチル基又は２−ヒドロキシプロピ
ル基を意味する。
ポリヒドロキシアルキル基は炭素数３乃至６個のかつ
ヒドロキシル基数２乃至５個の基、例えば2,3−ジヒド
ロプロピル基、1,3−ジヒドロキシ２−プロピル基又は
ペンタエリトリトール残基を意味する。
ヒドロキシル基数２乃至５個の基、例えば2,3−ジヒド
ロプロピル基、1,3−ジヒドロキシ２−プロピル基又は
ペンタエリトリトール残基を意味する。
アミノアルキル基は炭素数２乃至６個の基、例えば２
−アミノエチル、２−アミノプロピル又は３−アミノプ
ロピル基を意味する。
−アミノエチル、２−アミノプロピル又は３−アミノプ
ロピル基を意味する。
カルボキシアルキル基は炭素数２乃至７個の基、例え
ば、カルボキシメチル、２−カルボキシ−エチル、２−
カルボキシプロピル又は３−カルボキシブチル基を意味
する。
ば、カルボキシメチル、２−カルボキシ−エチル、２−
カルボキシプロピル又は３−カルボキシブチル基を意味
する。
アミノカルボキシアルキル基は望ましくは２−アミノ
−２−カルボキシエチル又は３−アミノ３−カルボキシ
プロピル基を意味する。
−２−カルボキシエチル又は３−アミノ３−カルボキシ
プロピル基を意味する。
低級アルコキシ基は炭素数１乃至６個の基、例えばメ
トキシ、エトキシ、ブトキシ又はイソプロポキシ基を意
味する。
トキシ、エトキシ、ブトキシ又はイソプロポキシ基を意
味する。
本発明による化合物が塩の形であるとき、少なくとも
一つの遊離の酸官能基がある場合はアルカリ又はアルカ
リ土類金属或いはまた亜鉛又は有機アミンとの塩である
ことができ、少なくとも一つのアミン官能基がある場合
は、無機又は有機酸との塩、とくに塩酸塩、臭化水素酸
塩又はくえん酸塩であり得る。
一つの遊離の酸官能基がある場合はアルカリ又はアルカ
リ土類金属或いはまた亜鉛又は有機アミンとの塩である
ことができ、少なくとも一つのアミン官能基がある場合
は、無機又は有機酸との塩、とくに塩酸塩、臭化水素酸
塩又はくえん酸塩であり得る。
本発明によるとくに望ましい化学物としては下記の一
般式（II）： 〔式中、Ｒは−SO2R′３基を表し;R′３は低級アルキル
基を表し、Ｒ′は水素原子、ヒドロキシル基又は低級ア
ルキル基を表し、Ｒ″は水素原子を表すか又はＲ′及び
Ｒ″が一緒になってオキソ基（＝０）を形成し、Ａはジ
メチレン基又は式 の基を表す）で表わされるものを特に挙げることができ
る。
般式（II）： 〔式中、Ｒは−SO2R′３基を表し;R′３は低級アルキル
基を表し、Ｒ′は水素原子、ヒドロキシル基又は低級ア
ルキル基を表し、Ｒ″は水素原子を表すか又はＲ′及び
Ｒ″が一緒になってオキソ基（＝０）を形成し、Ａはジ
メチレン基又は式 の基を表す）で表わされるものを特に挙げることができ
る。
本発明による式（Ｉ）の望ましい化合物としては下記
のものを挙げることができる。
のものを挙げることができる。
−エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕２−ナフチ
ルスルホン、 −エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イ
ンダニル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −２′３′−ジヒドロキシプロピル−６−〔（5,6,7,
8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチ
ル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕２−
ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕２−ナフチルスルホ
ン、 −エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−２−ナフチル）メチレン〕２−ナフチル
スルホン、 −エチル〔１−（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−２−ナフチル）１−ヒドロキシエチル〕
２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２
−ナフチル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２
−ナフチル）ヒドロキシメチル〕２−ナフチルスルホン
及び −エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２
−ナフチル）メチレン〕２−ナフチルスルホン 本発明は更に式（Ｉ）の化合物の製造法も提供する。
テトラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕２−ナフチ
ルスルホン、 −エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イ
ンダニル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −２′３′−ジヒドロキシプロピル−６−〔（5,6,7,
8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチ
ル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕２−
ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕２−ナフチルスルホ
ン、 −エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−２−ナフチル）メチレン〕２−ナフチル
スルホン、 −エチル〔１−（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−２−ナフチル）１−ヒドロキシエチル〕
２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２
−ナフチル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２
−ナフチル）ヒドロキシメチル〕２−ナフチルスルホン
及び −エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２
−ナフチル）メチレン〕２−ナフチルスルホン 本発明は更に式（Ｉ）の化合物の製造法も提供する。
これらの化合物はそれらの構造に応じて種々の方法に
従つて製造することができる。
従つて製造することができる。
第１の実施形式によると、本発明による化合物は下記
のフローシートに従つて製造される： この方法は初めに芳香族ハロゲン化化合物（１）から
有機マグネシウム誘導体（２）を在来のグリニヤール試
薬製法に従つて調製するにある。
のフローシートに従つて製造される： この方法は初めに芳香族ハロゲン化化合物（１）から
有機マグネシウム誘導体（２）を在来のグリニヤール試
薬製法に従つて調製するにある。
この有機マグネシウム誘導体（２）を引続いて式
（３）のアルデヒド（Ｒ″＝Ｈ）又は式（３）のケトン
（Ｒ″＝低級アルキル）とテトラヒドロフラン（THF）
の如き有機溶媒中温度−10゜乃至＋20℃望ましくは約０
℃において反応させる。
（３）のアルデヒド（Ｒ″＝Ｈ）又は式（３）のケトン
（Ｒ″＝低級アルキル）とテトラヒドロフラン（THF）
の如き有機溶媒中温度−10゜乃至＋20℃望ましくは約０
℃において反応させる。
前記式（３）の化合物がアルデヒドであるとき得られ
た第二アルコール（４）（Ｒ″＝Ｈ）は酸化剤としてジ
ヨーンズ試薬を用いて酸化させて対応のカルボニル化合
物（５）とすることができる。
た第二アルコール（４）（Ｒ″＝Ｈ）は酸化剤としてジ
ヨーンズ試薬を用いて酸化させて対応のカルボニル化合
物（５）とすることができる。
芳香族ハロゲン化化合物（１）は望ましくはブロム化
誘導体でありそれらのうち下記の化合物をあげることが
できる： ２−ブロム−5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−ナフタレン、 ５−ブロム−1,1,3,3−テトラメチル−インダン、 ５−ブロム−1,1,2,3,3−ペンタメチル−インダン、 ２−ブロム−5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ−
ナフタレン及び ２−ブロム−5,8−ジメチル−６−メトキシ−ナフタ
レン。
誘導体でありそれらのうち下記の化合物をあげることが
できる： ２−ブロム−5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−ナフタレン、 ５−ブロム−1,1,3,3−テトラメチル−インダン、 ５−ブロム−1,1,2,3,3−ペンタメチル−インダン、 ２−ブロム−5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ−
ナフタレン及び ２−ブロム−5,8−ジメチル−６−メトキシ−ナフタ
レン。
これらのブロム化誘導体はそれぞれ臭素を次の化合物
に作用させて作られ、即ち1,2,3,4−テトラヒドロ−1,
1,4,4−テトラメチル−ナフタレン（J.Am.Chem.Soc.,6
3,36−44（1940）記載の方法に従つて調製） 1,1,3,3−テトラメチルインダン及び1,1,2,3,3−ペン
タメチルインダン（双方とも仏国特許第1392804号記載
の作業法に従つて調製） 1,4−メタノ−1,2,3,4−テトラヒドロ−ナフタレンす
なわちベンゾノルボルネン（J.Org.Chem.,32,893−901
（1967）記載の方法に従つて調製） 5,8−ジメチル−６−メトキシナフタレン（M.FETIZON
及びN.T.ANH,Bull.Soc.Chim.Fr.,3028（1965）記載の方
法に従つて調製）に作用させて作られる。
に作用させて作られ、即ち1,2,3,4−テトラヒドロ−1,
1,4,4−テトラメチル−ナフタレン（J.Am.Chem.Soc.,6
3,36−44（1940）記載の方法に従つて調製） 1,1,3,3−テトラメチルインダン及び1,1,2,3,3−ペン
タメチルインダン（双方とも仏国特許第1392804号記載
の作業法に従つて調製） 1,4−メタノ−1,2,3,4−テトラヒドロ−ナフタレンす
なわちベンゾノルボルネン（J.Org.Chem.,32,893−901
（1967）記載の方法に従つて調製） 5,8−ジメチル−６−メトキシナフタレン（M.FETIZON
及びN.T.ANH,Bull.Soc.Chim.Fr.,3028（1965）記載の方
法に従つて調製）に作用させて作られる。
前記式（３）のアルデヒド又はケトンは市販の製品で
あり又は公知の方法に従つて作ることができる。
あり又は公知の方法に従つて作ることができる。
式（Ｉ）の化合物においてｎ＝１、R1及びR2が一緒に
なつてビニリデン（ナフタレン環）基を形成するときこ
れらは望ましくは下記反応フローシートに従つて作られ
る： この方法はフリーデルクラフツ反応の通常の条件にお
ける式（７）のベンゼン酸クロリド又はナフタレン酸ク
ロリドによる芳香族化合物（６）のアシル化からなる。
式（７）の酸クロリドはベンゼン又はナフタレンチオエ
ーテルから容易に入手可能である。
なつてビニリデン（ナフタレン環）基を形成するときこ
れらは望ましくは下記反応フローシートに従つて作られ
る： この方法はフリーデルクラフツ反応の通常の条件にお
ける式（７）のベンゼン酸クロリド又はナフタレン酸ク
ロリドによる芳香族化合物（６）のアシル化からなる。
式（７）の酸クロリドはベンゼン又はナフタレンチオエ
ーテルから容易に入手可能である。
カルボニル化合物（５）から本発明による他の化合物
に到達できる。
に到達できる。
同様にＲ′＝OH及びＲ″＝Ｈの化合物はエタノール又
はT.H.F.の如き有機溶媒中、硼水素化ナトリウムの存在
において還元により作られる。
はT.H.F.の如き有機溶媒中、硼水素化ナトリウムの存在
において還元により作られる。
Ｒ′＝Ｒ″＝Ｈの化合物は酢酸中、塩酸の存在におい
てケトン誘導体（Ｒ′及びＲ″＝オキソ）から亜鉛によ
る還元によつて作られる。
てケトン誘導体（Ｒ′及びＲ″＝オキソ）から亜鉛によ
る還元によつて作られる。
これら還元反応はもちろんＲ基の性質と両立可能でな
くてはならないがＲ＝SO2R3のとき何ら困難を引き起こ
さない。
くてはならないがＲ＝SO2R3のとき何ら困難を引き起こ
さない。
Ｒ′＝アルコキシ、Ｒ″＝Ｈの化合物は活性化された
形の酸例えば酸無水物又は酸クロリドをＲ′＝OH及び
Ｒ″＝Ｈの式（Ｉ）の化合物に反応させて作られる。
形の酸例えば酸無水物又は酸クロリドをＲ′＝OH及び
Ｒ″＝Ｈの式（Ｉ）の化合物に反応させて作られる。
Ｒ′＝アルコキシ、Ｒ″＝Ｈの化合物も同様にＲ′＝
OH Ｒ″＝Ｈの式（Ｉ）の化合物から公知の方法に従つ
て作られる。
OH Ｒ″＝Ｈの式（Ｉ）の化合物から公知の方法に従つ
て作られる。
Ｒ′及びＲ″＝メタノ（CH2＝）即ちメチレン基であ
る式（Ｉ）の化合物は下記反応フローシートに従つてウ
イツテイヒ反応によつて作られる： Ｒ′及びＲ″＝ヒドロキシイミノ（＝Ｎ−OH）である
式（Ｉ）の化合物はヒドロキシルアミンを対応のカルボ
ニル化合物に反応させて作られる。
る式（Ｉ）の化合物は下記反応フローシートに従つてウ
イツテイヒ反応によつて作られる： Ｒ′及びＲ″＝ヒドロキシイミノ（＝Ｎ−OH）である
式（Ｉ）の化合物はヒドロキシルアミンを対応のカルボ
ニル化合物に反応させて作られる。
本発明はまた医薬としての上記に定義したとおりの式
（Ｉ）の化合物も目的とする。
（Ｉ）の化合物も目的とする。
これらの化合物はチオエーテル官能又はその酸化誘導
体による置換基の存在の事実からカルボキシル官能によ
る置換基のある対応の誘導体より毒性が低い。
体による置換基の存在の事実からカルボキシル官能によ
る置換基のある対応の誘導体より毒性が低い。
これらの化合物は角質化（分化・増殖）の障害に関連
した皮膚病ならびに炎症性及び／又は免疫アレルギー性
成分のある皮膚病又はその他の疾病とくに 尋常性、面胞性又は多形の瘡、老人性、日光性瘡
及び薬物性又は職業性瘡、 拡大した及び／又は重篤な形の乾癬、その他の角質化
疾病とくに魚鱗癬及び魚鱗癬様症状、 ダリエ氏病、 掌・蹠角皮症、 粘膜白斑及び粘膜白斑様症状、扁平苔癬 良性又は悪性の、重篤な又は拡大したあらゆる皮膚増
殖症 を処置するのにとくに適している。
した皮膚病ならびに炎症性及び／又は免疫アレルギー性
成分のある皮膚病又はその他の疾病とくに 尋常性、面胞性又は多形の瘡、老人性、日光性瘡
及び薬物性又は職業性瘡、 拡大した及び／又は重篤な形の乾癬、その他の角質化
疾病とくに魚鱗癬及び魚鱗癬様症状、 ダリエ氏病、 掌・蹠角皮症、 粘膜白斑及び粘膜白斑様症状、扁平苔癬 良性又は悪性の、重篤な又は拡大したあらゆる皮膚増
殖症 を処置するのにとくに適している。
また腫瘍、リユーマチ性乾癬、皮膚及び呼吸器のアト
ピーならびに角膜症に関連した若干の眼科疾患の処置に
おいても活性である。
ピーならびに角膜症に関連した若干の眼科疾患の処置に
おいても活性である。
従つて本発明はまた上記に定義したとおりの式（Ｉ）
の化合物又はその塩又はその異性体の少なくとも１種を
含んでいる医薬組成物も目的とする。
の化合物又はその塩又はその異性体の少なくとも１種を
含んでいる医薬組成物も目的とする。
従つて本発明はまた式（１）の化合物及び／又はその
塩及び／又はその異性体の少なくとも１種を薬理的に許
容できる担体中に含んでいる、とくに上記疾病の処置に
向けられた新規な医薬組成物を目的とする。
塩及び／又はその異性体の少なくとも１種を薬理的に許
容できる担体中に含んでいる、とくに上記疾病の処置に
向けられた新規な医薬組成物を目的とする。
本発明による化合物は一般に体重1Kgあたり約0.01乃
至5mgの日用量で投与される。
至5mgの日用量で投与される。
組成物の担体としては在来の担体すべてが使用でき有
効化合物は担体中に溶解しているか又は分散した状態に
ある。
効化合物は担体中に溶解しているか又は分散した状態に
ある。
投与は腸管、腸管外、局所又は眼を経由して実施でき
る。腸管経由では医薬は錠剤、カプセル、糖衣錠、シロ
ツプ、懸濁液、溶液、粉末、顆粒、乳濁液の形をなし得
る。腸管外経由では組成物は潅注用又は注入用の溶液又
は懸濁液の形をなし得る。
る。腸管経由では医薬は錠剤、カプセル、糖衣錠、シロ
ツプ、懸濁液、溶液、粉末、顆粒、乳濁液の形をなし得
る。腸管外経由では組成物は潅注用又は注入用の溶液又
は懸濁液の形をなし得る。
局所経由では本発明による化合物を基質とする医薬組
成物は軟膏、チンキ、クリーム、ポマード、粉末、貼布
剤、湿潤綿栓、溶液、ローシヨン、ゲル、スプレー又は
懸濁液の形をしている。
成物は軟膏、チンキ、クリーム、ポマード、粉末、貼布
剤、湿潤綿栓、溶液、ローシヨン、ゲル、スプレー又は
懸濁液の形をしている。
これら局所経由の組成物は臨床症状に従つて無水の形
にも水性の形にもなし得る。
にも水性の形にもなし得る。
眼経由では主として点眼薬である。
局所又は眼経由の組成物は上記に定義したとおりの式
（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を組成物全重量に対し
て0.0001乃至約５％望ましくは0.001乃至１重量％を含
んでいる。
（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を組成物全重量に対し
て0.0001乃至約５％望ましくは0.001乃至１重量％を含
んでいる。
本発明による式（Ｉ）の化合物はまた美容の分野とく
に身体及び毛髪衛生においてまたとくに瘡傾向のある
皮膚の処置、発毛促進、脱毛防止のため皮膚及び毛髪の
脂ぎつた外観に対処するため、太陽の有害な影響の防止
において又は生理的に乾燥した皮膚の処置においても適
用される。
に身体及び毛髪衛生においてまたとくに瘡傾向のある
皮膚の処置、発毛促進、脱毛防止のため皮膚及び毛髪の
脂ぎつた外観に対処するため、太陽の有害な影響の防止
において又は生理的に乾燥した皮膚の処置においても適
用される。
従つて本発明はまた式（Ｉ）の化合物又はその塩又び
／又はその異性体の少なくとも１種を美容上許容できる
担体中に含んでいる化粧料組成物も目ざしており、この
組成物はとくにロージヨン、ゲル、石鹸、シヤンプー又
はクリームの形をしている。
／又はその異性体の少なくとも１種を美容上許容できる
担体中に含んでいる化粧料組成物も目ざしており、この
組成物はとくにロージヨン、ゲル、石鹸、シヤンプー又
はクリームの形をしている。
化粧料組成物中の式（Ｉ）の化合物の濃度は0.0001乃
至２％望ましくは0.001乃至１重量％である。
至２％望ましくは0.001乃至１重量％である。
本発明による医薬及び化粧料組成物は不活性の添加剤
又は薬理的又は美容上活性の添加剤さえ含有できとくに
チアモルホリノン及びその誘導体又は尿素の如き給湿
剤;S−カルボキシメチルシステインＳ−ベンジルシステ
インそれらの塩及び異性体・チオキソロン又は過酸化ペ
ンゾイルの如き抗脂漏剤又は抗瘡剤；エリスロマイシ
ン及びそのエステル，ネオマイシン又はテトラサイクリ
ン及び4,5−ポリメチレン−３−イソチアゾロンの如き
抗生物質；“Minox idil"（2,4−ジアミノ−６−ピペリ
ジノ−ピリミジン３−オキシド）及びその誘導体、“Di
azoxide"（７−クロル−３−メチル−1,2,4−ベンゾチ
アジアジン1,1−ジオキド）及び“Phnytoin"（5,5−
ジフエニルイミダゾリジン2,4−ジオン）の如き発毛促
進剤；ステロイド系及び非ステロイド系抗炎症剤；カロ
チノイドとくにβ−カロテン；アントラリン及びその誘
導体、5,8,11,14−エイコサテトラエン酸、5,8,11−エ
イコサトリエン酸それらのエステル及びアミドの如き抗
乾癬剤を含むことができる。
又は薬理的又は美容上活性の添加剤さえ含有できとくに
チアモルホリノン及びその誘導体又は尿素の如き給湿
剤;S−カルボキシメチルシステインＳ−ベンジルシステ
インそれらの塩及び異性体・チオキソロン又は過酸化ペ
ンゾイルの如き抗脂漏剤又は抗瘡剤；エリスロマイシ
ン及びそのエステル，ネオマイシン又はテトラサイクリ
ン及び4,5−ポリメチレン−３−イソチアゾロンの如き
抗生物質；“Minox idil"（2,4−ジアミノ−６−ピペリ
ジノ−ピリミジン３−オキシド）及びその誘導体、“Di
azoxide"（７−クロル−３−メチル−1,2,4−ベンゾチ
アジアジン1,1−ジオキド）及び“Phnytoin"（5,5−
ジフエニルイミダゾリジン2,4−ジオン）の如き発毛促
進剤；ステロイド系及び非ステロイド系抗炎症剤；カロ
チノイドとくにβ−カロテン；アントラリン及びその誘
導体、5,8,11,14−エイコサテトラエン酸、5,8,11−エ
イコサトリエン酸それらのエステル及びアミドの如き抗
乾癬剤を含むことができる。
本発明による組成物はまた風味改良剤、防腐剤、安定
剤、調湿剤、pH調整剤、乳化剤、紫外線Ａ及びＢフイル
ター、α−トコフエロール・ブチルヒドロキシ・アニソ
ール又はブチルヒドロキシトルエンの如き酸化防止剤も
含むことができる。
剤、調湿剤、pH調整剤、乳化剤、紫外線Ａ及びＢフイル
ター、α−トコフエロール・ブチルヒドロキシ・アニソ
ール又はブチルヒドロキシトルエンの如き酸化防止剤も
含むことができる。
以下単に説明として本発明による式（Ｉ）の活性化合
物の調製を数例ならびにそれらを含有する組成物の数例
を示すがこれに限定されるものではない。
物の調製を数例ならびにそれらを含有する組成物の数例
を示すがこれに限定されるものではない。
実施例Ａ乃至Ｅは一般式Ｉの化合物を得るための合成
の中間体の調製に関する。
の中間体の調製に関する。
これらさまざまな実施例に記載してある構造はすべて
1H.NMR 80MHzでまた若干のケースにおいては13CN.M.R.1
00MHzにより確認されている。
1H.NMR 80MHzでまた若干のケースにおいては13CN.M.R.1
00MHzにより確認されている。
化合物調製の実施例において反応媒体の経過はつねに
薄層クロマトグラフイー（T.L.C.）で追求した。従つて
表示してある反応時間は変化した原料の大部分に相当す
る。
薄層クロマトグラフイー（T.L.C.）で追求した。従つて
表示してある反応時間は変化した原料の大部分に相当す
る。
実施例Ａ ４−メチルスルホニルベンズアルデヒド及び４−メチル
スルフイニルベンズアルデヒドの調製 蟻酸250cm3中の４−メチルチオ ベンズアルデヒド30
gの溶液に撹拌をしながら室温において30％過酸化水素4
4cm3（２当量）をゆつくり添加する。反応は発熱性で温
度は75℃まであがる。原料が完全に変化したとき、得ら
れた溶液を約50cm3まで濃縮し次に水中へ注ぐ。混合物
を次に6N水酸化ナトリウムの添加により中和し酢酸エチ
ル200cm3により３回抽出し、集めた有機相を亜硫酸水素
ナトリウム水溶液で次に水で洗い終りに硫酸マグネシウ
ム上で乾燥させる。溶媒は真空蒸発により除去する。得
られた固体はトルエンに溶かしその溶液をシリカゲルの
クロマトグラフイーカラムへ移す。溶出液として酢酸エ
チル／ヘプタン（7:3）混合物を溶い、次に溶出相の蒸
発後に４−メチルスルホニル ベンズアルデヒド16gと
４−メチルスルフイニル ベンズアルデヒド7gとが単離
される。
スルフイニルベンズアルデヒドの調製 蟻酸250cm3中の４−メチルチオ ベンズアルデヒド30
gの溶液に撹拌をしながら室温において30％過酸化水素4
4cm3（２当量）をゆつくり添加する。反応は発熱性で温
度は75℃まであがる。原料が完全に変化したとき、得ら
れた溶液を約50cm3まで濃縮し次に水中へ注ぐ。混合物
を次に6N水酸化ナトリウムの添加により中和し酢酸エチ
ル200cm3により３回抽出し、集めた有機相を亜硫酸水素
ナトリウム水溶液で次に水で洗い終りに硫酸マグネシウ
ム上で乾燥させる。溶媒は真空蒸発により除去する。得
られた固体はトルエンに溶かしその溶液をシリカゲルの
クロマトグラフイーカラムへ移す。溶出液として酢酸エ
チル／ヘプタン（7:3）混合物を溶い、次に溶出相の蒸
発後に４−メチルスルホニル ベンズアルデヒド16gと
４−メチルスルフイニル ベンズアルデヒド7gとが単離
される。
実施例Ｂ Ｎ−エチル−４−ホルミル フエニルスルホンアミドの
調製 水200cm3中のｐ−トルエンスルホクロリド26gの懸濁
液を０℃に冷却する。撹拌しながらエチルアミンの40％
水溶液100cm3を滴加する。添加終了後に反応媒体を再び
０℃において２時間次に常温において２時間撹拌する。
懸濁液中の固体を別し水で数回洗い次に減圧下で乾燥
させる。Ｎ−エチル（４−メチル フエニル）スルホン
アミド24gが得られる。
調製 水200cm3中のｐ−トルエンスルホクロリド26gの懸濁
液を０℃に冷却する。撹拌しながらエチルアミンの40％
水溶液100cm3を滴加する。添加終了後に反応媒体を再び
０℃において２時間次に常温において２時間撹拌する。
懸濁液中の固体を別し水で数回洗い次に減圧下で乾燥
させる。Ｎ−エチル（４−メチル フエニル）スルホン
アミド24gが得られる。
無水酢酸75cm3中のＮ−エチル（４−メチル フエニ
ル）スルホンアミド15gの溶液に常温において濃硫酸18c
m3をゆつくり添加する。
ル）スルホンアミド15gの溶液に常温において濃硫酸18c
m3をゆつくり添加する。
０℃に冷却したこの溶液に無水酢酸90cm3中に溶かし
た酸化クロム21gの溶液を極めてゆつくり添加する。添
加が終ると混合物を０℃に１時間保持し、次に常温に１
夜間放置する。翌日混合物を氷水１に注ぎ酢酸エチル
200cm3により３回抽出する。集めた有機相を炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗水のpHが６となるまで洗う。酢酸エ
チル溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥させ濃縮する。得
られた粘稠液体を次に50℃で1N塩酸１中において３日
間撹拌する。この酸性溶液を酢酸エチル150cm3により３
回抽出する。酢酸エチル相を塩化アンモニウム飽和水溶
液で次に水で洗い終りに硫酸マグネシウム上で乾燥させ
る。
た酸化クロム21gの溶液を極めてゆつくり添加する。添
加が終ると混合物を０℃に１時間保持し、次に常温に１
夜間放置する。翌日混合物を氷水１に注ぎ酢酸エチル
200cm3により３回抽出する。集めた有機相を炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗水のpHが６となるまで洗う。酢酸エ
チル溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥させ濃縮する。得
られた粘稠液体を次に50℃で1N塩酸１中において３日
間撹拌する。この酸性溶液を酢酸エチル150cm3により３
回抽出する。酢酸エチル相を塩化アンモニウム飽和水溶
液で次に水で洗い終りに硫酸マグネシウム上で乾燥させ
る。
真空中で酢酸エチルを蒸発させてＮ−エチル（４−ホ
ルミル フエニル）スルホンアミド7gが得られる。
ルミル フエニル）スルホンアミド7gが得られる。
実施例Ｃ ２−アセチル−６−エチルチオナフタレン及びそのスル
ホンの調製 １）２−エチルチオナフタレン 無水エタノール１中の２−メルカプト・ナフタレン
40gの溶液を常温において不活性雰囲気中で撹拌しなが
らこれに水酸化カリウム24.4gをゆつくり添加する。添
加が終つてから撹拌を２時間維持し次に無水エタノール
100cm3中にブロムエタン21cm3を溶かした溶液を滴加す
る。３時間撹拌後反応媒体を１夜放置し次に過し液
を真空下で濃縮する。得られ粗生成物を水800cm3中で撹
拌し次にジクロルメタン150cm3により４回抽出する。ジ
クロルメタン相を集め塩化アンモニウム飽和溶液で洗い
次に硫酸マグネシウム上で乾燥させる。溶媒は真空下で
精溜して２−エチルチオナフタレン38gが得られそのま
まで後続の反応に用いられる。
ホンの調製 １）２−エチルチオナフタレン 無水エタノール１中の２−メルカプト・ナフタレン
40gの溶液を常温において不活性雰囲気中で撹拌しなが
らこれに水酸化カリウム24.4gをゆつくり添加する。添
加が終つてから撹拌を２時間維持し次に無水エタノール
100cm3中にブロムエタン21cm3を溶かした溶液を滴加す
る。３時間撹拌後反応媒体を１夜放置し次に過し液
を真空下で濃縮する。得られ粗生成物を水800cm3中で撹
拌し次にジクロルメタン150cm3により４回抽出する。ジ
クロルメタン相を集め塩化アンモニウム飽和溶液で洗い
次に硫酸マグネシウム上で乾燥させる。溶媒は真空下で
精溜して２−エチルチオナフタレン38gが得られそのま
まで後続の反応に用いられる。
２）２−アセチル６−エチルチオナフタレン 1,2−ジクロルエタン200cm3中の２−エチルチオ ナ
フタレン10gと塩化アセチル4.5cm3との混合物を空気中
の湿気を遮断して撹拌しこれに塩化アルミニウム11gを
少量ずつ温度を30℃に維持するように添加する。
フタレン10gと塩化アセチル4.5cm3との混合物を空気中
の湿気を遮断して撹拌しこれに塩化アルミニウム11gを
少量ずつ温度を30℃に維持するように添加する。
添加終了後さらに常温において３時間反応媒体を撹拌
し次に塩化アンモニウム飽和水溶液200cm3中に注ぐ。混
合物をジクロルメタン100cm3により３回抽出し有機相を
集め炭酸水素ナトリウム溶液で洗い次に硫酸マグネシウ
ム上で乾燥させ濃縮する。
し次に塩化アンモニウム飽和水溶液200cm3中に注ぐ。混
合物をジクロルメタン100cm3により３回抽出し有機相を
集め炭酸水素ナトリウム溶液で洗い次に硫酸マグネシウ
ム上で乾燥させ濃縮する。
２−アセチル ６−エチルチオ ナフタレン7gが得ら
れる。融点:69℃。
れる。融点:69℃。
３）２−アセチル６−エチルスルホニルナフタレン ジクロルメタン200cm3中の２−アセチル６−エチルチ
オ ナフタレン7gの溶液を０℃において撹拌しこれにｍ
−クロル過安息香酸14gを少量ずつ添加する。添加が終
了してから反応媒体の撹拌を０℃において３時間引続い
て常温で２時間継続する。次に混合物を塩化アンモニウ
ム飽和水溶液300cm3中へ注ぎ次にジクロルメタン100cm3
により３回抽出する。有機相を集め炭酸水素ナトリウム
の希溶液で洗い硫酸マグネシウム上で乾燥させ濃縮す
る。得られた固体を次に50℃のヘプタン／トルエン（1
0:5）混合物で洗う。乾燥後に黄色結晶状の２−アセチ
ル−６−エチルスルホニルナフタレン7gが得られる。融
点:133℃。
オ ナフタレン7gの溶液を０℃において撹拌しこれにｍ
−クロル過安息香酸14gを少量ずつ添加する。添加が終
了してから反応媒体の撹拌を０℃において３時間引続い
て常温で２時間継続する。次に混合物を塩化アンモニウ
ム飽和水溶液300cm3中へ注ぎ次にジクロルメタン100cm3
により３回抽出する。有機相を集め炭酸水素ナトリウム
の希溶液で洗い硫酸マグネシウム上で乾燥させ濃縮す
る。得られた固体を次に50℃のヘプタン／トルエン（1
0:5）混合物で洗う。乾燥後に黄色結晶状の２−アセチ
ル−６−エチルスルホニルナフタレン7gが得られる。融
点:133℃。
実施例Ｄ ６−エチルスルホニル ナフタレン ２−カルボン酸ク
ロリドの調製 １）６−エチルスルホニル ナフタレン ２−カルボン
酸 まず０℃において水35cm3中に水酸化ナトリウム7.5g
を含んでいる溶液を撹拌してこれに臭素3cm3を添加して
次亜臭素酸ナトリウム溶液を調製する。引続いてジオキ
サン20cm3中に分散させた２−アセチル ６−エチルス
ルホニル ナフタレン1gの懸濁液を反応媒体の温度が５
℃未満に保たれるようにゆつくり導入する。添加が終る
とこの温度をなお１時間維持し引続いて常温において水
150cm3中にピロ亜硫酸ナトリウム15gを溶かした溶液を
ゆつくり添加する。混合物を塩酸で酸性として所期の酸
を沈澱させ別し十分に水で洗い乾燥させる。白色粉末
の形の６−エチルスルホニル ナフタレン ２−カルボ
ン酸0.95gが得られる。融点:241℃。
ロリドの調製 １）６−エチルスルホニル ナフタレン ２−カルボン
酸 まず０℃において水35cm3中に水酸化ナトリウム7.5g
を含んでいる溶液を撹拌してこれに臭素3cm3を添加して
次亜臭素酸ナトリウム溶液を調製する。引続いてジオキ
サン20cm3中に分散させた２−アセチル ６−エチルス
ルホニル ナフタレン1gの懸濁液を反応媒体の温度が５
℃未満に保たれるようにゆつくり導入する。添加が終る
とこの温度をなお１時間維持し引続いて常温において水
150cm3中にピロ亜硫酸ナトリウム15gを溶かした溶液を
ゆつくり添加する。混合物を塩酸で酸性として所期の酸
を沈澱させ別し十分に水で洗い乾燥させる。白色粉末
の形の６−エチルスルホニル ナフタレン ２−カルボ
ン酸0.95gが得られる。融点:241℃。
２）６−エチルスルホニル ナフタレン ２−カルボン
酸クロリド 塩化チオニル30cm3中の前記の酸1gの懸濁液を60℃に
１時間保持する。原料の酸が徐々に溶解する。塩化チオ
ニルを次に真空蒸発により除去し得られた固体をヘキサ
ンで洗う。褐色粉末の形の６−エチルスルホニル ナフ
タレン ２−カルボン酸クロリド1gが得られ、ただちに
フリーデル−クラフツ反応に用いられる。
酸クロリド 塩化チオニル30cm3中の前記の酸1gの懸濁液を60℃に
１時間保持する。原料の酸が徐々に溶解する。塩化チオ
ニルを次に真空蒸発により除去し得られた固体をヘキサ
ンで洗う。褐色粉末の形の６−エチルスルホニル ナフ
タレン ２−カルボン酸クロリド1gが得られ、ただちに
フリーデル−クラフツ反応に用いられる。
実施例Ｅ ５−アセチル−1,1,2,3,3−ペンタメチルインダンの調
製 塩化アセチル13cm3と1,1,2,3,3−ペンタメチルインダ
ン25gとの混合物を常温において空気中の湿気を遮断し
て撹拌しこれに塩化アルミニウム23gを少量ずつ温度が4
0℃を超えないように添加する。添加後も２時間撹拌を
維持し反応媒体を１夜間放置する。翌日氷水200cm3中に
注ぎ次にジクロルメタン150cm3で３回抽出する。有機相
を集め炭酸水素ナトリウムで次に水で洗い硫酸マグネシ
ウム上で乾燥させる。溶媒は真空蒸発により除去し液状
の５−アセチル1,1,2,3,3−ペンタメチルインダン31gが
得られただちに後続の反応に用いられる。
製 塩化アセチル13cm3と1,1,2,3,3−ペンタメチルインダ
ン25gとの混合物を常温において空気中の湿気を遮断し
て撹拌しこれに塩化アルミニウム23gを少量ずつ温度が4
0℃を超えないように添加する。添加後も２時間撹拌を
維持し反応媒体を１夜間放置する。翌日氷水200cm3中に
注ぎ次にジクロルメタン150cm3で３回抽出する。有機相
を集め炭酸水素ナトリウムで次に水で洗い硫酸マグネシ
ウム上で乾燥させる。溶媒は真空蒸発により除去し液状
の５−アセチル1,1,2,3,3−ペンタメチルインダン31gが
得られただちに後続の反応に用いられる。
実施例１ エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホンの調製 無水1,2−ジクロルエタン70cm3中の実施例Ｄに従つて
調製した６−エチルスルホニル ナフタレン−２−カル
ボン酸クロリド1gの溶液を空気中の湿気を遮断して撹拌
し、これに1,2,3,4−テトラヒドロ−1,1,4,4−テトラメ
チル ナフタレン0.75gを添加し、次に０℃において塩
化アルミニウム0.75gを少量ずつ添加する。
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホンの調製 無水1,2−ジクロルエタン70cm3中の実施例Ｄに従つて
調製した６−エチルスルホニル ナフタレン−２−カル
ボン酸クロリド1gの溶液を空気中の湿気を遮断して撹拌
し、これに1,2,3,4−テトラヒドロ−1,1,4,4−テトラメ
チル ナフタレン0.75gを添加し、次に０℃において塩
化アルミニウム0.75gを少量ずつ添加する。
添加終了後、さらに１時間室温において撹拌を維持す
る。次に反応媒体を塩化アンモニウム飽和水溶液100cm3
に注ぎ、次にメチレンクロリド100cm3で３回抽出する。
有機相を集め、炭酸水素ナトリウムで次に水で洗い、硫
酸マグネシウム上で乾燥させる。
る。次に反応媒体を塩化アンモニウム飽和水溶液100cm3
に注ぎ、次にメチレンクロリド100cm3で３回抽出する。
有機相を集め、炭酸水素ナトリウムで次に水で洗い、硫
酸マグネシウム上で乾燥させる。
粗生成物をヘキサン／イソプロピルエーテル混合物か
ら再結晶させる。白色結晶の形のエチル６−〔（5,6,7,
8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチ
ル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホン0.9gが得られ
る。融点:145℃。
ら再結晶させる。白色結晶の形のエチル６−〔（5,6,7,
8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチ
ル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホン0.9gが得られ
る。融点:145℃。
元素分析:C27H30O3Sとして Ｃ Ｈ Ｏ Ｓ 計算値（％）： 74.62 6.96 11.01 7.38 実測値（％）： 73.95 7.00 11.78 7.06 実施例２ エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホンの調製 無水1,2−ジクロルエタン70cm3中の1,1,2,3,3−ペン
タメチルインダン1.1gと実施例Ｄに従つて得られた６−
エチルスルホニルナフタレン−２−カルボン酸クロリド
1.5gとの混合物を、０℃において空気中の湿気を遮断し
て撹拌し、これに塩化アルミニウム1.1gを少量ずつ添加
する。添加終了後、混合物を０℃において１時間次に室
温において１時間撹拌する。次に塩化アンモニウム飽和
溶液100cm3に注ぎ、ジクロルメタン100cm3により３回抽
出する。有機相を集め、炭酸水素ナトリウムで次に水で
洗い、終りに硫酸マグネシウム上で乾燥させる。溶媒の
蒸発後に、粗生成物1.5gが得られ、エタノールの痕跡を
含むヘキサン／トルエン（1:1）混合物から再結晶させ
る。
ニル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホンの調製 無水1,2−ジクロルエタン70cm3中の1,1,2,3,3−ペン
タメチルインダン1.1gと実施例Ｄに従つて得られた６−
エチルスルホニルナフタレン−２−カルボン酸クロリド
1.5gとの混合物を、０℃において空気中の湿気を遮断し
て撹拌し、これに塩化アルミニウム1.1gを少量ずつ添加
する。添加終了後、混合物を０℃において１時間次に室
温において１時間撹拌する。次に塩化アンモニウム飽和
溶液100cm3に注ぎ、ジクロルメタン100cm3により３回抽
出する。有機相を集め、炭酸水素ナトリウムで次に水で
洗い、終りに硫酸マグネシウム上で乾燥させる。溶媒の
蒸発後に、粗生成物1.5gが得られ、エタノールの痕跡を
含むヘキサン／トルエン（1:1）混合物から再結晶させ
る。
エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホンは白色の
粉末で融点136℃である。
ダニル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホンは白色の
粉末で融点136℃である。
元素分析:C27H30O3Sとして Ｃ Ｈ Ｏ Ｓ 計算値（％）： 74.62 6.96 11.04 7.38 実測値（％）： 74.42 6.95 11.06 7.45 実施例３ エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕−２−ナ
フチルスルホンの調製 ０℃に冷却してあるメタノール30cm3中の実施例XIVに
従つて得られたエチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ
−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチル）カルボニ
ル〕−２−ナフチルスルホン200mgの懸濁液に、硼水素
化ナトリウム100mgを添加する。反応媒体を30分間撹拌
し続け、次に室温に戻らせる。原料のカルボニルの消滅
を薄層クロマトグラフイーで確めた後、アルコールを減
圧下で蒸発させ、残渣を水100cm3にとり1N塩酸溶液で酸
性とする。生成した沈澱を別し、真空中で乾燥させ
る。
ラメチル−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕−２−ナ
フチルスルホンの調製 ０℃に冷却してあるメタノール30cm3中の実施例XIVに
従つて得られたエチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ
−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチル）カルボニ
ル〕−２−ナフチルスルホン200mgの懸濁液に、硼水素
化ナトリウム100mgを添加する。反応媒体を30分間撹拌
し続け、次に室温に戻らせる。原料のカルボニルの消滅
を薄層クロマトグラフイーで確めた後、アルコールを減
圧下で蒸発させ、残渣を水100cm3にとり1N塩酸溶液で酸
性とする。生成した沈澱を別し、真空中で乾燥させ
る。
トルエン／ヘキサン混合物から再結晶後に融点157℃
の白色結晶150mgが回収され、その1HNMR（80MHz）スペ
クトルは期待の構造と一致した。
の白色結晶150mgが回収され、その1HNMR（80MHz）スペ
クトルは期待の構造と一致した。
元素分析:C27H30O3Sとして Ｃ Ｈ Ｏ Ｓ 計算値（％）： 74.27 7.39 11.00 7.34 実測値（％）： 74.10 7.35 11.19 7.44 実施例４ エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２−ナ
フチル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホンの調製 チオニルクロリド8.5cm3中（10当量）中の実施例Ｄに
記載の６−エチルスルホニル ナフタレンカルボン酸3g
（11.35mmol）の懸濁液を還流冷却しながら１時間加熱
する。得られた溶液を減圧下で蒸発させる。こうして単
離した粗製の酸クロリト（ベージユ色の固体）を無水1,
2−ジクロルエタン30cm3にとる。5,8−ジメチル−６−
メトキシナフタレン2.12g（11.38mmol）を、次に少量ず
つ無水塩化アルミニウム2.27g（17mmol）を添加し室温
において３時間撹拌する。次に反応媒体を氷水30cm3に
注ぐ。ジクロルエタン50cm3で希釈し、有機相を傾瀉
（デカンテーシヨン）し、水相はジクロルエタン30cm3
で再抽出する。有機相を合せ、水で洗い、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥させ蒸発乾涸させる。単離した粗固体はジク
ロルメタンに溶かしシリカゲル60のクロマトグラフイー
により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合物から再
結晶させる。乾燥後にエチル６−〔（5,8−ジメチル−
６−メトキシ−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフ
チルスルホンの淡黄色結晶1.5gが得られる。融点:164−
165℃。
フチル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホンの調製 チオニルクロリド8.5cm3中（10当量）中の実施例Ｄに
記載の６−エチルスルホニル ナフタレンカルボン酸3g
（11.35mmol）の懸濁液を還流冷却しながら１時間加熱
する。得られた溶液を減圧下で蒸発させる。こうして単
離した粗製の酸クロリト（ベージユ色の固体）を無水1,
2−ジクロルエタン30cm3にとる。5,8−ジメチル−６−
メトキシナフタレン2.12g（11.38mmol）を、次に少量ず
つ無水塩化アルミニウム2.27g（17mmol）を添加し室温
において３時間撹拌する。次に反応媒体を氷水30cm3に
注ぐ。ジクロルエタン50cm3で希釈し、有機相を傾瀉
（デカンテーシヨン）し、水相はジクロルエタン30cm3
で再抽出する。有機相を合せ、水で洗い、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥させ蒸発乾涸させる。単離した粗固体はジク
ロルメタンに溶かしシリカゲル60のクロマトグラフイー
により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合物から再
結晶させる。乾燥後にエチル６−〔（5,8−ジメチル−
６−メトキシ−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフ
チルスルホンの淡黄色結晶1.5gが得られる。融点:164−
165℃。
1HNMR（250MHz）スペクトルは期待の構造に一致して
いる。
いる。
元素分析:C26H24O4Sとして Ｃ Ｈ Ｏ Ｓ 計算値（％）： 72.20 5.59 14.80 7.41 実測値（％）： 72.36 5.58 14.36 7.03 実施例５ エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２−ナ
フチル）ヒドロキシメチル〕−２−ナフチルスルホンの
調製 実施例４記載のエチル６−〔（5,8−ジメチル−６−
メトキシ−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン0.5g（1.16mmol）の溶液に硼水素化ナトリウム
0.175g（4.64mmol）を添加し、室温において３時間撹拌
する。次に０℃に冷却し、次に0.1N塩酸をゆつくり加え
て酸性とし、エチルエーテル（３×40cm3）で抽出す
る。エーテル相を水で洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、蒸発乾涸させる。単離した粗製固体はジクロルメタ
ンに溶かしシリカゲル60のクロマトグラフイーにより精
製し、続いて痕跡のアセトン含有のヘキサンから再結晶
させる。乾燥後にベージユ色結晶の形のエチル６−
〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２−ナフチル）ヒ
ドロキシメチル〕−２−ナフチルスルホン0.3gが得られ
る。融点:141−143℃。
フチル）ヒドロキシメチル〕−２−ナフチルスルホンの
調製 実施例４記載のエチル６−〔（5,8−ジメチル−６−
メトキシ−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン0.5g（1.16mmol）の溶液に硼水素化ナトリウム
0.175g（4.64mmol）を添加し、室温において３時間撹拌
する。次に０℃に冷却し、次に0.1N塩酸をゆつくり加え
て酸性とし、エチルエーテル（３×40cm3）で抽出す
る。エーテル相を水で洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、蒸発乾涸させる。単離した粗製固体はジクロルメタ
ンに溶かしシリカゲル60のクロマトグラフイーにより精
製し、続いて痕跡のアセトン含有のヘキサンから再結晶
させる。乾燥後にベージユ色結晶の形のエチル６−
〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２−ナフチル）ヒ
ドロキシメチル〕−２−ナフチルスルホン0.3gが得られ
る。融点:141−143℃。
1HNMR（250MHz）スペクトルは期待の構造と一致して
いる。
いる。
元素分析:C26H26O4Sとして Ｃ Ｈ Ｏ Ｓ 計算値（％）： 71.86 6.03 14.73 7.38 実測値（％）： 71.55 6.34 14.44 6.99 実施例６ エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２−ナ
フチル）メチレン〕−２−ナフチルスルホンの調製 実施例４記載のエチル６−〔（5,8−ジメチル−６−
メトキシ−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン0.43g（1mmol）、氷酢酸10cm3及び亜鉛末0.65g
（10mmol）の懸濁液を還流冷却下、撹拌をしながら加熱
する。引続いて12N塩酸0.85cm3（10mmol）を滴加し、還
流冷却を１時間維持する。改めて12N塩酸0.85cm3を添加
し、１時間撹拌してから放冷する。12N塩酸20cm3添加後
にエーテル（３×30cm3）で抽出し、水で洗い、硫酸ナ
トリウム上で乾燥させ、蒸発乾涸させる。粗製の黄色固
体はシリカゲル60のクロマトグラフイー（溶出剤：ジク
ロルメタン）により速かに精製し、続いてヘキサン／ア
セトン混合物から再結晶させる。乾燥後にエチル６−
〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２−ナフチル）メ
チレン〕−２−ナフチルスルホンの白色針状晶160mgが
得られる。融点:166℃。
フチル）メチレン〕−２−ナフチルスルホンの調製 実施例４記載のエチル６−〔（5,8−ジメチル−６−
メトキシ−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン0.43g（1mmol）、氷酢酸10cm3及び亜鉛末0.65g
（10mmol）の懸濁液を還流冷却下、撹拌をしながら加熱
する。引続いて12N塩酸0.85cm3（10mmol）を滴加し、還
流冷却を１時間維持する。改めて12N塩酸0.85cm3を添加
し、１時間撹拌してから放冷する。12N塩酸20cm3添加後
にエーテル（３×30cm3）で抽出し、水で洗い、硫酸ナ
トリウム上で乾燥させ、蒸発乾涸させる。粗製の黄色固
体はシリカゲル60のクロマトグラフイー（溶出剤：ジク
ロルメタン）により速かに精製し、続いてヘキサン／ア
セトン混合物から再結晶させる。乾燥後にエチル６−
〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２−ナフチル）メ
チレン〕−２−ナフチルスルホンの白色針状晶160mgが
得られる。融点:166℃。
1HNMR（80MHz）スペクトルは期待の構造と一致してい
る。
る。
実施例７ エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）メチレン〕−２−ナフチルス
ルホンの調製 氷酢酸10cm3中の実施例１記載のエチル６−〔（5,6,
7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフ
チル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホン0.50g及び
亜鉛末0.65gの懸濁液を撹拌しながら還流下で１時間加
熱する。
ラメチル−２−ナフチル）メチレン〕−２−ナフチルス
ルホンの調製 氷酢酸10cm3中の実施例１記載のエチル６−〔（5,6,
7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフ
チル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホン0.50g及び
亜鉛末0.65gの懸濁液を撹拌しながら還流下で１時間加
熱する。
次に濃塩酸0.9cm3を滴加する。還流冷却は塩酸添加終
了後もさらに１時間維持し、改めて塩酸0.9cm3を添加
し、混合物をさらに１時間酢酸の沸点に保ち、次に１夜
間放置する。翌日6N塩酸20cm3に注ぎ、エチルエーテル3
0cm3により３回抽出する。エーテル相を集め、水で洗
い、傾瀉し硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶媒蒸発後
に黄色粉末0.5gが得られこれをメチレンクロリドに溶か
しこの溶液をシリカゲルのクロマトグラフイーカラムへ
移す。
了後もさらに１時間維持し、改めて塩酸0.9cm3を添加
し、混合物をさらに１時間酢酸の沸点に保ち、次に１夜
間放置する。翌日6N塩酸20cm3に注ぎ、エチルエーテル3
0cm3により３回抽出する。エーテル相を集め、水で洗
い、傾瀉し硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶媒蒸発後
に黄色粉末0.5gが得られこれをメチレンクロリドに溶か
しこの溶液をシリカゲルのクロマトグラフイーカラムへ
移す。
所望の生成物含有のフラクシヨンの濃縮及び乾燥後、
白色結晶の形のエチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ
−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチル）メチレン〕
−２−ナフチルスルホン0.32gが得られる。融点:174
℃。
白色結晶の形のエチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ
−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチル）メチレン〕
−２−ナフチルスルホン0.32gが得られる。融点:174
℃。
1HNMRスペクトルは期待の構造に一致する。
組成物の例 Ａ経口 実施例１ 0.2g錠剤 エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン 0.010g 澱粉 0.115g 燐酸二カルシウム 0.020g シリカ 0.020g 乳糖 0.030g タルク 0.010g ステアリン酸マグネシウム 0.005g 実施例２ 5mlアンプール入飲用懸濁液 エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホン 0.010g グリセリン 0.500g 70％ソルビトール 0.500g サツカリンナトリウム 0.010g ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル 0.040g 香料 必要量 純水を加えて 5.000g Ｂ局所経由 実施例３ 軟膏 エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン 0.010g 流動ワセリン油 9.100g DEGUSSA社から“Aerosil200"の名称で市販のシリカ9.10
0g ミリスチン酸イソプロピルを加えて 100.000g 実施例４ アニオン系水中油クリーム エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホン 0.100g ドデシル硫酸ナトリウム 0.800g グリセロール 2.000g ステアリルアルコール 20.000g DYNAMIT NOBEL社から“Miglyol812"の名称で市販のカプ
リン／カプリリン酸トリグリセリド 20.000g 防腐剤 必要量 脱塩水を加えて 100.000g 実施例５ ゲル エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホン 0.500g HERCULES社から“KLUCEL HF"の名称で市販のヒドロキシ
プロピルセルロース 2.000g 水／エタノール（50:50）を加えて 100.000g この例において活性化合物はエチル６−〔（5,6,7,8
−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチ
ル）ヒドロキシメチル〕−２−ナフチルスルホン0.05g
で代替できる。
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン 0.010g 澱粉 0.115g 燐酸二カルシウム 0.020g シリカ 0.020g 乳糖 0.030g タルク 0.010g ステアリン酸マグネシウム 0.005g 実施例２ 5mlアンプール入飲用懸濁液 エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホン 0.010g グリセリン 0.500g 70％ソルビトール 0.500g サツカリンナトリウム 0.010g ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル 0.040g 香料 必要量 純水を加えて 5.000g Ｂ局所経由 実施例３ 軟膏 エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン 0.010g 流動ワセリン油 9.100g DEGUSSA社から“Aerosil200"の名称で市販のシリカ9.10
0g ミリスチン酸イソプロピルを加えて 100.000g 実施例４ アニオン系水中油クリーム エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホン 0.100g ドデシル硫酸ナトリウム 0.800g グリセロール 2.000g ステアリルアルコール 20.000g DYNAMIT NOBEL社から“Miglyol812"の名称で市販のカプ
リン／カプリリン酸トリグリセリド 20.000g 防腐剤 必要量 脱塩水を加えて 100.000g 実施例５ ゲル エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕−２−ナフチルスルホン 0.500g HERCULES社から“KLUCEL HF"の名称で市販のヒドロキシ
プロピルセルロース 2.000g 水／エタノール（50:50）を加えて 100.000g この例において活性化合物はエチル６−〔（5,6,7,8
−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチ
ル）ヒドロキシメチル〕−２−ナフチルスルホン0.05g
で代替できる。
実施例６ 抗脂漏性クリーム ATLAS社から“MYRJ52"の名称で市販のステアリン酸ポリ
オキシエチレン（酸化エチレン40モル） 4.000g ATLAS社から“TWEEN20"の名称で市販の酸化エチレン20
モルでポリオキシエチレン化したソルビトールとソルビ
タンとのラウリン酸エステルの混合物 1.800g GATTEFOSSE社から“GELEOL"の名称で市販のモノ−及び
ジ−ステアリン酸グリセロールの混合物 4.200g プロピレングリコール 10.000g ブチルヒドロキシアニソール 0.010g ブチルヒドロキシトルエン 0.020g ケトステアリルアルコール 6.200g 防腐剤 必要量 ペルヒドロスクワレン 18.000g DYNAMIT NOBEL社から“MIGLYOL812"の名称で市販のカプ
リル／カプリン酸トリグリセリドの混合物 4.000g Ｓ−カルボキシメチルシステイン 3.000g トリエタノールアミン99％ 2.500g メチル４−〔３−Ｅ（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−
インダニル）−３−ヒドロキシプロペニル〕フエニルス
ルホン 0.100g 水を加えて 100.000g 実施例７ 抗脂漏性クリーム ATLAS社から“MYRJ52"の名称で市販のステアリン酸ポリ
オキシエチレン（酸化エチレン40モル） 4.000g ATLAS社から“TWEEN20"の名称で市販の酸化エチレン20
モルでポリオキシエチレン化したソルビトールとソルビ
タンとのラウリン酸エステルの混合物 1.800g GATTEFOSSE社から“GELEOL"の名称で市販のモノ−及び
ジ−ステアリン酸グリセロールの混合物 4.200g プロピレングリコール 10.000g ブチルヒドロキシアニソール 0.010g ブチルヒドロキシトルエン 0.020g ケトステアリルアルコール 6.200g 防腐剤 必要量 ペルヒドロスクワレン 18.000g DYNAMIT NOBEL社から“MIGLYOL812"の名称で市販のカプ
リル／カプリン酸トリグリセリドの混合物 4.000g ５−アミノ−５−カルボキシ−３−チアペンタン酸２−
ベンジルチオエチル−アンモニウム 3.000g エチル４−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン 0.500g 水を加えて 100.000g 実施例８ 毛髪用ローシヨン プロピレングリコール 20.000g エタノール 34.870g 分子量400のポリエチレングリコール 40.000g 水 4.000g ブチルヒドロキシアニソール 0.010g ブチルヒドロキシトルエン 0.020g エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン 0.100g Minoxidil 1.000g 実施例９ 抗瘡用ゲル エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホキシド 0.100g イソプロピルアルコール 40.000g GOODRICH CHEMICAL社から“CARBOPOL940"の名称で市販
のアクリル酸ポリマー 1.000g トリエタノールアミン99％ 0.600g ブチルヒドロキシアニソール 0.010g ブチルヒドロキシトルエン 0.020g チオキソロン 0.500g プロピレングリコール 8.000g 純水を加えて 100.000g 薬理学的試験 １）ODC抑制−経口；試験方法 ODC（オルニチンデカルボキシラーゼ）活性は細胞増
殖の指標と考えられる。
オキシエチレン（酸化エチレン40モル） 4.000g ATLAS社から“TWEEN20"の名称で市販の酸化エチレン20
モルでポリオキシエチレン化したソルビトールとソルビ
タンとのラウリン酸エステルの混合物 1.800g GATTEFOSSE社から“GELEOL"の名称で市販のモノ−及び
ジ−ステアリン酸グリセロールの混合物 4.200g プロピレングリコール 10.000g ブチルヒドロキシアニソール 0.010g ブチルヒドロキシトルエン 0.020g ケトステアリルアルコール 6.200g 防腐剤 必要量 ペルヒドロスクワレン 18.000g DYNAMIT NOBEL社から“MIGLYOL812"の名称で市販のカプ
リル／カプリン酸トリグリセリドの混合物 4.000g Ｓ−カルボキシメチルシステイン 3.000g トリエタノールアミン99％ 2.500g メチル４−〔３−Ｅ（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−
インダニル）−３−ヒドロキシプロペニル〕フエニルス
ルホン 0.100g 水を加えて 100.000g 実施例７ 抗脂漏性クリーム ATLAS社から“MYRJ52"の名称で市販のステアリン酸ポリ
オキシエチレン（酸化エチレン40モル） 4.000g ATLAS社から“TWEEN20"の名称で市販の酸化エチレン20
モルでポリオキシエチレン化したソルビトールとソルビ
タンとのラウリン酸エステルの混合物 1.800g GATTEFOSSE社から“GELEOL"の名称で市販のモノ−及び
ジ−ステアリン酸グリセロールの混合物 4.200g プロピレングリコール 10.000g ブチルヒドロキシアニソール 0.010g ブチルヒドロキシトルエン 0.020g ケトステアリルアルコール 6.200g 防腐剤 必要量 ペルヒドロスクワレン 18.000g DYNAMIT NOBEL社から“MIGLYOL812"の名称で市販のカプ
リル／カプリン酸トリグリセリドの混合物 4.000g ５−アミノ−５−カルボキシ−３−チアペンタン酸２−
ベンジルチオエチル−アンモニウム 3.000g エチル４−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン 0.500g 水を加えて 100.000g 実施例８ 毛髪用ローシヨン プロピレングリコール 20.000g エタノール 34.870g 分子量400のポリエチレングリコール 40.000g 水 4.000g ブチルヒドロキシアニソール 0.010g ブチルヒドロキシトルエン 0.020g エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホン 0.100g Minoxidil 1.000g 実施例９ 抗瘡用ゲル エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕−２−ナフチル
スルホキシド 0.100g イソプロピルアルコール 40.000g GOODRICH CHEMICAL社から“CARBOPOL940"の名称で市販
のアクリル酸ポリマー 1.000g トリエタノールアミン99％ 0.600g ブチルヒドロキシアニソール 0.010g ブチルヒドロキシトルエン 0.020g チオキソロン 0.500g プロピレングリコール 8.000g 純水を加えて 100.000g 薬理学的試験 １）ODC抑制−経口；試験方法 ODC（オルニチンデカルボキシラーゼ）活性は細胞増
殖の指標と考えられる。
この試験においては、所与の医薬化合物ついて、TPA
又はPMA（ホルボール−12−ミリステート−13−アセテ
ート）を局所投与した後、５時間後に上記医薬化合物を
経口投与した（胃内投与）無毛マウスの表皮上で誘発さ
れるODC活性を測定する。
又はPMA（ホルボール−12−ミリステート−13−アセテ
ート）を局所投与した後、５時間後に上記医薬化合物を
経口投与した（胃内投与）無毛マウスの表皮上で誘発さ
れるODC活性を測定する。
供試化合物を投与することなしにTPAを所与の投与量
で局所投与した場合、ODC誘発率は100％、即ち、ODC抑
制率０％である。
で局所投与した場合、ODC誘発率は100％、即ち、ODC抑
制率０％である。
２） 試験結果 供試化合物 ODC抑制率−経口 100mg/kg（％） 実施例１の化合物 42
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/10 ＡＢＥ Ａ６１Ｋ 31/10 ＡＢＥ 31/12 ＡＤＡ 31/12 ＡＤＡ 31/135 ＡＢＢ 31/135 ＡＢＢ 31/15 ＡＢＬ 31/15 ＡＢＬ 31/165 ＡＢＦ 31/165 ＡＢＦ 31/18 ＡＤＵ 31/18 ＡＤＵ 31/19 ＡＢＧ 31/19 ＡＢＧ Ｃ０７Ｃ 309/33 Ｃ０７Ｃ 309/33 311/16 311/16 311/17 311/17 311/18 311/18 311/19 311/19 317/18 317/18 317/22 317/22 317/28 317/28 317/32 317/32 317/44 317/44 323/12 323/12 323/18 323/18 323/19 323/19 323/22 323/22 323/24 323/24 323/25 323/25 323/32 323/32 323/47 323/47 323/52 323/52 323/58 323/58 323/60 323/60 (72)発明者 セルジュ・レストル フランス国．オーナイ・スー・ボワ．リ ュ・アナトール・フランス．140 (56)参考文献 特開 昭57−149265（ＪＰ，Ａ)
Claims (17)
- 【請求項１】式（Ｉ）： 〔式中、Ｒは−SO2R3を表し;R3は直鎖又は分岐鎖低級ア
ルキル基、モノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシ
アルキル基、アミノアルキル基、カルボキシアルキル
基、アミノカルボキシアルキル基又はアルコキシアルキ
ル基を表し;R′は水素原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ヒドロキシル基、C1−C4アシルオキシ基又は
アミノ基を表し;R″は水素原子、低級アルキル基又は低
級アルコキシ基を表すか又はＲ′及びＲ″が一緒になっ
てオキソ基（＝０）、メタノ基（＝CH2）又はヒドロキ
シイミノ基（＝Ｎ−OH）を形成しており;nは１であり、
R1とR2は一緒にビニレン基（−CH＝CH−）を形成してお
り;Arは式： （これらの式中のR4、R5、R6、R7、R8、R9、R10及びR11
は水素原子又は低級アルキル基を表し、R4及び／又はR5
の少なくとも一方は水素原子ではなく、R8〜R11のうち
の少なくとも二つは水素原子ではなく、Ａは低級アルキ
ル基により置換されているか又は置換されていないメチ
レン基又はジメチレン基を表し、Ａがジメチレン基を表
すときはR8及びR10は一緒になってメチレン基又はジメ
チレン基を形成し得る）から選ばれた芳香族基の一つを
表す〕で表される多環芳香族化合物及び上記式（Ｉ）の
化合物の塩ならびにその幾何学的及び光学的異性体。 - 【請求項２】低級アルキル基はメチル基、エチル基、イ
ソプロピル基、ブチル基及びtertブチル基からなる群か
ら選ばれる請求項１記載の化合物。 - 【請求項３】モノヒドロキシアルキル基は炭素数２〜６
個の基、特に、２−ヒドロキシエチル基又は２−ヒドロ
キシプロピル基である請求項１記載の化合物。 - 【請求項４】ポリヒドロキシアルキル基は炭素数が３〜
６個、ヒドロキシル基数が２〜５個の基、特に、2,3−
ジヒドロキシプロピル基、1,3−ジヒドロキシ−２−プ
ロピル基又はペンタエリスリトール残基である請求項１
記載の化合物。 - 【請求項５】アミノアルキル基は２−アミノエチル基、
２−アミノプロピル基又は３−アミノプロピル基のごと
き炭素数２〜６個のアミノアルキル基である請求項１記
載の化合物。 - 【請求項６】カルボキシアルキル基はカルボキシメチル
基、２−カルボキシエチル基、２−カルボキシプロピル
基又は３−カルボキシブチル基のごとき炭素数２〜７個
のカルボキシアルキル基である請求項１記載の化合物。 - 【請求項７】アミノカルボキシアルキル基は２−アミノ
−２−カルボキシエチル基又は３−アミノ−３−カルボ
キシプロピル基である請求項１記載の化合物。 - 【請求項８】低級アルコキシ基はメトキシ基、エトキシ
基、ブトキシ基又はイソプロポキシ基である請求項１記
載の化合物。 - 【請求項９】式（II）： 〔式中、Ｒは−SO2R′３基を表し;R′３は低級アルキル
基を表し、Ｒ′は水素原子、ヒドロキシル基又は低級ア
ルキル基を表し、Ｒ″は水素原子を表すか又はＲ′及び
Ｒ″が一緒になってオキソ基（＝０）を形成し、Ａはジ
メチレン基又は式 の基を表す）で表わされる請求項１〜８のいずれかに記
載の化合物。 - 【請求項１０】下記の化合物： −エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テ
トラメチル−２−ナフチル）カルボニル〕２−ナフチル
スルホン、 −エチル６−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −２′３′−ジヒドロキシプロピル−６−〔（5,6,7,8
−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−２−ナフチ
ル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テ
トラメチル−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕２−ナ
フチルスルホン、 −エチル６−〔（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テ
トラメチル−２−ナフチル）メチレン〕２−ナフチルス
ルホン、 −エチル〔１−（5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テ
トラメチル−２−ナフチル）１−ヒドロキシエチル〕２
−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２−
ナフチル）カルボニル〕２−ナフチルスルホン、 −エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２−
ナフチル）ヒドロキシメチル〕２−ナフチルスルホン及
び −エチル６−〔（5,8−ジメチル−６−メトキシ−２−
ナフチル）メチレン〕２−ナフチルスルホン から選ばれた請求項１〜９のいずれかに記載の化合物。 - 【請求項１１】請求項１〜10のいずれかに記載の式
（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を担体中に含んでいる
皮膚の疾患の処置に用いる医薬組成物。 - 【請求項１２】請求項１〜10のいずれかに記載の式
（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を担体中に含んでいる
呼吸器の疾患の処置に用いる医薬組成物。 - 【請求項１３】請求項１〜10のいずれかに記載の式
（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を担体中に含んでいる
眼の疾患の処置に用いる医薬組成物。 - 【請求項１４】式（Ｉ）の化合物を0.0001〜５重量％の
濃度で含んでいる請求項11〜13のいずれか記載の組成
物。 - 【請求項１５】請求項１〜10のいずれかに記載の式
（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を適当な化粧料担体中
に含んでいる身体及び毛髪衛生用化粧料組成物。 - 【請求項１６】式（Ｉ）の化合物を0.0001〜５重量％の
濃度で含んでいる請求項15記載の組成物。 - 【請求項１７】給湿剤、抗脂漏剤、抗座瘡剤、抗生剤、
発毛促進剤、抗炎症剤、カロチノイド及び抗乾癬剤から
なる群から選ばれた添加剤の１種を含んでいる請求項11
〜16のいずれかに記載の組成物。
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