JP2575176B2 - 洗浄乾燥システムおよびその方法 - Google Patents

洗浄乾燥システムおよびその方法

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JP2575176B2 JP10747588A JP10747588A JP2575176B2 JP 2575176 B2 JP2575176 B2 JP 2575176B2 JP 10747588 A JP10747588 A JP 10747588A JP 10747588 A JP10747588 A JP 10747588A JP 2575176 B2 JP2575176 B2 JP 2575176B2
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Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は洗浄乾燥システムに関し、一層詳細には、浄
化等のために迅速に外部でボウル交換処理を行うための
着脱自在な処理用ボウルを有する洗浄乾燥システムに関
する。
［発明の背景］ シリコンウエハ等のための従来の水洗機および乾燥機
はウエハチップの洗浄およびすすぎ洗いに用いられてい
る。然しながら、すすぎ洗い若しくは乾燥工程における
高速回転時に脆いシリコンまたはガリウム砒化物からな
るウエハ、基板、マスクまたはディスクが粉砕若しくは
分解する虞があり、このような場合に当該装置を洗浄す
る方法および手段は未だ提供されていない。
長年にわたり、従来の水洗機および乾燥機においてシ
リコンウエハの細片を洗浄且つ除去することが所望され
ている。このことは屡シリコンウエハの処理におけるシ
ーケンスの大幅な遅延の原因となっているからである。
さらにまた、作業者の不注意若しくは作業者による処理
の誤認によってシリコンウエハに対し不適切な処理を惹
起することもある。
本出願人が特許権者となっている1981年11月17日付米
国特許第4,300,581号は「遠心ウエハプロセッサ」に関
する。然しながら、前記特許では、細片除去用のボウル
を迅速且つ容易に着脱することは困難である。一方、本
発明によれば、パネル固着機構、粒子コレクタ、排気口
機構、プローブ壁および部材加工用の関連機構から相互
交換出来る新規なボウル構造が採用されている。
［発明の目的］ 本発明は前記の如き従来技術の欠点を克服するために
なされたものであって、洗浄のための着脱自在で且つ迅
速に交換することが可能なボウル、および洗浄乾燥機構
の外部へチップの細片を除去するための着脱自在な細片
コレクタとを備える洗浄および乾燥処理用システムを提
供することを目的とする。
本発明の別の目的は、シリコン若しくはガリウム砒化
物からなるウエハ、基板、マスク、またはディスク等の
ための着脱自在なボウルを用いた自動洗浄乾燥システム
を提供することにある。
［目的を達成するための手段］ 前記の目的を達成するために、本発明はハウジング構
造体に支持されているプレート取付手段と、前記プレー
ト取付手段に固着され且つ前記取付手段の前方へ延在し
ている軸および動力源を備えたモータと、前記プレート
取付手段に固着されている少なくとも１つの噴霧ノズル
用マニホールドと、前記プレート取付手段から外方へ延
在している少なくとも２つの固定手段と、前記固定手段
によってプレート取付手段に案内され且つ前記軸と前記
噴霧ノズル用マニホールドに対して位置決めされボウル
の下部領域においてドレン部を含む着脱自在なボウル
と、前記ボウルの前面を覆っているドアとからなること
を特徴とするウエハキャリヤにおける少なくとも１つの
部材から流体を供給し且つ除去することを特徴とする。
本発明の別の目的は基板カセットロータをモータ軸へ
迅速に接続および離間するための手段を備えていること
を特徴とする。
本発明のまた別の目的は固着手段への迅速な接続およ
び離間を行うための手段を備えていることを特徴とす
る。
本発明のまた他の目的は固着手段が複数のねじ込み型
スタッド手段とノブ型手段とからなることを特徴とする
洗浄乾燥システム。
本発明のさらにまた他の目的は固着手段が複数のねじ
込み型スタッドと、内部ねじ込み型ノブを備えているこ
とを特徴とする。
本発明の別の目的は前記ボウルのドレンに接続されて
いるマニホールド手段を備えていることを特徴とする。
本発明のまた別の目的はマニホールド手段がトラフ手
段と、前記トラフ手段の底部に設けたドレンと、前記ト
ラフとドレンとの間に設けられているプローブ手段を備
えていることを特徴とする。
本発明のまた他の目的はプローブ手段が抵抗プローブ
であることを特徴とする。
本発明のさらにまた他の目的はプローブ手段がペーハ
ー（pH）プローブであることを特徴とする。
また、本発明の目的はマニホールド手段が排気口手段
と前記マニホールドと排気口との間に設けられたドア手
段とドア作動手段を備えていることを特徴とする。
本発明の別の目的はドア作動手段が空気圧シリンダか
らなることを特徴とする。
本発明のまた別の目的はガスをボウルに導入する手段
を備えていることを特徴とする。
本発明のさらにまた別の目的はガスを濾過する手段を
備えていることを特徴とする。
本発明の他の目的はガスを加熱する手段を備えている
ことを特徴とする。
本発明のまた他の目的はガスが空気であることを特徴
とする。
本発明のさらに他の目的はガスが窒素であることを特
徴とする。
本発明のさらに他の目的はボウルがステンレス鋼材か
らなることを特徴とする。
本発明の別の目的はボウルがポリテトラフルオロエチ
レンからなることを特徴とする。
本発明のまた別の目的は軸近傍にガスカーテンを設け
る手段を備えていることを特徴とする。
本発明のさらにまた別の目的はボウル内に係合するボ
ウルライナを備えていることを特徴とする。
本発明の他の目的はボウルが水平線に対して実質的に
10゜の角度であることを特徴とする。
本発明のさらに他の目的は水平方向に対して所定の角
度で着脱自在に設けられたロータにおいて少なくとも１
つの部材でキャリヤを設置する工程と、前記角度で設置
したボウルにおいて軸線を中心として前記キャリヤを回
転させる工程と、連続可動のために洗浄乾燥システムの
ロータおよびボウルを迅速に交換する工程とからなる洗
浄乾燥システムボウル内で回転しているキャリヤ内の部
材を洗浄し且つ乾燥させることを特徴とする。
本発明の他の目的は半導体ウエハ、基板、ディスクお
よびそれらに類似するユニットを処理するための洗浄乾
燥システムであって、 処理室を封入すると共に、パネルを有し、前記出入用
開口部を介して前記処理室がユニットを挿入し且つ取り
外すために出入を許容するハウジングと、 処理するためにハウジング内で少なくとも１つの前記
ユニットを回転可能に旋回させる駆動手段と、 前記ハウジング内に受容された取付プレートと、 ボウルがハウジングから容易に取り外されるのを許容
し、その置換によって処理要件を維持し、あるいは変更
するために着脱自在なボウルの装着が可能なように、前
記取付プレートに着脱自在に取り付けられた着脱自在な
ボウルと、 前面の出入用開口部を覆って封止するドアと、 からなることを特徴とする。
本発明の他の目的は処理するために前記ユニットの少
なくとも１つを保持する着脱自在なロータをさらに備
え、前記ロータが、前記出入用開口部を介してロータの
取外しおよび装着を可能とするように、モータ駆動手段
に対して着脱自在に取付けられたことを特徴とする。
本発明の他の目的は処理されるユニットに対して流体
を噴霧するための、取付プレートに固着された噴霧ノズ
ルをさらに備えることを特徴とする。
本発明の他の目的はボウルから流体を排出するドレン
手段をさらに備え、前記ドレン手段は、排出液体から固
体粒子を分離する粒子分離器を含み、前記粒子分離器
は、清掃または置換のためにハウジングから取外し可能
であることを特徴とする。
本発明の他の目的は粒子分離器が、ボウルから排出さ
れた流出物の性質を決定するためのセンサを取り付ける
手段を含むことを特徴とする。
本発明の他の目的は流体の流れに抵抗するために着脱
自在なボウルと取付プレートとの間に配置された第１の
シールをさらに備えることを特徴とする。
本発明の他の目的はボウルからの流体を排出するドレ
ン手段をさらに備え、前記ドレン手段が、ガスおよび液
体を実質的にガスの流出物流と実質的に液体の流出物流
とに分離するガス／液体分離マニホールド手段を備え、
ガスの流出物流は、ボウルからのガスの流出物の流れを
制御する弁を含むことを特徴とする。
本発明のさらに他の目的は半導体ウエハ、基板および
ディスクを処理するためのシステムであって、 ハウジングと、 ハウジング内に取付けられた少なくとも１つのボウル
であって、処理室を少なくとも部分的に画成する前記ボ
ウルと、 少なくとも部分的に処理室内に回転のために取り付け
られたロータと、 ロータに対して制御された回転運動を与える手段と、 処理室に対して少なくとも１つの液状処理流体を供給
する手段と、 流体を排出するためにボウルと流体的に連通したドレ
ン手段と、 処理室から前記ドレン手段を介して排出される液体流
出物から断片および他の粒子を選択的に除去するための
少なくとも１つの粒子分離室と、 からなることを特徴とする。
本発明の他の目的は前記粒子分離室が、流れる液体の
流出物から固体断片または他の粒子を分離するための粒
子分離器を備え、前記粒子分離器は、穿孔されたスクリ
ーンと、穿孔されたスクリーンの下部の堰を備えた液体
補集室とを備えることを特徴とする。
本発明の他の目的は前記堰を備えた液体補集室を通過
する流出物を感知するための少なくとも１つのセンサを
さらに備えることを特徴とする。
本発明の他の目的は前記粒子分離器が、置換または粒
子の清掃のために前記ハウジングから取り外し可能であ
ることを特徴とする。
本発明の他の目的は前記粒子分離器の上部にあって前
記ドレン手段と流体的に連通する少なくとも１つのガス
抜き手段をさらに備えることを特徴とする。
本発明の他の目的は半導体ウエハ、基板、ディスクお
よびそれらに類似するユニットを処理するための洗浄乾
燥システムであって、 ハウジングと、 ハウジング内に取り付けられたボウルであって、ボウ
ル内部を有する前記ボウルと、 前記ボウル内部の少なくとも一部分内に回転可能に受
容されたロータと、 ロータに対して回転運動を与えるための手段と、 ボウル内部に対して液体を供給する手段と、 ボウル内部に対してガスを供給する手段と、 流体を排出するためにボウルと流体的に連通する少な
くとも１つのドレン手段と、 ガスおよび液体を実質的に液体の流出物流と実質的に
ガスの流出物流とに分離するための少なくとも１つのガ
ス−液体分離手段と、 液体の流出物流内に配置された粒子分離器と、 からなることを特徴とする。
本発明の他の目的はボウルからのガスの流出物を制御
するための弁をさらに備えることを特徴とする。
本発明の他の目的は粒子分離器が、清掃または置換の
ために取り外し可能であることを特徴とする。
本発明の別の目的は半導体ウエハ、基板、ディスクお
よびそれらに類似するユニットを処理するための洗浄乾
燥システムであって、 ハウジングと、 ハウジング内に取り付けられたボウルと、 ボウル内に回転可能に受容されたロータであって、処
理するために少なくとも１つのユニットを保持するよう
用いられるロータと、 前記ロータに対して回転運動を与える手段と、 ボウル内に取り付けられた少なくとも２つのノズルで
あって、ガス源と液体源とに接続され、ロータによって
保持された少なくとも１つのユニット上に噴霧するよう
位置決めされたノズルと、 流体を排出し、ガスおよび液体を実質的に液体の流出
物流と実質的にガスの流出物流とに分離するための、ボ
ウルと流体連通したドレン手段とからなり、 前記ドレン手段は、ガスと液体とを分離する主室であ
って、基部開口部と頂部開口部とを有する主室と、 ボウルと主室との間に連結され、ガスおよび液体がボ
ウルから主室へと流れるのを可能とする取入ポートと、 頂部開口部と連通して主室に連結され、主室から実質
的にガスの流出物流を排気する第１の出力ポートであっ
て、内部に配置された弁を有する第１の出力ポートと、 基部開口部と連通して主室に連結され、主室から実質
的に液体の流出物流を排出する第２の出力ポートであっ
て、内部に配置され主室の基部開口部に隣接した粒子分
離器を有する第２の出力ポートと、 からなることを特徴とする。
本発明の他の目的は粒子分離器が穿孔したスクリーン
と堰を備えた補集室とを備え、前記堰を備えた補集室は
床部とこれから直立する複数の側壁とによって画成さ
れ、側壁の１つは残余の側壁の直立距離より小さい補集
室床部からの距離で直立し、これによりこの１つの側壁
は、液体が上部を流れ、一方穿孔したスクリーンを介し
て流れる小さい粒子を捕捉する縦方向の堰を形成し、排
出液体からこのような粒子の分離を図ることを特徴とす
る。
本発明の他の目的は粒子分離器が、清掃または置換の
ために取り外し可能であることを特徴とする。
本発明の他の目的は前面のドアを介して出入可能な封
入された処理室を有する遠心分離による洗浄乾燥システ
ムを作動させ維持する方法であって、 前記処理室内で回転させるために取り付けたロータ上
に少なくとも１つの半導体ユニットを載置し、 前面のドアを閉めて処理室を実質的に閉鎖し、 前記ロータとその上に載置された前記少なくとも１つ
の半導体ユニットとを回転させ、 前記ロータの回転を停止させ、 前記前面のドアを開け、 前記少なくとも１つの半導体ユニットを前記ロータか
ら取り外し、 前記ロータの取り外し可能な部分を処理室から取り外
し、 処理室を少なくとも部分的に画成する着脱自在な処理
室ボウルであって、動作の際にはロータに対して回転か
ら隔離される処理室ボウルを取り外し、 着脱自在な処理室ボウルを装置に再装着し、前記着脱
自在な処理室ボウルを取り外す工程で取り外した着脱自
在な処理室ボウルを置換え、前記再装着した着脱自在な
処理室ボウルを前記ロータに対して回転から隔離し、 ロータの一部分を再装着して前記ロータの前記取り外
し可能な部分を置換え、その後、 前記処理室内で回転させるために取り付けたロータ上
に少なくとも１つの半導体ユニットを２回目として載置
し、 前面のドアを２回目として閉めて処理室を実質的に閉
鎖し、 前記ロータとその上に２回目として載置された前記少
なくとも１つの半導体ユニットとを２回目として回転さ
せ、 前記ロータの回転を２回目として停止させ、 前記前面のドアを２回目として開け、 前記少なくとも１つの半導体ユニットを前記ロータか
ら２回目として取り外すことからなることを特徴とす
る。
本発明の他の目的は前記２回目としての載置工程の前
に、粒子補集器の穿孔した部分を遠心分離による装置か
ら取り外し、 前記２回目としての載置工程の前に、粒子分離器の穿
孔した部分を遠心分離による装置に再装着する ことをさらに含むことを特徴とする。
本発明の他の目的は前記着脱自在な処理室ボウルを取
り外すことが、着脱自在な処理室ボウルを取付プレート
から取り外すことを含むことを特徴とする。
本発明の他の目的は前記着脱自在な処理室ボウルを取
り外すことの前に、遠心分離による装置の前面のパネル
を取り外すことをさらに含むことを特徴とする。
本発明の他の目的および種々の利点は添付の図面を参
照し以下に詳細に説明される本発明の好適な実施態様か
ら容易に諒解されるであろう。なお、図中、同一の参照
符号は同一の構成要素を示すものとする。
［実施態様］ 第１図において、参照符号10は本発明に係る洗浄乾燥
システムを示す。この洗浄乾燥システム10は取付板14に
取り付けられ迅速且つ容易に着脱交換自在な洗浄用ボウ
ル12を含む。
第２図および第４図に示すように、内側に螺条が刻設
された迅速に解放することが可能なノブ16乃至22がボウ
ル12を取付板14に固着するように構成されている。この
ボウル12はステンレス鋼、ポリテトラフルオロエチレン
または他の適当な材料からなる。また、前記ボウル12は
単一素材からなり且つさらに迅速に交換可能とするため
に着脱自在なライナーを有している。複数のブランケッ
トヒータ13a乃至13nが内部温度を調節するためにボウル
12の周囲に配設されている。直流駆動モータ24が取付板
14に固着され着脱自在なボウル12の内部でカセットロー
タ26を回転させる。
ロータ26、ウエハ32およびカセット34が回転するにつ
れ加圧脱イオン水や流体等はカセット34に内蔵されたウ
エハ32から化学処理を行う加圧洗浄用の脱イオン水噴霧
マニホールド28を介して着脱自在なボウル12に導入され
る。さらに、予め定められ、あるいは抵抗センサによっ
て検出されて洗浄が完了した後、マニホールド28を介し
て着脱自在なボウル12に窒素やガス等が乾燥処理用とし
て導入される。取付板14、着脱自在なボウル12および関
連構成部材等は長方形のフレーム36内に収納されてい
る。
第３図に示すように、前記長方形のフレーム36が底部
40、鉛直な側面部42、44、46、48からなるベース部材38
に配設されており、さらに型枠上におけるベース部材38
の取り付けを容易にするために、フランジリップ50が鉛
直な側面部42乃至48に対し水平且つ外方向に指向して形
成されている。
第３図に示すように、プラスチック製の側部パネル5
2、背面部パネル56および上部パネル58が長方形のフレ
ーム36に対し且つその周囲に配設されている。
電気的制御モジュール60が、第３図の上部パネル58に
設けられている防水囲い62に嵌挿されている。この防水
囲い62はその底部としてのパネル58の上部と、第３図お
よび第４図に示す側部部材64、66、上部部材68および前
記背面部パネル56の一部から構成されている。また、前
記側部パネル52は第３図および第４図にも示されてい
る。
所定の角度を有する前面パネル70は長方形のフレーム
36の傾斜部に沿って取り付けられており、第１図および
第３図に示すように、迅速に解放可能な前面パネルの解
放用ネジ72乃至78、透視可能なシールドア80、ドアヒン
ジ81、ドアハンドル82、スタートボタン84、停止ボタン
86および膨張式環状ドアシール87を備えている。
第２図は着脱自在なボウル12および取付板14の分解組
立図であって、ここで同一の参照符号は前記と同一の構
成要素を示すものとする。
第３図に示すように、モータ24により駆動される回転
駆動板88およびボウルシール89は取付板14の中心に設け
られている。これについては、第３図および第７図で詳
細に説明する。
第４図に示すように、スタッド90、94の肩状部並びに
通常のスタッド92、96に固定手段が配設されており、着
脱自在なボウル12の適確な案内と方向性とを確保する。
その際、前記着脱自在なボウル12に装着された対応する
五角形状の且つ偏位したボウル用ブラケット98乃至104
のみが前記肩付スタッド90乃至96に好適に嵌合する。
図示するように、ボウル用ブラケット98乃至104ある
いはこれと同一の構造体は着脱自在なボウル12の周囲に
位置決めされ、夫々対応するスタッド90乃至96に対して
係合する。この着脱自在なボウル12は円筒形状の側部12
b、環状背面板12a、背面板孔12cおよび排水トラフ97を
備えており、後述するように、取付板14がボウル12から
の洗浄液の流れを促進させるよう所定角度偏位して取り
付けられている。
窒素供給部101、脱イオン水供給部103および付加脱イ
オン水供給部105が取付板14の前部下部に配設され、窒
素若しくは脱イオン水を供給するための迅速な接続また
はその接続を断つことを容易にする。
第３図乃至第６図に示すように、排気ガス用マニホー
ルド106が取付板14の背面部に適当な部材を用いて装着
されている（詳細は追って説明する）。
着脱自在であり且つ細片、すなわち、粒子を集めるコ
レクタ108が取付板14の下部に配設されており、しかも
排気ガス用マニホールド106と一体的である。さらに、
この粒子コレクタ108は砕けた粒子および破断片等を取
り除くために手で引き抜くことが出来るように構成され
ている。この粒子コレクタ108については、第３図、第
４図および第６図において詳細に説明する。
コレクタ用ベースプレート110は排気ガス用マニホー
ルド106にローレットが刻設された小ねじ112および114
で固定されている。
抵抗ペーハー（pH）センサ、あるいは同種のセンサ11
6が孔118に配置され、液体ドレン部120からの排水前に
着脱自在な破片粒子コレクタ108で検知されるようにリ
ンス流出液の酸性度、すなわち、ペーハー（pH）を検出
する。
ロータ26が回転駆動板88に嵌挿され、且つその回転駆
動板88にロータ取付用で且つローレットが刻設された手
締めナット121により取り付けられる。このロータ26は
第１の回転板122と複数の固定用取付孔124a乃至124nお
よび中心孔125を備えている。さらに、第２回転板126に
は固定取付孔128a乃至128n、カセット整合孔130、およ
び回転板122と126間に固定された平行支持部材132乃至1
36が備えられている。
第３図は駆動状態における洗浄乾燥システムの側断面
図であり、ここで同一の参照符号は前述した構成要素と
同一の構成要素を示すものとする。
駆動モータ24およびモータ取付用プレート138が取付
板14にモータ振動阻止用のゴム製サスペンション140乃
至146、および適当な取付用部材により固着されてい
る。また、シールハウジング148がモータ24およびモー
タ取付用プレート138に固着され、且つ取付板14を貫通
して延在している。駆動板88はモータ24によって駆動し
且つシールハウジング148における環状溝152に整合し、
前記回転駆動板88と固定されたシールハウジングとの間
でラビリンスシールを形成する環状リング150を備え
る。
第７図に示すように、脱イオン水および他の窒素がラ
ビリンスシール領域から導出され、モータ24や取付板14
の他の構成部品に吹き込むのを防ぐべくラビリンスシー
ル154の正圧を維持するために加圧窒素が窒素入口156お
よび窒素出口158を介してラビリンスシール154に導入さ
れる。
ボウルシール89が取付板14と前記ボウル12の背面板12
a間に設けられ、外気から着脱自在なボウル12の内側を
シールする。さらに、ドア用シール87が透視可能なドア
79と前面パネル70間において窒素により加圧され、これ
によってドアシールの実効が期される。マニホールド28
および30がシールリング29および31とによって挟まれて
取付板14に固着されている。
モータによって駆動される軸の回転によりウエハ、シ
リコン、またはガリウム砒化物からなるウエハ、基板、
マスク、ディスク等を洗浄するように、脱イオン水がマ
ニホールド受口部28aを介してマニホールド28へ射出さ
れる。脱イオン水が循環し終わった後、窒素が乾燥処理
を完遂するためにポート30aを介してマニホールド30に
射出される。そして、リンス液およびガスがトラフ97を
介してボウル12に集まり且つボウル用排気管160を介し
重力のもとに排気ガス用マニホールド106へ流出する。
着脱自在なドラムロータ組立体が、例として、10゜の
角度で取り付けられている状態を詳細に開示したが、こ
れは説明のためであって且つ本発明を限定するために解
釈されるものではない。然しながら、これによって着脱
自在なボウル12内部からの流出物の重量増加を一層促進
させる。この取付角度は水平面と垂直面間で形成される
が、５゜乃至35゜または５゜乃至85゜の範囲が好まし
い。
マニホールド30から導出される加圧窒素がボウル用排
気管160を介して内部ガスを排気ガス用マニホールド106
の主チャンバ162に強制的に送り込む。さらに、扇形状
の８個の自動噴霧ノズルがウエハに並設されている。従
って、重力およびガス流により化学薬品の継続的な流れ
を下方に指向させる。また、軸上で水平方向に回転する
噴霧により製品の両側に均一の被覆を施す。
排気ガス用マニホールド106は主チャンバ162、入口部
164、着脱自在なシリコンウエハ破片コレクタ108、コレ
クタチャンバ166、ゲート弁168、空気ゲート弁アクチュ
エータ170、所定角度の排気ガス用ダクト172を備えてお
り、且つ洗浄乾燥システム10からのガス煙霧を排気する
よう外部排気管174に接続されている。この排気ガス用
マニホールド106およびその関連構成要素は第４図およ
び第６図で詳細に説明する。
破損片を集めるコレクタ108に設けられた多孔板176を
介して流体がボウル用排気管160から主チャンバ162へ流
出し、センサ116を通過してコレクタチャンバ166へ流
れ、そのコレクタチャンバ166から第４図で示す垂直な
ダム部材167を越えて主チャンバ162の底部へ流れる。そ
の後、第４図および第６図に示すように、必要に応じて
再循環させるか、または干渉するために前面を指向する
ドレン継手177を介して出ていく。
シリコン、あるいはガリウム砒化物からなるウエハ、
基板、マスク、またはディスクのいずれかがチップ、す
なわち、細片に加工される場合、細片の大きな部位を含
むボウル12は前面パネル70を除去し、ロータ取付用ナッ
ト121を外すと共にノブ16乃至22を解放することによっ
て容易に取り外すことが出来、さらに、これによって細
片を洗浄乾燥システム10の外部へ除去出来るように構成
されている。
より小さな破片が細片ウエハコレクタ108の多孔板176
に堆積する。若し、その粒子が多孔板176の孔178a乃至1
78nより小さい場合、この粒子は孔を介して通過し、ダ
ム部材167によってコレクタチャンバ166の内側に滞留さ
れるように構成されている。
次回の使用前に細片化したウエハは多孔板176、また
はウエハコレクタ108の清浄のため、コレクタチャンバ1
66内に堆積したチップ、すなわち、細片と共に取り除か
れる。
位置決めブレーキ180はウエハバスケットを受容する
位置においてロータ26を位置決めし且つ方向を定めるべ
くモータ24およびロータ26の回転を迅速に停止させる円
形停止板182に対し作用する。当該位置決めブレーキ180
は電気制御モジュール60によって制御される。
また、この電気制御モジュール60は、限定されるもの
ではないが、ブラケット186に取り付けられた空気ソレ
ノイド用マニホールド184の空気ソレノイド、ゲート弁
アクチュエータ170、窒素の供給、脱イオン水の供給、
開始シーケンス、停止シーケンスおよび第８図で後に詳
細に説明する種々の機能を制御する。
第４図は前面パネル70が取り除かれた状態の洗浄乾燥
システム10の正面図を示しており、ここで、同一の参照
符号は前記と同一の構成要素を示すものとする。
説明をより明確にするため、着脱自在なボウル12、取
付板14および関連構成部品等は第３図の４−４線に関連
して示されている。図において、ボウルシール89、シー
ルハウジングおよび駆動板88を取り除き、シールハウジ
ング148、窒素入口、出口用ラビリンス部156aおよび158
aを夫々露呈させている。圧縮ドレン取付部品188および
溝188aがシールハウジング148からの凝縮水を排水する
ように配設されている。空気出入口190a、190bおよび19
0cがシールハウジング148において内部ガスを排気ガス
用マニホールド機構を介して流出させ、キャビネット内
へ排気するために設けられている。コレクタ用ベースプ
レート110が排気ガス用マニホールド106に固着されるよ
うに構成されている。ダム部材167およびコレクタチャ
ンバ166の一端を形成する底部部材が、特に、図示され
ている。チャンバ端部部材196が第３図に示されてい
る。
第５図は洗浄乾燥システム10の背面図を示しており、
ここで、同一の参照符号は前記と同一の構成要素を示す
ものとする。
ブラケット186に設けられたソレノイド弁198乃至208
は第８図で説明する洗浄乾燥システム10内のガスおよび
流体を制御する。また、圧力スイッチ222、抵抗調節器2
24およびフィルタ226が第５図で示すように取り付けら
れている。
第６図は排気用マニホールド106および着脱自在なチ
ップ、すなわち、粒子コレクタ108の斜視図を示し、こ
こで、同一の参照符号は前記と同一の構成要素を示すも
のとする。
このコレクタ108はベースプレート110、ローレットが
刻設された着脱自在なねじ112、114、螺入するセンサの
受容孔118、抵抗、ペーハー（pH）センサ、すなわち、
センサ116、多孔板176、その多孔板176の孔178a乃至178
n、多孔板176により画成される堆積用コレクタチャンバ
166、ダム部材167、背壁196、第３図で示した底部壁お
よび第４図で示した側壁部材192から構成されている。
いくつかの細片、すなわち、粒子が多孔板176に定着
するか、または孔178a乃至178nを介して通過すると共
に、チャンバ166内で捕捉される。そこでウエハコレク
タ108が外部的に洗浄可能とするために除去されるよう
に構成されている。さらに、このウエハコレクタ108は
排気ガス用マニホールド106の主チャンバ162内に収納出
来るようになっており、細片、すなわち、粒子を集めた
り、抵抗、ペーハー（pH）または洗浄若しくはリンス液
の定性数を検知する機能を育成する。
排気ガス用マニホールド106は取付板228、マニホール
ドのある平面入口部材230およびコレクタ取付用平面部
材232を備えている。また、このコレクタ取付用平面部
材232はベースプレート110のローレット付ねじ112およ
び114を螺合させるためのねじ穴234および236を有して
いる。さらに、シールガスケット238がベースプレート1
10、コレクタ取付用平面部材232およびウエハコレクタ
挿入用長方形孔240間のシールを達成するため、その周
囲に沿って設けられている。
マニホールドのある平面部材232はマニホールド入口
部164および取付板14の背面に固着するための孔242乃至
248を有する。さらに、上部平面部材250、対向する側部
材252および254、底部部材256および傾斜して取り付け
られたマニホールド部材258が対向する側部材252と254
との間で且つ空気により作動する作動シリンダの真下に
配設されている。垂直背面部材259が排気ガス用マニホ
ールド106を完全なものにしている。
長方形のゲート弁チャンバ260は上部平面部材250の対
応する端部で対向している側部材252および254、斜めに
取り付けられたマニホールド部材258に並行に位置決め
されており、摺動ゲート弁168およびゲート弁タブ168a
を含む。摺動ゲート弁168およびゲート弁タブ168aはア
クチュエータ170およびアクチュエータアーム262によっ
て駆動され、ガス粒子や蒸気を排気ガス用ダクト172か
ら外部排気管174へ排気する。
この空気ゲート弁アクチュエータ170が第５図に示す
ようにブラケット264および266により排気ガス用マニホ
ールド部材258に固着されている。コレクタチャンバ166
を通過後、主チャンバ162からの流出水を排水するため
に前面に指向して液体用ドレンが側部材252に取り付け
られている。
第７図は第４図の7A−7A線および7B−7B線に沿って切
断した複合断面図を示しており、ここで、切断片7A−7A
は通常の形状を示し、また、切断面7B−7Bは連続図を示
すために中心線で反時計方向に90゜回転させたものであ
る。ここで、同一の参照符号は前記の構成要素と同一の
構成要素を示すものとする。
駆動板88およびシールハウジング148の一部は第４図
に示されていないが、より明確に理解するためにその両
部材をこの断面図に含めている。このシールハウジング
148が取付板14の孔268に設けられ、且つ駆動モータ用孔
270の中心に駆動モータ24を収容するように構成されて
いる。さらに、シールハウジング148はモータ取付用プ
レート138に設けられている。
第３図に示すように、適当な部材がゴム製のサスペン
ション140乃至146によって取付板14にモータ取付用プレ
ート138を固定するように構成されている。プレス嵌合
部272がモータ駆動軸274回りに配設され、且つまた駆動
板88のシリンダ状軸部276を調節するように構成され、
それによって駆動板88をモータ24に取り付ける。
環状溝152を有するシールハウジング用締付板148aが
ボウル用シール部材148を保持するよう適切な部材で固
定され、且つまた、外気から着脱自在なボウル12の内部
をシールするようにボウルの背面板12aおよび取付板14
間をボウルシール89で密封している。
駆動板88における環状リングはシール用ハウジングの
クランププレート148aの環状溝152に係合し、ラビリン
スシール154を形成する。このラビリンスシール154は第
４図に示す窒素入口156、158に入る窒素ガスによってシ
ールされ且つ加圧される。窒素ガスは入口ポート156a、
158a、ラビリンスシール154、窒素ガス出口ポート158
a、190aおよび190b、窒素ドレン用出口補助部材188を通
る。
シール部位において、このように設けられたガスカー
テンはモータ軸およびこのモータ駆動軸274と同心的に
配置されたプレス嵌合バフル278の周囲で差圧を生じ、
摩擦を回避し、さらに粒子に対するバリヤを生み出す。
第７図中の矢印はガスの流れを示している。
ローレットの刻設された取付用ノブ120から突出して
いるねじ軸280は駆動板88のねじ込み部282に螺合し、ノ
ブの環状部を締着し、これによってロータ26の回転板12
2を駆動板88に固定する。ロータプレートの孔125は据付
前にシリンダ軸286と心合わせされて回転板122に取付用
ノブ120を締着する。
第８図は洗浄乾燥システム10の空気流体のフローチャ
ートを示し、ここで、同一の参照符号は前記と同一の構
成要素を示すものとする。
電気制御モジュール60はソレノイド用マニホールド18
4の空気ソレノイドの動作を検出し且つこれを制御す
る。次いで、ソレノイド用マニホールド184は弁210−21
8およびモータ停止用アクチュエータ、ドアシールを含
む他の空気装置を駆動する。このシステムはマイクロプ
ロセッサにより制御される。
乾燥弁210が四方乾燥弁用ソレノイド駆動体198により
作動し、リンス弁212は四方リンス用ソレノイドアクチ
ュエータ200によって作動する。また、低流量窒素用の
パージ弁214が四方洗浄用ソレノイドアクチュエータ202
により作動し、さらに、リンスマニホールド用洗浄弁21
6が四方リンスマニホールド洗浄用ソレノイドアクチュ
エータ204により作動するよう構成されている。
常閉の洗浄弁212が開成されると、再循環弁218がシス
テムにおける逆流を防ぐために空気接続により閉鎖され
る。さらに、四方ソレノイドアクチュエータ206がモー
タの回転を停止させるためにモータのロータ停止用位置
決め装置に空気圧を送り込む。ドアシール用三方ソレノ
イド駆動体208は洗浄または乾燥工程の中、ドアシール8
7を加圧する。
フィルタ226および圧力スイッチ222は窒素供給ライン
と直列接続されている。調節可能な減圧部材が帰流を制
御するために脱イオン水の再生負荷側と直列接続されて
いる。全ての接続用管材はその要求に応じてポリテトラ
フルオロエチレン、PFA、フッ素ポリマー等の材料から
構成されている。
第９図は洗浄乾燥システム10のブロック図を示してお
り、ここで、同一の参照符号は前記と同一の構成要素を
示すものとする。
主論理マイクロプロセッサボード300は電子制御モジ
ュール60のディスプレイパネル302と相互作用を行い、
例えば、プログラミング情報、スイッチの位置および状
態等のユーザにとって有益な情報を表示する。勿論、前
記表示事項は限定的ではない。さらに、この主論理マイ
クロプロセッサボード300はセンサ116、作動ボタン84お
よび86、状態センサ304およびリレーボード306からの入
力信号を受領する。前記主論理マイクロプロセッサボー
ド300は外部のコネクタの状態を検出するセンサ308およ
びリレーボード306と相互作用を達成する。このリレー
ボード306は帯電防止装置310、処理ボウル用ヒータ13、
モータ制御装置312およびモータブレーキ182を制御す
る。さらにまた、主論理マイクロプロセッサボード300
の入出力回路がソレノイド弁198−208、空気処理制御弁
210−218およびボウル12への水と窒素の供給を制御する
ように構成されている。
摺動ドアを上下させるための付加的なドア用空気アク
チュエータに対する制御はドア用空気制御弁324によっ
て達成される。
第10図はボウル12における着脱自在なボウルライナ35
0の斜視図である。この着脱自在なボウルライナ350に対
してはポリテトラフルオロエチレン、フッ素ポリマー、
または他の材料等を選択することが可能である。さら
に、ボウル12およびボウルライナ350は単一のボウル部
材として合体することが可能であり、この場合にはボウ
ル12は全体的に単一の材料で作ることが出来る。
以上、本発明について好適な実施態様を挙げて説明し
たが、本発明はこの実施態様に限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の改良
並びに設計の変更が可能なことは勿論である。例えば、
ヒータおよび空気フィルタは加熱濾過空気またはガスを
ボウル12に導入するための空気弁を介して窒素ラインに
接続することが出来、また、ドアは水平な空間を保つた
めにヒンジドアまたは摺動ドアにすることが可能であ
る。
【図面の簡単な説明】
第１図は洗浄乾燥システムの一部切断斜視図、 第２図は着脱自在なボウルおよび取付板の分解斜視図、 第３図は洗浄乾燥システムの縦断面図、 第４図は前面パネル、駆動板およびシールハウジング部
を除く洗浄乾燥システムの正面図、 第５図は洗浄乾燥システムの背面図、 第６図は排気ガス用マニホールドおよび着脱自在な細片
チップコレクタ組立体の斜視図、 第７図は駆動板およびシールハウジングを含む第４図の
7A−7A線および7B−7B線に沿う切断複合断面図、 第８図は洗浄乾燥システムにおける空気流体のフローチ
ャート、 第９図は洗浄乾燥システムのブロック図、 第10図はボウル内における着脱自在なボウルライナの斜
視図である。 10……洗浄乾燥システム、12……ボウル 14……取付板、16、18、20、22……解放ノブ 24……駆動モータ、26……カセットロータ 28……脱イオン水噴霧マニホールド 30……乾燥工程用マニホールド 60……制御モジュール、88……回転駆動板 89……ボウルシール、97……排水トラフ 101……窒素供給部、103……脱イオン水供給部 106……排気ガス用マニホールド 108……コレクタ、116……センサ 120……液体ドレン部、122、126……回転板 154……ラビリンスシール 162……主チャンバ 166……コレクタチャンバ 170……空気ゲート弁アクチュエータ 180……位置決めブレーキ 184……ソレノイド用マニホールド 210……乾燥弁、212……洗浄弁 300……主論理マイクロプロセッサボード 310……帯電防止装置、312……モータ制御装置 324……空気用制御弁

Claims (44)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ハウジング構造体に支持されているプレー
    ト取付手段と、前記プレート取付手段に固着され且つ前
    記取付手段の前方へ延在している軸および動力源を備え
    たモータと、前記プレート取付手段に固着されている少
    なくとも１つの噴霧ノズル用マニホールドと、前記プレ
    ート取付手段から外方へ延在している少なくとも２つの
    固定手段と、前記固定手段によってプレート取付手段に
    案内され且つ前記軸と前記噴霧ノズル用マニホールドに
    対して位置決めされボウルの下部領域においてドレン部
    を含む着脱自在なボウルと、前記ボウルの前面を覆って
    いるドアとからなることを特徴とするウエハキャリヤに
    おける少なくとも１つの部材から流体を供給し且つ除去
    するための洗浄乾燥システム。
  2. 【請求項２】請求項１記載のシステムにおいて、基板カ
    セットロータをモータ軸へ迅速に接続および離間するた
    めの手段を備えていることを特徴とする洗浄乾燥システ
    ム。
  3. 【請求項３】請求項１記載のシステムにおいて、固着手
    段への迅速な接続および離間を行うための手段を備えて
    いることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  4. 【請求項４】請求項３記載のシステムにおいて、固着手
    段は複数のねじ込み型スタッド手段とノブ型手段とから
    なることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  5. 【請求項５】請求項３記載のシステムにおいて、固着手
    段は複数のねじ込み型スタッドと、内部ねじ込み型ノブ
    を備えていることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  6. 【請求項６】請求項１記載のシステムにおいて、前記ボ
    ウルのドレンに接続されているマニホールド手段を備え
    ていることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  7. 【請求項７】請求項６記載のシステムにおいて、マニホ
    ールド手段はトラフ手段と、前記トラフ手段の底部に設
    けたドレンと、前記トラフとドレンとの間に設けられて
    いるプローブ手段を備えていることを特徴とする洗浄乾
    燥システム。
  8. 【請求項８】請求項７記載のシステムにおいて、プロー
    ブ手段は抵抗プローブであることを特徴とする洗浄乾燥
    システム。
  9. 【請求項９】請求項７記載のシステムにおいて、プロー
    ブ手段はペーハー（pH）プローブであることを特徴とす
    る洗浄乾燥システム。
  10. 【請求項１０】請求項６記載のシステムにおいて、マニ
    ホールド手段は排気口手段と前記マニホールドと排気口
    との間に設けられたドア手段とドア作動手段を備えてい
    ることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  11. 【請求項１１】請求項10記載のシステムにおいて、ドア
    作動手段は空気圧シリンダからなることを特徴とする洗
    浄乾燥システム。
  12. 【請求項１２】請求項１記載のシステムにおいて、ガス
    をボウルに導入する手段を備えていることを特徴とする
    洗浄乾燥システム。
  13. 【請求項１３】請求項12記載のシステムにおいて、ガス
    を濾過する手段を備えていることを特徴とする洗浄乾燥
    システム。
  14. 【請求項１４】請求項12記載のシステムにおいて、ガス
    を加熱する手段を備えていることを特徴とする洗浄乾燥
    システム。
  15. 【請求項１５】請求項12記載のシステムにおいて、ガス
    は空気であることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  16. 【請求項１６】請求項12記載のシステムにおいて、ガス
    は窒素であることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  17. 【請求項１７】請求項１記載のシステムにおいて、ボウ
    ルはステンレス鋼材からなることを特徴とする洗浄乾燥
    システム。
  18. 【請求項１８】請求項１記載のシステムにおいて、ボウ
    ルはポリテトラフルオロエチレンからなることを特徴と
    する洗浄乾燥システム。
  19. 【請求項１９】請求項１記載のシステムにおいて、軸近
    傍にガスカーテンを設ける手段を備えていることを特徴
    とする洗浄乾燥システム。
  20. 【請求項２０】請求項１記載のシステムにおいて、ボウ
    ル内に係合するボウルライナを備えていることを特徴と
    する洗浄乾燥システム。
  21. 【請求項２１】請求項１記載のシステムにおいて、ボウ
    ルが水平線に対して実質的に10゜の角度であることを特
    徴とする洗浄乾燥システム。
  22. 【請求項２２】水平方向に対して所定の角度で着脱自在
    に設けられたロータにおいて少なくとも１つの部材でキ
    ャリヤを設置する工程と、前記角度で設置したボウルに
    おいて軸線を中心として前記キャリヤを回転させる工程
    と、連続可動のために洗浄乾燥システムのロータおよび
    ボウルを迅速に交換する工程とからなる洗浄乾燥システ
    ムボウル内で回転しているキャリヤ内の部材を洗浄し且
    つ乾燥させることを特徴とする洗浄乾燥方法。
  23. 【請求項２３】半導体ウエハ、基板、ディスクおよびそ
    れらに類似するユニットを処理するための洗浄乾燥シス
    テムであって、 処理室を封入すると共に、パネルを有し、前記出入用開
    口部を介して前記処理室がユニットを挿入し且つ取り外
    すために出入を許容するハウジングと、 処理するためにハウジング内で少なくとも１つの前記ユ
    ニットを回転可能に旋回させる駆動手段と、 前記ハウジング内に受容された取付プレートと、 ボウルがハウジングから容易に取り外されるのを許容
    し、その置換によって処理要件を維持し、あるいは変更
    するために着脱自在なボウルの装着が可能なように、前
    記取付プレートに着脱自在に取り付けられた着脱自在な
    ボウルと、 前面の出入用開口部を覆って封止するドアと、 からなることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  24. 【請求項２４】請求項23記載のシステムにおいて、処理
    するために前記ユニットの少なくとも１つを保持する着
    脱自在なロータをさらに備え、前記ロータが、前記出入
    用開口部を介してロータの取外しおよび装着を可能とす
    るように、モータ駆動手段に対して着脱自在に取付けら
    れたことを特徴とする洗浄乾燥システム。
  25. 【請求項２５】請求項23記載のシステムにおいて、処理
    されるユニットに対して流体を噴霧するための、取付プ
    レートに固着された噴霧ノズルをさらに備えることを特
    徴とする洗浄乾燥システム。
  26. 【請求項２６】請求項23記載のシステムにおいて、ボウ
    ルから流体を排出するドレン手段をさらに備え、前記ド
    レン手段は、排出液体から固体粒子を分離する粒子分離
    器を含み、前記粒子分離器は、清掃または置換のために
    ハウジングから取外し可能であることを特徴とする洗浄
    乾燥システム。
  27. 【請求項２７】請求項25記載のシステムにおいて、粒子
    分離器は、ボウルから排出された流出物の性質を決定す
    るためのセンサを取り付ける手段を含むことを特徴とす
    る洗浄乾燥システム。
  28. 【請求項２８】請求項23記載のシステムにおいて、流体
    の流れに抵抗するために着脱自在なボウルと取付プレー
    トとの間に配置された第１のシールをさらに備えること
    を特徴とする洗浄乾燥システム。
  29. 【請求項２９】請求項23記載のシステムにおいて、ボウ
    ルからの流体を排出するドレン手段をさらに備え、前記
    ドレン手段は、ガスおよび液体を実質的にガスの流出物
    流と実質的に液体の流出物流とに分離するガス／液体分
    離マニホールド手段を備え、ガスの流出物流は、ボウル
    からのガスの流出物の流れを制御する弁を含むことを特
    徴とする洗浄乾燥システム。
  30. 【請求項３０】半導体ウエハ、基板およびディスクを処
    理するためのシステムであって、 ハウジングと、 ハウジング内に取付けられた少なくとも１つのボウルで
    あって、処理室を少なくとも部分的に画成する前記ボウ
    ルと、 少なくとも部分的に処理室内に回転のために取り付けら
    れたロータと、 ロータに対して制御された回転運動を与える手段と、 処理室に対して少なくとも１つの液状処理流体を供給す
    る手段と、 流体を排出するためにボウルと流体的に連通したドレン
    手段と、 処理室から前記ドレン手段を介して排出される液体流出
    物から断片および他の粒子を選択的に除去するための少
    なくとも１つの粒子分離室と、 からなることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  31. 【請求項３１】請求項30記載のシステムにおいて、前記
    粒子分離室が、流れる液体の流出物から固体断片または
    他の粒子を分離するための粒子分離器を備え、前記粒子
    分離器は、穿孔されたスクリーンと、穿孔されたスクリ
    ーンの下部の堰を備えた液体補集室とを備えることを特
    徴とする洗浄乾燥システム。
  32. 【請求項３２】請求項30記載のシステムにおいて、前記
    堰を備えた液体補集室を通過する流出物を感知するため
    の少なくとも１つのセンサをさらに備えることを特徴と
    する洗浄乾燥システム。
  33. 【請求項３３】請求項30記載のシステムにおいて、前記
    粒子分離器は、置換または粒子の清掃のために前記ハウ
    ジングから取り外し可能であることを特徴とする洗浄乾
    燥システム。
  34. 【請求項３４】請求項30記載のシステムにおいて、前記
    粒子分離器の上部にあって前記ドレン手段と流体的に連
    通する少なくとも１つのガス抜き手段をさらに備えるこ
    とを特徴とする洗浄乾燥システム。
  35. 【請求項３５】半導体ウエハ、基板、ディスクおよびそ
    れらに類似するユニットを処理するための洗浄乾燥シス
    テムであって、 ハウジングと、 ハウジング内に取り付けられたボウルであって、ボウル
    内部を有する前記ボウルと、 前記ボウル内部の少なくとも一部分内に回転可能に受容
    されたロータと、 ロータに対して回転運動を与えるための手段と、 ボウル内部に対して液体を供給する手段と、 ボウル内部に対してガスを供給する手段と、 流体を排出するためにボウルと流体的に連通する少なく
    とも１つのドレン手段と、 ガスおよび液体を実質的に液体の流出物流と実質的にガ
    スの流出物流とに分離するための少なくとも１つのガス
    −液体分離手段と、 液体の流出物流内に配置された粒子分離器と、 からなることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  36. 【請求項３６】請求項35記載のシステムにおいて、ボウ
    ルからのガスの流出物を制御するための弁をさらに備え
    ることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  37. 【請求項３７】請求項35記載のシステムにおいて、粒子
    分離器は、清浄または置換のために取り外し可能である
    ことを特徴とする洗浄乾燥システム。
  38. 【請求項３８】半導体ウエハ、基板、ディスクおよびそ
    れらに類似するユニットを処理するための洗浄乾燥シス
    テムであって、 ハウジングと、 ハウジング内に取り付けられたボウルと、 ボウル内に回転可能に受容されたロータであって、処理
    するために少なくとも１つのユニットを保持するよう用
    いられるロータと、 前記ロータに対して回転運動を与える手段と、 ボウル内に取り付けられた少なくとも２つのノズルであ
    って、ガス源と液体源とに接続され、ロータによって保
    持された少なくとも１つのユニット上に噴霧するよう位
    置決めされたノズルと、 流体を排出し、ガスおよび液体を実質的に液体の流出物
    流と実質的にガスの流出物流とに分離するための、ボウ
    ルと流体連通したドレン手段とからなり、 前記ドレン手段は、ガスと液体とを分離する主室であっ
    て、基部開口部と頂部開口部とを有する主室と、 ボウルと主室との間に連結され、ガスおよび液体がボウ
    ルから主室へと流れるのを可能とする取入ポートと、 頂部開口部と連通して主室に連結され、主室から実質的
    にガスの流出物流を排気する第１の出力ポートであっ
    て、内部に配置された弁を有する第１の出力ポートと、 基部開口部と連通して主室に連結され、主室から実質的
    に液体の流出物流を排出する第２の出力ポートであっ
    て、内部に配置され主室の基部開口部に隣接した粒子分
    離器を有する第２の出力ポートと、 からなることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  39. 【請求項３９】請求項38記載のシステムにおいて、粒子
    分離器が穿孔したスクリーンと堰を備えた補集室とを備
    え、前記堰を備えた補集室は床部とこれから直立する複
    数の側壁とによって画成され、側壁の１つは残余の側壁
    の直立距離より小さい補集室床部からの距離で直立し、
    これによりこの１つの側壁は、液体が上部を流れ、一方
    穿孔したスクリーンを介して流れる小さい粒子を捕捉す
    る縦方向の堰を形成し、排出液体からこのような粒子の
    分離を図ることを特徴とする洗浄乾燥システム。
  40. 【請求項４０】請求項38記載のシステムにおいて、粒子
    分離器が、清浄または置換のために取り外し可能である
    ことを特徴とする洗浄乾燥システム。
  41. 【請求項４１】前面のドアを介して出入可能な封入され
    た処理室を有する遠心分離による洗浄乾燥システムを作
    動させ維持する方法であって、 前記処理室内で回転させるために取り付けたロータ上に
    少なくとも１つの半導体ユニットを載置し、 前面のドアを閉めて処理室を実質的に閉鎖し、 前記ロータとその上に載置された前記少なくとも１つの
    半導体ユニットとを回転させ、 前記ロータの回転を停止させ、 前記前面のドアを開け、 前記少なくとも１つの半導体ユニットを前記ロータから
    取り外し、 前記ロータの取り外し可能な部分を処理室から取り外
    し、 処理室を少なくとも部分的に画成する着脱自在な処理室
    ボウルであって、動作の際にはロータに対して回転から
    隔離される処理室ボウルを取り外し、 着脱自在な処理室ボウルを装置に再装着し、前記着脱自
    在な処理室ボウルを取り外す工程で取り外した着脱自在
    な処理室ボウルを置換え、前記再装着した着脱自在な処
    理室ボウルを前記ロータに対して回転から隔離し、 ロータの一部分を再装着して前記ロータの前記取り外し
    可能な部分を置換え、その後、 前記処理室内で回転させるために取り付けたロータ上に
    少なくとも１つの半導体ユニットを２回目として載置
    し、 前面のドアを２回目として閉めて処理室を実質的に閉鎖
    し、 前記ロータとその上に２回目として載置された前記少な
    くとも１つの半導体ユニットとを２回目として回転さ
    せ、 前記ロータの回転を２回目として停止させ、 前記前面のドアを２回目として開け、 前記少なくとも１つの半導体ユニットを前記ロータから
    ２回目として取り外すことからなることを特徴とする洗
    浄乾燥システムを作動させ維持する洗浄乾燥方法。
  42. 【請求項４２】請求項41記載の方法において、 前記２回目としての載置工程の前に、粒子補集器の穿孔
    した部分を遠心分離による装置から取り外し、 前記２回目としての載置工程の前に、粒子分離器の穿孔
    した部分を遠心分離による装置に再装着する ことをさらに含むことを特徴とする洗浄乾燥方法。
  43. 【請求項４３】請求項41記載の方法において、前記着脱
    自在な処理室ボウルを取り外すことが、着脱自在な処理
    室ボウルを取付プレートから取り外すことを含むことを
    特徴とする洗浄乾燥方法。
  44. 【請求項４４】請求項41記載の方法において、前記着脱
    自在な処理室ボウルを取り外すことの前に、遠心分離に
    よる装置の前面のパネルを取り外すことをさらに含むこ
    とを特徴とする洗浄乾燥方法。
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