JP2573552B2 - 食器洗浄装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、食器洗浄装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、食器洗浄装置は、洗浄槽内に着脱
可能に固定されたかご形ケース等の食器支持手段、及び
攪拌翼等の渦巻水流発生手段を備えてなり、食器支持手
段に食器をセットした状態で、洗浄槽内の洗浄水を攪拌
して渦巻水流を発生させ、該水流により食器を洗浄して
いた。そして、洗浄効果を高めるために、洗浄水に軟質
の粒状研磨材を混入し、渦巻水流の流動と共に粒状研磨
材が食器に接触するようにしていた。

【０００３】このような食器洗浄装置は、洗浄槽の底部
の排水口の上位にパンチメタルや金網等よりなるストレ
ーナを設け、排水時に上記粒状研磨材を分離して残留さ
せて繰返し使用可能としているが、食器に付着していた
食べ残しの固形物が粒状研磨材に混入して残留したり、
洗浄終了時に食器に研磨材が付着していたりするといっ
た問題があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の食器
洗浄装置のこのような点に鑑みて、洗浄行程に従って、
粒状研磨材を洗浄槽より分離回収して、食べ残しの固形
物の粒状研磨材への混入、及び洗浄終了時における食器
への研磨材の付着を防止すると共に、洗浄効果を高めた
食器洗浄装置を提供することを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】渦巻水流発生手段、及
び、食器の支持手段を備えた洗浄槽と、該洗浄槽に上下
２箇所の連通口で連通する研磨材室とを備え、上記洗浄
槽には主給水管及び主排水管を、上記研磨材室には副給
水管及び、副排水管を夫々配管し、上記研磨材室内には
研磨材かごを挿脱可能に設けるとともに、下側連通口に
は、該下側連通口を開閉するシャッターを設けた。

【０００６】また、上記シャッターを、研磨材室内に昇
降自在に支持されているフロートと一体であるか若しく
は連動するものとし、該フロートに作用する浮力によ
り、上記研磨材室内の水位に応じて開閉するようにし
た。

【０００７】

【作用】洗浄すべき食器をセットした洗浄槽に、主排水
管及び副排水管を閉じた状態で主給水管より洗浄槽内に
給水すると、下側連通口より研磨材室内に流入する水に
より、該研磨材室内の水位が上昇し、これと共に下側連
通口のシャッターが閉じる。この後、洗浄槽内の水位が
所定の高水位に達すれば、渦巻水流を発生して研磨材無
しで予洗いを行ない、主排水管及び副排水管を開いて排
水すれば、食器に付着していた固形物や液状物は除去さ
れる。

【０００８】次に、各排水管を閉じた状態で副給水管よ
り研磨材室内に給水すれば、研磨材室内の水位上昇と共
に直ちに下側連通口のシャッターが閉じるが、更に水位
が上昇して、上側連通口より洗浄槽内に洗浄水及び研磨
材が流入する。そして、洗浄槽の水位が所定高水位に達
した後に給水を停止し、渦巻水流を発生して、該水流と
研磨材とにより食器の洗浄を行ない、各排水管を開いて
排水する。この際、研磨材は洗浄槽底部や、排水口のス
トレーナ上に残留している。

【０００９】続いて、主排水管のみを閉じ、副排水管は
開けた状態で主給水管より洗浄槽内に給水し、所定の低
水位に達した後、渦巻水流を発生すれば、研磨材は該研
磨材に作用する浮力及び遠心力により水と共に下側連通
口より研磨材室内に流入し研磨材かご内に回収される。
この際、研磨材は上記水流により洗浄される。この後、
副排水管を閉じれば、研磨材室内の水位が上昇し、これ
と共に下側連通口のシャッターが閉じ、洗浄槽の水位が
所定の高水位に達すればオーバーフローさせながらすす
ぎを行ない、各排水管を開いて排水すれば、洗浄行程は
終了する。

【００１０】

【実施例】実施例について図面と共に説明する。

【００１１】図１及び図２に本発明実施例の食器洗浄装
置１を示す。図において食器洗浄装置１は、円筒状の洗
浄槽２、及び、該洗浄槽２の外側壁３に２個の略半円筒
状の研磨材室４，４を設けている。

【００１２】洗浄槽２の底部５の中央にはモータ６を動
力源とする駆動装置７を設け、該駆動装置７の出力軸に
は渦巻発生手段として、攪拌翼８を固定している。攪拌
翼８は、図２に示す如く、基円板９上に８枚のフィン１
０を形成してなり、上記基円板９には２箇所の円孔１
１，１１が穿設され、該円孔１１，１１には、蓋体１
２，１２が取外し可能な状態に固定してある。

【００１３】また、洗浄槽２の底部５の、前記攪拌翼８
を適宜回動することにより円孔１１と重なる位置には、
排水口１３が開口され、該排水口１３には、パンチメタ
ル又は金網等よりなるストレーナ１４が着脱可能に嵌合
してある。更に、上記排水口１３の下側を覆うように排
水溝１５を形成し、該排水溝１５の底面には主排水管Ｐ
３が配管されている。

【００１４】洗浄槽２の上記攪拌翼８の上側には、食器
の支持手段としてかご形ケース１７を着脱自在に固定し
ている。かご形ケース１７は、図５に示す如く該ケース
の底部に同心円状に配置した環状の線材１８，１９，２
０と８本の放射状に配置した線材２１とで形成される円
錐形部分の上位に、前記環状の線材１８，１９，２０と
同じく同心円状に配置した環状の線材２２，２３，２４
を、上記円錐部分に立設した柱状の線材２５，２６，２
７，２８で支持することにより、３層の異形円筒を同軸
に積層した形状をなしている。そして、各層の間隙部に
食器を盛付け面を内側にして挿入することにより、食器
はかご形ケース１７内に同心円状に配置されるようにな
っている。尚、綿材２１は、食器に当接する部分では図
５に示す如く下方にＶ字状に折曲した折曲部２１ｂを形
成して食器の下落ちを防止すると共に確実に支持される
ようにしている。そして、上記かご形ケース１７は、前
記８本の放射状線材２１の先端を下方に折曲して形成し
た脚部２１ａを洗浄槽２の内側面に固着したソケット２
９に挿入することにより固定される。

【００１５】洗浄槽２の側壁３上端付近には、オーバー
フロー管Ｐ５を接続したオーバーフロー部３０、及び主
給水管Ｐ１を接続した給水部３１を夫々設けている。３
２は洗浄槽２の蓋である。

【００１６】次に、研磨材室４，４について説明する。
尚、各研磨材室４，４は同一構造であり、且つ、動作の
タイミングも同一であるので、以下において一方につい
てのみ説明するものとする。

【００１７】研磨材室４は、洗浄槽２の側壁３に設けた
上下２箇所の連通口４１，４２により洗浄槽２内部と連
通しており、底部４３の中央には、給水ノズル４４を開
口し、該給水ノズル４４の他端には副給水管Ｐ２を接続
している。また、上記給水ノズル４４の近傍には排水口
４５を開口し、該排水口４５には副排水管Ｐ４を接続し
ている。

【００１８】上記研磨材室４の内部には研磨材かご４６
を挿脱可能に設けている。研磨材かご４６は図３に示す
如く研磨材室４とほぼ同形状で僅かに小径の略半円筒状
をなすと共に、底部は円錐漏斗状をなしており、該底部
中央には開口部４７を形成し、該開口部４７にはストレ
ーナ４７ａを設けている。また、研磨材かご４６の半円
筒周側壁及び、底部の漏斗状部分は、いずれも粒状研磨
材Ｗの粒径より小なる多数の貫通孔４８ａ，４８ｂを有
するパンチメタルで形成し、上記側壁の平面部分４９
は、研磨材かご４６を研磨材室４に挿入した際、上下の
連通口４１，４２と重なる部分を開口５１，５２とした
平板材で形成している。

【００１９】そして、研磨材かご４６の上側開口部５１
の周囲には、研磨かご４６を研磨材室４内に挿入した
際、洗浄槽側壁３の上側連通口４１の周囲に密接するパ
ッキン５０を固着する。また、研磨材かご４６の平面部
分４９の下半部にはシャッター５３が以下の如く昇降自
在に支持されている。

【００２０】即ち、シャッター５３は、両側部に設けた
ガイドフレーム５４，５４を、図３及び図４に示す研磨
材かご４６の平面部分４９の両側に固着した一対のガイ
ドレール部材５５，５５の対向するガイド溝５６に係合
することにより、上下方向に摺動自在に支持され、且
つ、研磨材かご４６の平面部分４９の下端に設けた部材
５７により下落ちを防止している。シャッター５３は、
下端が上記部材５７に接した位置で、研磨材かご４６の
下側開口部５２と重なる位置に、該開口部５２と同形の
貫通口５８を貫設し、且つ、該貫通口５８の下側に隣接
して遮蔽部材６０を固着している。該遮蔽部材６０及
び、上記貫通口５８の周囲前面５９は、洗浄槽側壁３と
同一曲面を形成して、シャッター前面の他の部分より突
出している。

【００２１】このような外形状を有するシャッター５３
は、主材として発泡スチロール等の軽量材料を用いる
か、又は、樹脂材等で中空に形成することにより、前記
遮蔽部材６０の上縁６１を吃水線として水に浮くフロー
トとして構成されている。

【００２２】上記シャッター５３を支持した研磨材かご
４６の側面中央には、研磨材かご４６の長さ方向に平行
にリブ６２を形成しており、研磨材かご４６を研磨材室
４内に挿入すれば、研磨材かご４６は、上記リブ６２と
ガイドレール部材５５，５５とにより研磨材室４内の所
定の位置に支持される。この状態において研磨材かご４
６の下端開口部４７は、給水ノズル４４に嵌合すると共
に、パッキン５０は洗浄槽側壁３に密接し、且つ、シャ
ッター５３の貫通口５８の周囲前面５９、及び、遮蔽部
材６０は、上記側壁３に容易に摺動可能な状態で当接す
る。尚、６３は研磨材室４の蓋である。

【００２３】そして、主給水管Ｐ１，副給水管Ｐ２には
電磁弁ＳＶ１，ＳＶ２を、主排水管Ｐ３，副排水管Ｐ４
には電磁弁ＳＶ３，ＳＶ４を、夫々設け、これら４個の
電磁弁ＳＶ１〜ＳＶ４の開閉、及び、攪拌翼８（モータ
６）の回転は、それらに接続した図示しない制御装置に
よりシーケンス制御される。

【００２４】次に洗浄過程の一例について、図４に示す
タイミングチャートを参照しながら説明する。尚、以下
の洗浄過程において使用する研磨材Ｗの材質は特に限定
されるものではないが、比重が１程度の軟質粒状の研磨
材が適当であり、例えば、粒径が５〜２０mmの塊状又は
シート状の発泡ウレタンゴムや、ナイロン，ポリエステ
ル等の綿状短繊維を部分接着し不定形に破断又は切断し
たもの等を使用することができる。上記研磨材Ｗは研磨
材室４の研磨材かご４６内に適量投入されている。

【００２５】そして、洗浄すべき食器をセットしたかご
形ケース１７を洗浄槽２内に固定し、該洗浄槽４に、電
磁弁ＳＶ３，ＳＶ４を閉じた状態で電磁弁ＳＶ１を開い
て主給水管Ｐ１より給水すると、洗浄槽２内の水位が低
水位Ｌ２に達した後、下側連通口４２より研磨材室４内
に流入する水により研磨材室４内の水位が上昇し、これ
と共にシャッター５３が上昇して、遮蔽部材６０により
下側連通口４２が閉じられ、研磨材室４内からの研磨材
Ｗの流出が阻止される。この後、洗浄槽２内の水位が所
定の高水位Ｌ１に達すれば、モータ６を作動して攪拌翼
８を回転し、洗浄槽２内に渦巻水流を発生して研磨材無
しでオーバーフローしながら予洗いを行なう。所定時間
予洗いした後、モータ６を停止すると共に主排水管Ｐ３
及び副排水管Ｐ４の各電磁弁ＳＶ３，ＳＶ４を開いて排
水すれば、食器に付着していた固形物や液状物は除去さ
れる。

【００２６】次に、電磁弁ＳＶ３，ＳＶ４を閉じた状態
で電磁弁ＳＶ２を開いて副給水管Ｐ２の給水ノズル４４
より研磨材室４内に給水すれば、研磨材室４内の水位上
昇と共にシャッター５３が上昇して直ちに下側連通口４
２が閉じるが、研磨材室４内の水位が更に上昇して、上
側連通口４１より洗浄槽２内に洗浄水及び研磨材Ｗが流
入する。そして、洗浄槽２の水位が上昇し所定高水位Ｌ
１に達すれば、電磁弁ＳＶ２を閉じて給水を停止すると
共に、モータ６を作動して攪拌翼８を回転し、洗浄槽２
内に渦巻水流を発生して、該水流と研磨材Ｗとにより所
定時間食器の洗浄を行なう。この後モータ６を停止する
と共に各排水管Ｐ３，Ｐ４の電磁弁ＳＶ３，ＳＶ４を開
いて排水する。この際、研磨材Ｗは洗浄槽２の底部や、
該底部のストレーナ１４上に残留している。

【００２７】続いて、主排水管Ｐ３の電磁弁ＳＶ３のみ
を閉じ、副排水管Ｐ４の電磁弁ＳＶ４は開けた状態で電
磁弁ＳＶ１を開いて主排水管Ｐ１より洗浄槽２内に給水
し、該洗浄槽２内の水位が所定の低水位Ｌ２に達した
後、攪拌翼８を回転して洗浄槽２内に渦巻水流を発生す
れば、研磨材Ｗは該研磨材に作用する浮力と遠心力とに
より下側連通口４２よりオーバーフローする水と共に研
磨材室４内に流入し研磨材かご４６内に回収される。こ
の際、研磨材Ｗは、上記水流により洗浄される。この
後、副排水管Ｐ２の電磁弁ＳＶ２を閉じれば、研磨材室
４内の水位上昇と共にシャッター５３が上昇して下側連
通口４２が閉じ、研磨材Ｗの洗浄槽２内への流出を阻止
した状態で、洗浄槽２の水位が所定の高水位Ｌ１に達す
れば攪拌翼８を回転し、オーバーフロー部３０よりオー
バーフローさせながら所定時間すすぎを行なう。この
後、モータ６を停止し、各排水管Ｐ３，Ｐ４の電磁弁Ｓ
Ｖ３，ＳＶ４を開いて排水すれば、洗浄行程は終了す
る。

【００２８】上記洗浄行程において、研磨材Ｗは予洗い
時には、研磨材室４の研磨材かご４６内にあって、該予
洗い行程で残飯等食器に付着した固形物を除去した後に
洗浄行程で洗浄槽２内に流入されるので、上記固形物が
研磨材Ｗに混入することは無い。また、研磨材Ｗは、該
研磨材Ｗによる洗浄を終了し、研磨材かご４６内に回収
された後、下側連通口４２よりオーバーフローしてくる
水により洗浄されるので、繰返して使用する場合におい
ても常に清潔に保たれている。また、繰返し使用した
後、研磨材Ｗが劣化した場合には、蓋６３を開いて研磨
材室４内より研磨材Ｗを研磨材かご４６ごと取り出して
新しい研磨材Ｗと交換する。

【００２９】尚、上記実施例においては、シャッター５
３がフロートとして構成され研磨材室４内の水位に応じ
て昇降し、開閉する場合について述べたが、シャッター
とフロートとを別体とし、その間にリンク機構等を介在
させてフロートの動きとシャッターの動きが機械的に連
動するようにしても良い。また、シャッターにソレノイ
ド等の動力源を別途設けて、同様のタイミングで開閉す
るようにしても良い。また、食器洗浄装置１にセットす
る以前に粗大な残飯等が除かれていれば予洗い行程を省
略しても構わないことは勿論である。

【００３０】

【発明の効果】本発明食器洗浄装置は、上述の通り、渦
巻水流発生手段、及び、食器の支持手段を備えた洗浄槽
と、該洗浄槽に上下２箇所の連通口で連通する研磨材室
とを備え、上記洗浄槽には主給水管及び主排水管を、上
記研磨材室には副給水管及び、副排水管を夫々配管し、
上記研磨材室内には研磨材かごを挿脱可能に設けるとと
もに、下側連通口には、該下側連通口を開閉するシャッ
ターを設けたので、洗浄行程に従って研磨材を洗浄槽よ
り研磨材室内に分離回収することにより、残飯等の固形
物の研磨材への混入、及び、洗浄終了時における食器へ
の研磨材への付着を防止でき、且つ、一回の洗浄毎に研
磨材自体も洗浄され、洗浄効果を向上可能であると共
に、劣化した研磨材は研磨材室内より研磨材かごごと抜
き出して、新しい研磨材と容易に交換することができ
る。

【００３１】また、上記シャッターが、研磨材室内に昇
降自在に支持されているフロートと一体であるか若しく
は連動し、該フロートに作用する浮力により、上記研磨
材室内の水位に応じて開閉するものであるので、シャッ
ターの開閉に特別な動力源を用いることなく、適正なタ
イミングを得ることができ、装置の構造の簡素化、及
び、エネルギーの節減に寄与することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明実施例の食器洗浄装置を示す要部側断面
図である。

【図２】本発明実施例の食器洗浄装置を示す要部平面図
である。

【図３】研磨材かご及びシャッターを示す斜視図であ
る。

【図４】研磨材室を示す平断面図である。

【図５】かご形ケースを示す斜視図である。

【図６】本発明実施例の食器洗浄器における洗浄過程を
示すタイミングチャートである。

【符号の説明】

１ 食器洗浄装置 ２ 洗浄槽 ４ 研磨材室 ６ モータ ８ 攪拌翼 １３ 排水口 １４ ストレーナ １７ かご形ケース ３０ オーバーフロー部 ３１ 給水部 ４１ 上側連通口 ４２ 下側連通口 ４４ 給水ノズル ４５ 排水口 ４６ 研磨材かご ５３ シャッター ５４ ガイドフレーム ５５ ガイドレール部材 ６２ リブ Ｐ１ 主給水管 Ｐ２ 副給水管 Ｐ３ 主排水管 Ｐ４ 副排水管 ＳＶ１，ＳＶ２，ＳＶ３，ＳＶ４ 電磁弁 Ｗ 研磨材 Ｌ１ 高水位 Ｌ２ 低水位

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 渦巻水流発生手段、及び、食器の支持手
   段を備えた洗浄槽と、該洗浄槽に上下２箇所の連通口で
   連通する研磨材室とを備え、上記洗浄槽には主給水管及
   び主排水管を、上記研磨材室には副給水管及び、副排水
   管を夫々配管し、上記研磨材室内には研磨材かごを挿脱
   可能に設けるとともに、下側連通口には、該下側連通口
   を開閉するシャッターを設けたことを特徴とする食器洗
   浄装置。
2. 【請求項２】 上記シャッターが、研磨材室内に昇降自
   在に支持されているフロートと一体であるか若しくは連
   動し、該フロートに作用する浮力により、上記研磨材室
   内の水位に応じて開閉するものである請求項１記載の食
   器洗浄装置。