JP2573328B2 - ポリアミド - Google Patents
ポリアミドInfo
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- JP2573328B2 JP2573328B2 JP63228006A JP22800688A JP2573328B2 JP 2573328 B2 JP2573328 B2 JP 2573328B2 JP 63228006 A JP63228006 A JP 63228006A JP 22800688 A JP22800688 A JP 22800688A JP 2573328 B2 JP2573328 B2 JP 2573328B2
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- JP
- Japan
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- carbon atoms
- polyamide
- group
- dimer
- mmol
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyamides (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規で光学活性なウンベリフェロン二量体
を構成成分とするポリアミドに関するものであり、さら
には、前記ウンベリフェロン二量体又はそのラセミ体と
ジアミンとから合成されるポリアミドに関する。
を構成成分とするポリアミドに関するものであり、さら
には、前記ウンベリフェロン二量体又はそのラセミ体と
ジアミンとから合成されるポリアミドに関する。
ウンベリフェロン二量体のラセミ体は知られているが
（J.Org.Chem.,38,957（1973））、そのキラル体は知ら
れていない。
（J.Org.Chem.,38,957（1973））、そのキラル体は知ら
れていない。
また、ウンベリフェロン二量体を用いたポリアミドは
知られていない。
知られていない。
本発明者は、新規な成形材料、特に光学分割剤などに
有用な機能材料を提供するものである。
有用な機能材料を提供するものである。
即ち本発明は、下式（Ｉ）又は（II）で示される光学
活性なウンベリフェロン二量体を構成成分とするポリア
ミドに関するものであり、 さらに詳しくは本発明は、下記一般式（III）及び／
又は（IV）の構成単位からなるポリアミドに関するもの
である。
活性なウンベリフェロン二量体を構成成分とするポリア
ミドに関するものであり、 さらに詳しくは本発明は、下記一般式（III）及び／
又は（IV）の構成単位からなるポリアミドに関するもの
である。
式中、Ｒは次のようなものである。
R1は水素、炭素数１〜10のアルキル基、炭素数６〜14
のアリール基、炭素数７〜15のアラルキル基を示す。
のアリール基、炭素数７〜15のアラルキル基を示す。
R2は炭素数２〜40の直鎖又は枝分かれを有するアルキ
レン基、炭素数６〜30の二価芳香族基、炭素数４〜30の
二価脂環族基を示す。
レン基、炭素数６〜30の二価芳香族基、炭素数４〜30の
二価脂環族基を示す。
ｎは２〜６の整数を示す。
本発明の光学活性なウンベリフェロン二量体の合成法
は実施例で例示する。
は実施例で例示する。
次に、キラルな又はラセミ体のウンベリフェロン二量
体とジアミンとから合成されるポリアミドについて詳述
する。
体とジアミンとから合成されるポリアミドについて詳述
する。
ここで用いるジアミンとは下式 Ｈ−Ｒ−Ｈ で示されるものである。
具体的には、下式で示されるジアミンが例示できる。
一般式（Ｖ）′で示されるジアミンとしては、脂肪族
系ジアミン、脂環族系ジアミン、芳香族系ジアミンが例
示できる。
系ジアミン、脂環族系ジアミン、芳香族系ジアミンが例
示できる。
ここで、R1は水素、炭素数１〜10のアルキル基、炭素
数６〜14のアリール基、炭素数７〜15のアラルキル基を
示す。炭素数１〜10のアルキル基としては、メチル基や
エチル基が例示できるが、枝分かれを有しても良い。炭
素数６〜14のアリール基としては、フェニル基 が例示できる。また、炭素数７〜15のアラルキル基とし
ては などが例示できる。好ましいR1としては、水素、メチル
基などである。
数６〜14のアリール基、炭素数７〜15のアラルキル基を
示す。炭素数１〜10のアルキル基としては、メチル基や
エチル基が例示できるが、枝分かれを有しても良い。炭
素数６〜14のアリール基としては、フェニル基 が例示できる。また、炭素数７〜15のアラルキル基とし
ては などが例示できる。好ましいR1としては、水素、メチル
基などである。
R2は炭素数２〜40の直鎖又は枝分かれを有するアルキ
レン基、炭素数６〜30の二価芳香族基、炭素数４〜30の
二価脂環族基を示す。炭素数２〜40の直鎖又は枝分かれ
を有するアルキレン基の場合、好ましい炭素数は２〜12
である。具体的には、ヘキサメチレンジアミド、ドデカ
ンジアミンが例示できる。また、炭素数６〜30の二価芳
香族基の場合、好ましい炭素数は６〜12である。具体的
な二価芳香族基としては、次のものが例示できる。
レン基、炭素数６〜30の二価芳香族基、炭素数４〜30の
二価脂環族基を示す。炭素数２〜40の直鎖又は枝分かれ
を有するアルキレン基の場合、好ましい炭素数は２〜12
である。具体的には、ヘキサメチレンジアミド、ドデカ
ンジアミンが例示できる。また、炭素数６〜30の二価芳
香族基の場合、好ましい炭素数は６〜12である。具体的
な二価芳香族基としては、次のものが例示できる。
また、炭素数４〜30の二価脂環族基の場合、好ましい
炭素数は４〜10である。具体的な二価脂環族基として
は、次のものが例示できる。
炭素数は４〜10である。具体的な二価脂環族基として
は、次のものが例示できる。
一般式（VI）′で示されるジアミンは、ｎが２〜６の
ものであり、具体的には次のものが例示できる。
ものであり、具体的には次のものが例示できる。
本発明のポリアミドの重合度は、0.30g/dl、DMAc又は
DMF 30℃で測定したインヘレント粘度ηinh（dl/g）が
0.1以上最大1.5のものである。
DMF 30℃で測定したインヘレント粘度ηinh（dl/g）が
0.1以上最大1.5のものである。
本発明のポリアミドのフェノール性OHに二量体当り１
〜４個の置換基を導入しても良い。導入方法は、モノマ
ーの段階でも、又はポリマーにしてから導入しても良
い。具体的には、脂肪族基や芳香族基をカルバメートな
どの結合を介して導入することができる。
〜４個の置換基を導入しても良い。導入方法は、モノマ
ーの段階でも、又はポリマーにしてから導入しても良
い。具体的には、脂肪族基や芳香族基をカルバメートな
どの結合を介して導入することができる。
本発明のポリアミドの合成法は実施例で例示した。
本発明のポリアミドは、成形材料や機能材料として有
用なものであり、特に光学活性なポリアミドはラセミ体
の光学分割剤とか強誘電性液晶などとして有用なもので
ある。
用なものであり、特に光学活性なポリアミドはラセミ体
の光学分割剤とか強誘電性液晶などとして有用なもので
ある。
製造例−１ 光学活性なウンベリフェロン二量体 合成スキームは次のようである。
・（±）−１ 2.86g（7.00mmol）に（−）−２ 2.99g
（14.00mmol）と溶媒の1,4−ジオキサン23mlを加え、塩
化カルシウム管をつけたフラスコ中、室温で18.5時間か
きまぜを続ける。析出した沈殿を濾過して集め、50℃で
真空乾燥を12時間行ったところ、Less polarのみが2.09
g（2.51mmol,72％）得られた。また、濾液は溶媒を留去
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコー
ゲルＣ−300;溶出液：ベンゼン／酢酸エチルacetate＝2
/1（v/v）でLess polarを流出し終わったのちベンゼン
／酢酸エチル＝1/1（v/v）に変更）によって分離した。
先に得た沈殿とあわせて収率はLess polar 92％,More p
olar 96％であった。
（14.00mmol）と溶媒の1,4−ジオキサン23mlを加え、塩
化カルシウム管をつけたフラスコ中、室温で18.5時間か
きまぜを続ける。析出した沈殿を濾過して集め、50℃で
真空乾燥を12時間行ったところ、Less polarのみが2.09
g（2.51mmol,72％）得られた。また、濾液は溶媒を留去
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコー
ゲルＣ−300;溶出液：ベンゼン／酢酸エチルacetate＝2
/1（v/v）でLess polarを流出し終わったのちベンゼン
／酢酸エチル＝1/1（v/v）に変更）によって分離した。
先に得た沈殿とあわせて収率はLess polar 92％,More p
olar 96％であった。
・4M HCl水溶液250ml及び２−プロパノール250mlの混合
物にN2ガスを１時間吹き込み、溶媒中の酸素を追い出
す。これにLess polar 6.68g（8.00mmol）を加え、N2吹
き込みを続けながら、反応容器内に外気が入らないよう
にして24時間還流する。
物にN2ガスを１時間吹き込み、溶媒中の酸素を追い出
す。これにLess polar 6.68g（8.00mmol）を加え、N2吹
き込みを続けながら、反応容器内に外気が入らないよう
にして24時間還流する。
冷却後、溶媒を留去し乾固させる。これに水200ml、
エタノール100mlを加えると懸濁液となる。
エタノール100mlを加えると懸濁液となる。
これに陽イオン交換樹脂（DOWEX 50WX−Z,H型，約350
ml使用）を加え数分間かきまぜる。樹脂を濾過した後、
さらに樹脂を水50ml/エタノール100mlの混合物でよく洗
う。洗液と濾液を一緒にした後、溶媒を留去する。これ
に水約500mlを加えて酢酸エチルで抽出を行う。酢酸エ
チル層は無水硫酸ナトリウムで一晩乾燥させた後、減圧
下濃縮乾固する。これにN2を１時間吹き込んだ氷酢酸80
mlを加え、N2吹き込みを続けながら30時間還流する。放
冷後、酢酸を減圧下留去し乾固させる。これに酢酸エチ
ル50mlを加え溶解させた後、酢酸を除くためにヘキサン
500ml中に滴下し再沈させる。これを濾過によって集
め、真空乾燥して、粗（＋）−３が2.38g（7.32mmol）
得られた。
ml使用）を加え数分間かきまぜる。樹脂を濾過した後、
さらに樹脂を水50ml/エタノール100mlの混合物でよく洗
う。洗液と濾液を一緒にした後、溶媒を留去する。これ
に水約500mlを加えて酢酸エチルで抽出を行う。酢酸エ
チル層は無水硫酸ナトリウムで一晩乾燥させた後、減圧
下濃縮乾固する。これにN2を１時間吹き込んだ氷酢酸80
mlを加え、N2吹き込みを続けながら30時間還流する。放
冷後、酢酸を減圧下留去し乾固させる。これに酢酸エチ
ル50mlを加え溶解させた後、酢酸を除くためにヘキサン
500ml中に滴下し再沈させる。これを濾過によって集
め、真空乾燥して、粗（＋）−３が2.38g（7.32mmol）
得られた。
上記のようにして得た粗（＋）−３ 500mgを２−プロ
パノール45mlに室温で溶解し、微量の不溶分を濾過した
後、ドライアイス／エタノール中で冷却し、沈殿を析出
させた。これを濾過によって集めた後、室温で真空乾燥
して201mgの（＋）−３・1/2H2Oを得た。濾液は減圧下
濃縮乾固した後、再び２−プロパノール8mlに溶解し、
同様の再結晶操作を行ったところ、84mgの二次晶を得
た。合計285mg。
パノール45mlに室温で溶解し、微量の不溶分を濾過した
後、ドライアイス／エタノール中で冷却し、沈殿を析出
させた。これを濾過によって集めた後、室温で真空乾燥
して201mgの（＋）−３・1/2H2Oを得た。濾液は減圧下
濃縮乾固した後、再び２−プロパノール8mlに溶解し、
同様の再結晶操作を行ったところ、84mgの二次晶を得
た。合計285mg。
More polarからの（−）−３・1/2H2Oの合成も同様に
行った。結果を下表にまとめる。
行った。結果を下表にまとめる。
その他の物性値 （＋）−３・1/2H2O; IR（KBr）3000−3650,1758,1626,1598,1508,1456,1302,
1280,1156,1116,842,830,810,794cm-1 1 H−NMR（DMSO−d6） ラセミ体と同じ 計算値（C18H12O6・1/2H2O）； C 64.87％;H 3.93％ 測定値:C 64.73％:H 3.78％ 例−１ ラセミ二量体からのポリアミドウンベリフェロ
ン二量体の合成 まず文献（J.Org.Chem.,38,957（1973））に従って０
−アセチルウンベリフェロン二量体（４）を合成した。
再結晶溶媒は文献記載のもの（CHCl3/CCl4）では収率が
悪く、また大量合成にもむかないので酢酸を用いること
とした。再結晶収率は二次晶までとって90％であった。
1280,1156,1116,842,830,810,794cm-1 1 H−NMR（DMSO−d6） ラセミ体と同じ 計算値（C18H12O6・1/2H2O）； C 64.87％;H 3.93％ 測定値:C 64.73％:H 3.78％ 例−１ ラセミ二量体からのポリアミドウンベリフェロ
ン二量体の合成 まず文献（J.Org.Chem.,38,957（1973））に従って０
−アセチルウンベリフェロン二量体（４）を合成した。
再結晶溶媒は文献記載のもの（CHCl3/CCl4）では収率が
悪く、また大量合成にもむかないので酢酸を用いること
とした。再結晶収率は二次晶までとって90％であった。
次に4M HCl水溶液450mlとエタノール450mlとの混合物
に窒素ガスを２時間吹き込み、液体中の酸素を追い出し
た後、４ 24.50g（60.0mmol）を加えた。窒素の吹き込
みを続けながら約４時間還流し、冷却後溶媒を留去し
た。これに水250mlを加えた後、酢酸エチル（約900ml）
で抽出を行った。抽出液は飽和食塩水とともに振とうし
て洗浄した後分液し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
乾燥後、酢酸エチルを留去し、得られた固体に酢酸100m
lを加え、アルゴン雰囲気下加熱して溶解し、そのまま1
1時間還流した。酢酸中に析出してきた固体を濾過した
後、減圧下60℃で約24時間乾燥し、ウンベリフェロン二
量体（５）17.59g（54.2mmol）を得た（収率90％）。
に窒素ガスを２時間吹き込み、液体中の酸素を追い出し
た後、４ 24.50g（60.0mmol）を加えた。窒素の吹き込
みを続けながら約４時間還流し、冷却後溶媒を留去し
た。これに水250mlを加えた後、酢酸エチル（約900ml）
で抽出を行った。抽出液は飽和食塩水とともに振とうし
て洗浄した後分液し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
乾燥後、酢酸エチルを留去し、得られた固体に酢酸100m
lを加え、アルゴン雰囲気下加熱して溶解し、そのまま1
1時間還流した。酢酸中に析出してきた固体を濾過した
後、減圧下60℃で約24時間乾燥し、ウンベリフェロン二
量体（５）17.59g（54.2mmol）を得た（収率90％）。
ポリアミドの合成 上記の方法で合成した５は微量の酢酸を含み、再結晶
その他の方法でこれを除くことは困難であった。５とジ
アミンとの開環重付加反応において、系中に酢酸が存在
することは好ましくない。しかし５に含まれる酢酸の量
を400MHz 1H−NMRによって決定し、酢酸と等モルのトリ
エチルアミンを重合系に加えることによって好結果を得
た。
その他の方法でこれを除くことは困難であった。５とジ
アミンとの開環重付加反応において、系中に酢酸が存在
することは好ましくない。しかし５に含まれる酢酸の量
を400MHz 1H−NMRによって決定し、酢酸と等モルのトリ
エチルアミンを重合系に加えることによって好結果を得
た。
ポリアミド6cの合成 ｐ−フェニレンジアミン0.324g（3.00mmol）と５（1.
00molに対して0.0715molの酢酸を含む）0.986g（3.00mm
ol）を反応容器に入れ、容器内をアルゴン雰囲気にし
た。これにN,N−ジメチルアセトアミド（DMAc）を3ml
（５ 1mmolに対して1ml）を加え、さらにトリエチルア
ミン29.9μ（0.215mmol）を加えた後、アルゴン雰囲
気下50℃で36時間かきまぜを続けた。反応後、反応液を
適量のDMAcで希釈して、約500mlの酢酸エチル中に滴下
した。沈殿を濾過し、減圧下室温で18時間乾燥させた。
得られたポリアミド6cはかなりの量のDMAc及び酢酸エチ
ルを含むので、400MHz 1H−NMRの測定により、その量を
補正した（収率92％）。
00molに対して0.0715molの酢酸を含む）0.986g（3.00mm
ol）を反応容器に入れ、容器内をアルゴン雰囲気にし
た。これにN,N−ジメチルアセトアミド（DMAc）を3ml
（５ 1mmolに対して1ml）を加え、さらにトリエチルア
ミン29.9μ（0.215mmol）を加えた後、アルゴン雰囲
気下50℃で36時間かきまぜを続けた。反応後、反応液を
適量のDMAcで希釈して、約500mlの酢酸エチル中に滴下
した。沈殿を濾過し、減圧下室温で18時間乾燥させた。
得られたポリアミド6cはかなりの量のDMAc及び酢酸エチ
ルを含むので、400MHz 1H−NMRの測定により、その量を
補正した（収率92％）。
ポリアミド6dの合成 6cと全く同様の方法で合成できた。
ポリアミド6bの合成 6bは溶解性が悪いため、５ 1mmolに対して2mlのDMAc
を使用したが、それでも反応液は不均一状態であった。
その他の操作は6cの場合と同様である。
を使用したが、それでも反応液は不均一状態であった。
その他の操作は6cの場合と同様である。
ポリアミド6aの合成 高粘度のポリアミド6aを得るためには５ 1mmolに対し
て2mlのDMAcを使用し、室温で反応させることが必要で
あった。その他の操作は6cの場合と同様である。
て2mlのDMAcを使用し、室温で反応させることが必要で
あった。その他の操作は6cの場合と同様である。
得られたポリアミド6a，6b，6c，6dの性状を表−２に
示した。
示した。
物 性 値 （±）−５； IR（KBr）3000−3560,1745,1635,1604,1516,1458,1302,
1282,1160,1120,876,834,820,798cm-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝3.63（2H,pseudo d,J＝7.9Hz） 3.83（2H,dd,J＝7.6Hz,2.1Hz） 6.46（2H,d,J＝2.1Hz） 6.63（2H,dd,J＝8.2Hz,2.1Hz） 7.14（2H,d,J＝8.2Hz） 9.83（2H,s） 計算値（C18H12O6＋0.07CH3COOH）； C 66.33％;H 3.77％ 測定値;C 66.18％;H 3.91％ 分解温度;290℃6a ； IR（KBr）3000−3650,2930,1620,1520,1460,974,840cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝0.83（4H）,0.93（4H）,2.66（2H）,2.87（2H）,3.
42（2H）,4.44（2H）,6.03（2H）,6.20（2H）,6.74（2
H）,7.08（2H）,8.90（2H）,9.18（2H） 計算値（C24H28N2O6＋DMAc＋1.5H2O）n; C 60.64％;H 7.27％;N 7.58％ 測定値;C 60.69％;H 6.83％;N 7.45％6b ； IR（KBr）3000−3650,1610,1520,1460,1436,974,840cm
-1 1 H−NMR（DMF−d7） δ＝1.80（2H）,2.57（2H）,3.21（2H）,3.73（2H）,3.
97（2H）,4.75（2H）,6.25（2H）,6.44（2H）,7.02（2
H）,9.24（2H）,9.71（2H） 計算値（C22H22N2O6＋DMAc＋1.5H2O）n; C 59.53％;H 6.53％;N 8.01％ 測定値;C 59.22％;H 6.26％;N 7.47％6c ； IR（KBr）3000−3650,1620,1512,1456,1402,972,840cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝3.72（2H）,4.58（2H）,6.03（2H）,6.19（2H）,6.
82（2H）,7.16（4H）,8.87（2H）,9.28（4H） 計算値（C24H20N2O6＋DMAc＋1.5H2O）n; C 61.53％;H 5.90％;N 7.69％ 測定値;C 61.37％;H 5.78％;N 7.85％6d ； IR（KBr）3000−3560,1620,1520,1456,1396,970,840cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝3.55（2H）,3.83（2H）,4.19（2H）,4.60（2H）,6.
08（2H）,6.25（2H）,6.42（2H）,6.54（0.5H）,6.62
（0.5H）,6.81（2H）,6.91（2H）,7.69（2H）,8.96（2
H）,9.20（2H） 計算値（C26H24N2O6＋2DMAc＋1.5H2O）n; C 61.71％;H 6.85％;N 8.47％ 測定値;C 61.89％;H 6.40％;N 8.13％ 実施例−２ 光学活性ポリアミドの合成 製造例−１で得た（−）−３・1/2H2O150mgをナスフ
ラスコに入れ、真空ポンプで減圧にする。ポンプとフラ
スコの間には五酸化りんのトラップをつける。フラスコ
を150℃に加熱し、減圧下24時間乾燥し、結晶水を抜い
て（−）−３を得る。このときフラスコの器壁には昇華
した分解物（ウンベリフェロンのモノマー）が少量つい
ているので、（−）−３に混入しないように注意する。
サンプル管（容積5ml）に攪拌子を入れ、これにｍ−キ
シリレンジアミン46.6mg（0.342mmol）を加える。さら
にDMAc 0.34mlと（−）−３ 110.9mg（0.342mmol）を加
えたのち、サンプル管内をアルゴンガスで下方置換す
る。サンプル管にフタをして密封したあと、アルミホイ
ルで遮光し、油浴中50℃で攪拌しながら36時間反応させ
る。
1282,1160,1120,876,834,820,798cm-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝3.63（2H,pseudo d,J＝7.9Hz） 3.83（2H,dd,J＝7.6Hz,2.1Hz） 6.46（2H,d,J＝2.1Hz） 6.63（2H,dd,J＝8.2Hz,2.1Hz） 7.14（2H,d,J＝8.2Hz） 9.83（2H,s） 計算値（C18H12O6＋0.07CH3COOH）； C 66.33％;H 3.77％ 測定値;C 66.18％;H 3.91％ 分解温度;290℃6a ； IR（KBr）3000−3650,2930,1620,1520,1460,974,840cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝0.83（4H）,0.93（4H）,2.66（2H）,2.87（2H）,3.
42（2H）,4.44（2H）,6.03（2H）,6.20（2H）,6.74（2
H）,7.08（2H）,8.90（2H）,9.18（2H） 計算値（C24H28N2O6＋DMAc＋1.5H2O）n; C 60.64％;H 7.27％;N 7.58％ 測定値;C 60.69％;H 6.83％;N 7.45％6b ； IR（KBr）3000−3650,1610,1520,1460,1436,974,840cm
-1 1 H−NMR（DMF−d7） δ＝1.80（2H）,2.57（2H）,3.21（2H）,3.73（2H）,3.
97（2H）,4.75（2H）,6.25（2H）,6.44（2H）,7.02（2
H）,9.24（2H）,9.71（2H） 計算値（C22H22N2O6＋DMAc＋1.5H2O）n; C 59.53％;H 6.53％;N 8.01％ 測定値;C 59.22％;H 6.26％;N 7.47％6c ； IR（KBr）3000−3650,1620,1512,1456,1402,972,840cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝3.72（2H）,4.58（2H）,6.03（2H）,6.19（2H）,6.
82（2H）,7.16（4H）,8.87（2H）,9.28（4H） 計算値（C24H20N2O6＋DMAc＋1.5H2O）n; C 61.53％;H 5.90％;N 7.69％ 測定値;C 61.37％;H 5.78％;N 7.85％6d ； IR（KBr）3000−3560,1620,1520,1456,1396,970,840cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝3.55（2H）,3.83（2H）,4.19（2H）,4.60（2H）,6.
08（2H）,6.25（2H）,6.42（2H）,6.54（0.5H）,6.62
（0.5H）,6.81（2H）,6.91（2H）,7.69（2H）,8.96（2
H）,9.20（2H） 計算値（C26H24N2O6＋2DMAc＋1.5H2O）n; C 61.71％;H 6.85％;N 8.47％ 測定値;C 61.89％;H 6.40％;N 8.13％ 実施例−２ 光学活性ポリアミドの合成 製造例−１で得た（−）−３・1/2H2O150mgをナスフ
ラスコに入れ、真空ポンプで減圧にする。ポンプとフラ
スコの間には五酸化りんのトラップをつける。フラスコ
を150℃に加熱し、減圧下24時間乾燥し、結晶水を抜い
て（−）−３を得る。このときフラスコの器壁には昇華
した分解物（ウンベリフェロンのモノマー）が少量つい
ているので、（−）−３に混入しないように注意する。
サンプル管（容積5ml）に攪拌子を入れ、これにｍ−キ
シリレンジアミン46.6mg（0.342mmol）を加える。さら
にDMAc 0.34mlと（−）−３ 110.9mg（0.342mmol）を加
えたのち、サンプル管内をアルゴンガスで下方置換す
る。サンプル管にフタをして密封したあと、アルミホイ
ルで遮光し、油浴中50℃で攪拌しながら36時間反応させ
る。
室温まで冷却後DMAc 2mlを加えて希釈した後、クロロ
ホルム300ml中に滴下して再沈する。沈殿を濾過して室
温で終夜真空乾燥すると、収率72％で7bが得られる。
ホルム300ml中に滴下して再沈する。沈殿を濾過して室
温で終夜真空乾燥すると、収率72％で7bが得られる。
得られたポリアミド7bの性状及びその他のポリアミド
の反応条件、性状を表−３に示す。
の反応条件、性状を表−３に示す。
物 性 値7a ； IR（KBr）3000−3650,2930,1620,1520,1460,974,840cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝0.83（4H）,0.93（4H）,2.66（2H）,2.85（2H）,3.
42（2H）,4.44（2H）,6.03（2H）,6.20（2H）,6.74（2
H）,7.08（2H）,8.90（2H）,9.18（2H）7b ； IR（KBr）3000−3560,1620,1520,1456,970,840cm-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝3.55（2H）,3.84（2H）,4.17（2H）,4.58（2H）,6.
07（2H）,6.24（2H）,6.41（2H）,6.61（1H）,6.81（2
H）,6.91（1H）,7.69（2H）,8.96（2H）,9.20（2H）7c ； IR（KBr）3000−3560,1610,1520,1460,1436,974,840cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝1.80（2H）,3.72（2H）,3.88（2H）,4.45（2H）,6.
10（2H）,6.23（2H）,6.80（2H）,9.06（2H）,9.59（2
H）4H分のピークは溶媒と重なって同定できず7d ； IR（KBr）3000−3650,1610,1512,1460,1404,972,836cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝3.71（2H）,4.56（2H）,6.03（2H）,6.19（2H）,6.
82（2H）,7.14（2H）,8.88（2H）,9.30（2H）
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝0.83（4H）,0.93（4H）,2.66（2H）,2.85（2H）,3.
42（2H）,4.44（2H）,6.03（2H）,6.20（2H）,6.74（2
H）,7.08（2H）,8.90（2H）,9.18（2H）7b ； IR（KBr）3000−3560,1620,1520,1456,970,840cm-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝3.55（2H）,3.84（2H）,4.17（2H）,4.58（2H）,6.
07（2H）,6.24（2H）,6.41（2H）,6.61（1H）,6.81（2
H）,6.91（1H）,7.69（2H）,8.96（2H）,9.20（2H）7c ； IR（KBr）3000−3560,1610,1520,1460,1436,974,840cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝1.80（2H）,3.72（2H）,3.88（2H）,4.45（2H）,6.
10（2H）,6.23（2H）,6.80（2H）,9.06（2H）,9.59（2
H）4H分のピークは溶媒と重なって同定できず7d ； IR（KBr）3000−3650,1610,1512,1460,1404,972,836cm
-1 1 H−NMR（DMSO−d6） δ＝3.71（2H）,4.56（2H）,6.03（2H）,6.19（2H）,6.
82（2H）,7.14（2H）,8.88（2H）,9.30（2H）
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式（III）及び／又は（IV）の構
成単位からなるポリアミド。 式中、Ｒは次のようなものである。 R1は水素、炭素数１〜10のアルキル基、炭素数６〜14の
アリール基、炭素数７〜15のアラルキル基を示す。 R2は炭素数２〜40の直鎖又は枝分かれを有するアルキレ
ン基、炭素数６〜30の二価芳香族基、炭素数４〜30の二
価脂環族基を示す。 ｎは２〜６の整数を示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63228006A JP2573328B2 (ja) | 1988-09-12 | 1988-09-12 | ポリアミド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63228006A JP2573328B2 (ja) | 1988-09-12 | 1988-09-12 | ポリアミド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0275630A JPH0275630A (ja) | 1990-03-15 |
| JP2573328B2 true JP2573328B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=16869702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63228006A Expired - Fee Related JP2573328B2 (ja) | 1988-09-12 | 1988-09-12 | ポリアミド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2573328B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103131428A (zh) * | 2011-11-25 | 2013-06-05 | Jsr株式会社 | 液晶配向剂、液晶配向膜、液晶配向膜的形成方法、液晶显示元件及化合物 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007187745A (ja) * | 2006-01-11 | 2007-07-26 | Sony Corp | 画像表示装置 |
-
1988
- 1988-09-12 JP JP63228006A patent/JP2573328B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３８［５］（１９７３）ｐ．９５７−６６ |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103131428A (zh) * | 2011-11-25 | 2013-06-05 | Jsr株式会社 | 液晶配向剂、液晶配向膜、液晶配向膜的形成方法、液晶显示元件及化合物 |
| CN103131428B (zh) * | 2011-11-25 | 2015-08-05 | Jsr株式会社 | 液晶配向剂、液晶配向膜及其形成方法、液晶显示元件及用于液晶配向剂的化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0275630A (ja) | 1990-03-15 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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