JP2572410B2 - 石英ガラス検査方法 - Google Patents
石英ガラス検査方法Info
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- JP2572410B2 JP2572410B2 JP63019898A JP1989888A JP2572410B2 JP 2572410 B2 JP2572410 B2 JP 2572410B2 JP 63019898 A JP63019898 A JP 63019898A JP 1989888 A JP1989888 A JP 1989888A JP 2572410 B2 JP2572410 B2 JP 2572410B2
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- Japan
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- quartz glass
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- light
- inspection method
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
- G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
- G01N21/6456—Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
- G01N2021/646—Detecting fluorescent inhomogeneities at a position, e.g. for detecting defects
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はフォトマスク等に使用される石英ガラスの検
査方法に関するものである。
査方法に関するものである。
一般に、フォトマスク用基板においては各種のガラス
が使用されているが、遠紫外線露光法の登場と共に、30
0nm以下の短波長域においても透過率が一定な石英ガラ
スが使用されるようになってきている。この石英ガラス
は、気泡や脈理が問題になることが少なく、熱膨張係数
も低膨張ガラスよりも小さい等、あらゆる点で他のガラ
スより優れている。
が使用されているが、遠紫外線露光法の登場と共に、30
0nm以下の短波長域においても透過率が一定な石英ガラ
スが使用されるようになってきている。この石英ガラス
は、気泡や脈理が問題になることが少なく、熱膨張係数
も低膨張ガラスよりも小さい等、あらゆる点で他のガラ
スより優れている。
ところで、このような石英ガラス基板の検査は従来、
投光器で光を照射し、目視により傷やゴミの付着がある
かないかをチェックしたり、或いは分光光度計により分
光スペクトルを検出することにより行っている。
投光器で光を照射し、目視により傷やゴミの付着がある
かないかをチェックしたり、或いは分光光度計により分
光スペクトルを検出することにより行っている。
ところで、フォトマスクのパターニングの一つの方法
としてドライエッチングが行われている。クロム膜のド
ライエッチングにおいては、例えば、CCl4＋O2ガス等を
プラズマ状態にし、そのラジカル、イオン等を利用して
クロム膜を除去している。然し、石英基板の中には、エ
ッチング後のガラス部、つまりクロム膜を除去した箇所
が赤く着色する現象を示すものが発見された。このよう
な着色が生じる状態においては光の透過率が変化し、正
常な石英ガラスを用いたフォトマスクと比較し、満足す
べきパターニングを行えない。しかも、このような欠陥
を生ずる石英ガラスは従来の目視検査や分光光度計では
検出することができないという問題がある。
としてドライエッチングが行われている。クロム膜のド
ライエッチングにおいては、例えば、CCl4＋O2ガス等を
プラズマ状態にし、そのラジカル、イオン等を利用して
クロム膜を除去している。然し、石英基板の中には、エ
ッチング後のガラス部、つまりクロム膜を除去した箇所
が赤く着色する現象を示すものが発見された。このよう
な着色が生じる状態においては光の透過率が変化し、正
常な石英ガラスを用いたフォトマスクと比較し、満足す
べきパターニングを行えない。しかも、このような欠陥
を生ずる石英ガラスは従来の目視検査や分光光度計では
検出することができないという問題がある。
本発明は上記問題点を解決するためのもので、短時間
に精度よく石英ガラスの欠陥の有無を検出することがで
きる石英ガラス検査方法を提供することを目的とする。
に精度よく石英ガラスの欠陥の有無を検出することがで
きる石英ガラス検査方法を提供することを目的とする。
そのために本発明の石英ガラス検査方法は、プラズマ
処理後石英ガラスに所定波長域を含む光を照射し、石英
ガラスから所定波長の螢光、または所定波長域における
透過率の低下が検出されるか否かにより石英ガラスの欠
陥の有無を検査することを特徴とする。
処理後石英ガラスに所定波長域を含む光を照射し、石英
ガラスから所定波長の螢光、または所定波長域における
透過率の低下が検出されるか否かにより石英ガラスの欠
陥の有無を検査することを特徴とする。
本発明の石英ガラス検査方法は、プラズマ処理後、25
0nm付近、または630nm付近の波長域を含む光を照射する
と、欠陥のある石英ガラスはこの波長域の光を吸収して
650nm付近の波長の螢光を生じ、また300nm以下、620〜6
80nm波長域で透過率の低下が生じ、これを検出すること
により石英ガラスの欠陥の有無を検出することができ
る。
0nm付近、または630nm付近の波長域を含む光を照射する
と、欠陥のある石英ガラスはこの波長域の光を吸収して
650nm付近の波長の螢光を生じ、また300nm以下、620〜6
80nm波長域で透過率の低下が生じ、これを検出すること
により石英ガラスの欠陥の有無を検出することができ
る。
以下、実施例を図面に基づき説明する。
前述したように、本出願人は石英ガラス基板をドライ
エッチングしてクロム膜のパターニングを行ったところ
クロム膜のない所が赤く着色している現象を発見した。
このような着色を生じた石英ガラス基板の透過率を測定
したところ第１図に示すような結果が得られた。第１図
において、Ａは変色を生じなかった箇所の透過率特性、
Ｂ、Ｃは変色を生じた箇所の透過率特性である。なお、
Ｂ、Ｃは変色の程度が異なっている場合である。
エッチングしてクロム膜のパターニングを行ったところ
クロム膜のない所が赤く着色している現象を発見した。
このような着色を生じた石英ガラス基板の透過率を測定
したところ第１図に示すような結果が得られた。第１図
において、Ａは変色を生じなかった箇所の透過率特性、
Ｂ、Ｃは変色を生じた箇所の透過率特性である。なお、
Ｂ、Ｃは変色の程度が異なっている場合である。
この原因を探すために、さらにプラズマ処理前と処理
後について、透過率91〜93％を拡大してみたところ第２
図に示すような特性が得られた。第２図においてＤはプ
ラズマ処理前、Ｅはプラズマ処理後のものである。ただ
し、第２図においてはオフセット分が入っているので、
これを差し引く必要があるが、この特性から分かるよう
に、300nm以下、620〜680nm付近で透過率が低下し、他
の波長域においてはそのような低下はないことが分か
る。そして、赤い着色については650nmの螢光が発せら
れていることが検出された。
後について、透過率91〜93％を拡大してみたところ第２
図に示すような特性が得られた。第２図においてＤはプ
ラズマ処理前、Ｅはプラズマ処理後のものである。ただ
し、第２図においてはオフセット分が入っているので、
これを差し引く必要があるが、この特性から分かるよう
に、300nm以下、620〜680nm付近で透過率が低下し、他
の波長域においてはそのような低下はないことが分か
る。そして、赤い着色については650nmの螢光が発せら
れていることが検出された。
第３図は変色の様子を示す図で、同図（イ）はプラズ
マ発光光による露光でクロム膜を除去した状態での着色
の様子を示し、同図（ロ）は、（イ）の状態のクロム膜
をCrのウエットエッチング処理により全て除去した状態
における着色の様子を示し、同図（ハ）は着色が生じな
い正常なガラスの場合を示し、同図（ニ）は全面着色し
た場合を示している。
マ発光光による露光でクロム膜を除去した状態での着色
の様子を示し、同図（ロ）は、（イ）の状態のクロム膜
をCrのウエットエッチング処理により全て除去した状態
における着色の様子を示し、同図（ハ）は着色が生じな
い正常なガラスの場合を示し、同図（ニ）は全面着色し
た場合を示している。
プラズマ処理が原因で着色が生じ、透過率が低下する
ので、露光に使用したプラズマ発光光のスペクトルを測
定したところ、第３図のような結果が得られた。
ので、露光に使用したプラズマ発光光のスペクトルを測
定したところ、第３図のような結果が得られた。
第３図はドライエッチング処理時のプラズマ発光スペ
クトルでありCrの発光スペクトルも含まれている。クロ
ムのスペクトル光が消失した状態ではクロム膜がエッチ
ング除去され、石英ガラスに各種のプラズマ発光光が照
射される。
クトルでありCrの発光スペクトルも含まれている。クロ
ムのスペクトル光が消失した状態ではクロム膜がエッチ
ング除去され、石英ガラスに各種のプラズマ発光光が照
射される。
そこでこのスペクトルの中でどの帯域の波長光が影響
しているのかいろいろ調べたところ、250nm付近の短波
長光と630nm付近の発光スペクトルが影響していること
が分かった。この波長域の光を照射すると、ある種の石
英ガラスではこれを吸収し、その後この波長域成分を含
む光を照射すると、650nm付近の螢光、または300nm以
下、620〜680nm波長域の透過率の低下を生ずる。したが
って、この螢光光、または透過率の低下があるか否かを
検出することにより石英ガラスの良、不良をチェックす
ることが可能となる。
しているのかいろいろ調べたところ、250nm付近の短波
長光と630nm付近の発光スペクトルが影響していること
が分かった。この波長域の光を照射すると、ある種の石
英ガラスではこれを吸収し、その後この波長域成分を含
む光を照射すると、650nm付近の螢光、または300nm以
下、620〜680nm波長域の透過率の低下を生ずる。したが
って、この螢光光、または透過率の低下があるか否かを
検出することにより石英ガラスの良、不良をチェックす
ることが可能となる。
なお検査用に照射すべき光は、プラズマ処理後、250n
m付近の短波長光、630nm付近の単色光を照射する等適宜
選択すればよい。
m付近の短波長光、630nm付近の単色光を照射する等適宜
選択すればよい。
また上記実施例ではフォトマスク用石英ガラス基板に
ついての検査を例にして説明したが、フォトマスク用石
英ガラス基板に限らず、光ファイバ等、石英ガラスを使
用するもの全てに適用することができることは言うまで
もない。
ついての検査を例にして説明したが、フォトマスク用石
英ガラス基板に限らず、光ファイバ等、石英ガラスを使
用するもの全てに適用することができることは言うまで
もない。
以上のように本発明によれば、プラズマ処理後、250n
m付近、630nm付近の波長域を含む光を照射し、そのとき
生ずる螢光、または透過率の低下を検出することにより
容易に石英ガラスの検査を行うことが可能となる。
m付近、630nm付近の波長域を含む光を照射し、そのとき
生ずる螢光、または透過率の低下を検出することにより
容易に石英ガラスの検査を行うことが可能となる。
第１図は石英ガラスの透過率を示す図、第２図はプラズ
マ処理前後の石英ガラスの透過率特性を示す図、第３図
は石英ガラス基板の着色状態を示す図、第４図はプラズ
マ発光スペクトルを示す図である。
マ処理前後の石英ガラスの透過率特性を示す図、第３図
は石英ガラス基板の着色状態を示す図、第４図はプラズ
マ発光スペクトルを示す図である。
Claims (1)
- 【請求項１】石英ガラスにプラズマ発光光を照射した
後、所定波長域を含む光を照射し、石英ガラスから所定
波長の螢光、または所定波長域における透過率の低下が
検出されるか否かにより石英ガラスの欠陥の有無を検査
することを特徴とする石英ガラス検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63019898A JP2572410B2 (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 | 石英ガラス検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63019898A JP2572410B2 (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 | 石英ガラス検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01196547A JPH01196547A (ja) | 1989-08-08 |
| JP2572410B2 true JP2572410B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=12012017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63019898A Expired - Lifetime JP2572410B2 (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 | 石英ガラス検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2572410B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01167258A (ja) * | 1987-12-23 | 1989-06-30 | Shinetsu Sekiei Kk | レーザ光学系素体 |
-
1988
- 1988-01-30 JP JP63019898A patent/JP2572410B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01196547A (ja) | 1989-08-08 |
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Legal Events
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